(19)
(11)
EP 3 224 573 A1
(12)
(43)
Veröffentlichungstag:
04.10.2017
Patentblatt 2017/40
(21)
Anmeldenummer:
15763904.8
(22)
Anmeldetag:
15.09.2015
(51)
Internationale Patentklassifikation (IPC):
G01B
11/25
(2006.01)
(86)
Internationale Anmeldenummer:
PCT/EP2015/071011
(87)
Internationale Veröffentlichungsnummer:
WO 2016/124261
(
11.08.2016
Gazette 2016/32)
(84)
Benannte Vertragsstaaten:
AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
Benannte Erstreckungsstaaten:
BA ME
Benannte Validierungsstaaten:
MA
(30)
Priorität:
06.02.2015
DE 102015202182
(71)
Anmelder:
Siemens Aktiengesellschaft
80333 München (DE)
(72)
Erfinder:
WISSMANN, Patrick
81677 München (DE)
FORSTER, Frank
81739 München (DE)
SCHICK, Anton
84149 Velden (DE)
(54)
VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR SEQUENTIELLEN, DIFFRAKTIVEN MUSTERPROJEKTION