ATBECHDEDKESFRGBGRITLILUNLSEMCPTIESILTLVFIROMKCYALTRBGCZEEHUPLSK..HRIS..MTNORS..SM..................JBDM Ver 2.0.14 (4th of August) - 2999001/03206244CORRECTED EUROPEAN PATENT SPECIFICATIONB8B120220302W173deBibliographieenBibliographyfrBibliographieEP15849280.1201507302017032420190618jaenen201420751420141008JP2022030220220920170816201733202201262022042021091320220302202209H01M 4/38 20060101AFI20180316BHEP H01M 4/36 20060101ALI20180316BHEP H01M 4/48 20100101ALI20180316BHEP H01M 4/587 20100101ALI20180316BHEP H01M 4/04 20060101ALI20180316BHEP H01M 4/587 20130101 LI20160510BHEP H01M 4/0428 20130101 FI20180129BHEP H01M 4/362 20130101 LI20180129BHEP H01M 4/386 20130101 LI20180129BHEP H01M 4/483 20130101 LI20171005BHEP H01M 10/0525 20130101 LI20171005BHEP Y02E 60/10 20130101 LA20200826BGEP deNEGATIVELEKTRODENAKTIVMATERIAL FÜR SEKUNDÄRBATTERIE MIT WASSERFREIEM ELEKTROLYT, NEGATIVELEKTRODE FÜR SEKUNDÄRBATTERIE MIT WASSERFREIEM ELEKTROLYT, SEKUNDÄRBATTERIE MIT WASSERFREIEM ELEKTROLYT UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON NEGATIVELEKTRODENAKTIVMATERIAL FÜR SEKUNDÄRBATTERIE MIT WASSERFREIEM ELEKTROLYTenNEGATIVE ELECTRODE ACTIVE MATERIAL FOR NON-AQUEOUS ELECTROLYTE SECONDARY BATTERY, NEGATIVE ELECTRODE FOR NON-AQUEOUS ELECTROLYTE SECONDARY BATTERY, NON-AQUEOUS ELECTROLYTE SECONDARY BATTERY, AND METHOD FOR PRODUCING NEGATIVE ELECTRODE MATERIAL FOR NON-AQUEOUS ELECTROLYTE SECONDARY BATTERYfrMATÉRIAU ACTIF D'ÉLECTRODE NÉGATIVE POUR BATTERIE SECONDAIRE À ÉLECTROLYTE NON AQUEUX, ÉLECTRODE NÉGATIVE POUR BATTERIE SECONDAIRE À ÉLECTROLYTE NON AQUEUX, BATTERIE SECONDAIRE À ÉLECTROLYTE NON AQUEUX ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MATÉRIAU D'ÉLECTRODE NÉGATIVE POUR BATTERIE SECONDAIRE À ÉLECTROLYTE NON AQUEUXEP-A1- 3 062 371WO-A1-2014/065418JP-A- 2004 047 404JP-A- 2005 025 991JP-A- 2012 523 674JP-A- 2014 175 071US-A1- 2010 243 95120180405KAMO, Hiromichic/o Silicone Electronics Materials Research Center SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 1-10 Hitomi Matsuida-machiAnnaka-shi Gunma 379-0224JPTAKAHASHI, Kohtac/o Silicone Electronics Materials Research Center SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 1-10 Hitomi Matsuida-machiAnnaka-shi Gunma 379-0224JPHIROSE, Takakazuc/o Silicone Electronics Materials Research Center SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 1-10 Hitomi Matsuida-machiAnnaka-shi Gunma 379-0224JPWATANABE, Koichiroc/o Silicone Electronics Materials Research Center SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 1-10 Hitomi Matsuida-machiAnnaka-shi Gunma 379-0224JPFURUYA, Masahiroc/o Silicone Electronics Materials Research Center SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 1-10 Hitomi Matsuida-machiAnnaka-shi Gunma 379-0224JPYOSHIKAWA, Hirokic/o Silicone Electronics Materials Research Center SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 1-10 Hitomi Matsuida-machiAnnaka-shi Gunma 379-0224JPShin-Etsu Chemical Co., Ltd.101924230EPA-138 6224-1, Marunouchi 1-chome Chiyoda-kuTokyo 100-0005JPWibbelmann, Jobst101248176Wuesthoff & Wuesthoff Patentanwälte PartG mbB Schweigerstrasse 281541 MünchenDEALATBEBGCHCYCZDEDKEEESFIFRGBGRHRHUIEISITLILTLULVMCMKMTNLNOPLPTRORSSESISKSMTRJP201500383120150730jaWO201605615520160414201615