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J
BDM Ver 0.1.63 (23 May 2017) - 1100000/0
3252187
EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG
A1
20171206
EP
16197807.7
20161108
de
de
de
16172007
20160530
EP
20171206
201749
20171206
201749
C25D 3/40 20060101AFI20170518BHEP
C25D 5/12 20060101ALI20170518BHEP
C25D 7/00 20060101ALI20170518BHEP
C25D 3/38 20060101ALN20170518BHEP
de
SCHLEIFRING MIT REDUZIERTEM KONTAKTRAUSCHEN
en
SLIPRING WITH REDUCED CONTACT NOISE
fr
BAGUE COLLECTRICE À BRUIT DE CONTACT REDUIT
4
Schleifring und Apparatebau GmbH
100215611
SR 2014/29EP-02
Am Hardtanger 10
82256 Fürstenfeldbruck
DE
Umicore Galvanotechnik GmbH
100761375
SR 2014/29EP-02
Klarenbergstrasse 53-79
73525 Schwäbisch Gmünd
DE
Holzapfel, Christian
Holzstraße 6
82256 Fürstenfeldbruck
DE
Heinbuch, Peter
Rißfeldstraße 8
82256 Fürstenfeldbruck
DE
Christmann, Sascha
Umicore Galvanotechnik GmbH Klarenbergstraße 53 -79
73525 Schwäbisch Gmünd
DE
Ritz, Michael
Umicore Galvanotechnik GmbH Klarenbergstraße 53 -79
73525 Schwäbisch Gmünd
DE
Lohr, Georg
100050755
Lohr, Jöstingmeier & Partner Patent- und Rechtsanwälte Junkersstraße 3
82178 Puchheim
DE
AL
AT
BE
BG
CH
CY
CZ
DE
DK
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FI
FR
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IS
IT
LI
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BA
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MA
MD
Verfahren zur Herstellung eines vergoldeten Schleifringkontaktes mit folgenden Verfahrensschritten: Bereitstellen eines elektrisch leitfähigen Substrats; galvanisches Auftragen einer Kupferschicht (12) auf das Substrat; galvanisches Auftragen einer Nickel- und / oder Nickel-Phosphorschicht (14) auf die Kupferschicht (12); und galvanisches Auftragen einer Goldschicht (16) auf die Nickel- und / oder Nickel-Phosphorschicht (14). Hierbei wird beim galvanischen Auftragen der Kupferschicht (12) auf das Substrat in dem verwendeten Galvanikbad mindestens ein Glanzbilder nicht verwendet wird, welcher in der Liste der Glanzbilder, welche aus 3-Carboxy-1-(phenylmethyl)Pyridinium Chlorid Natriumsalz, kationische Polymere mit Harnstoffgruppen, 1-(3-Sulfopropyl)-Pyridinium Betain, 1-(2-Hydroxy-3-sulfopropyl)-Pyridinium Betain, Propargyl (3-sulfopropyl) Ether Natriumsalz, Natrium-Saccharin, Natrium-Allylsulfonat, N,N-Dimethyl-N-(3-cocoamidopropyl)-N-(2-hydroxy-3-sulfopropyl) Ammonium Betain, Polyamine, 1H-Imidazol Polymer mit (Chloromethyl)Oxiran, 3-Carboxy-1-(phenylmethyl)Pyridinium Chlorid Natriumsalz, 1-Benzyl-3-Sodiumcarboxy-Pyridinium Chlorid, Arsentrioxid, Kalium-Antimon-Tartrat, Kaliumtellurat, Alkaliarsenit, Kaliumtellerit, Kaliumselenocyanat, Alkaliantimonyltartrat, Natriumselenit, Thalliumsulfat und Kohlenstoffdisulfid besteht, enthalten ist.

Technisches Gebiet
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines vergoldeten Schleifringkontaktes, einen Schleifkontakt sowie ein galvanisches Bad.

Stand der Technik
US 4,398,113 offenbart eine Schleifringanordnung, welche einen herkömmlichen Schleifringkontakt aufweist.
Im Stand der Technik ist es bekannt, Schleifringkontakte wie folgt herzustellen. Auf ein mechanisch bearbeitetes kupferhaltiges Substratmaterial wird nacheinander eine Kupferschicht (von 0,1 µm bis zu 4 µm Schichtstärke) als Aktivierungsschicht, bei Bedarf eine Nickel- und/oder Nickel-Phosphorschicht (jeweils von 1 µm bis zu 10 µm Schichtdicke) als Diffusionssperr-, Stütz- und Korrosionsschutzschicht und eine Hartgoldschicht (von 1 µm bis zu 15 µm) als Kontaktmaterial aufgetragen.

Darstellung der Erfindung
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das elektrische Verhalten, insbesondere das Rauschverhalten, des Schleifkontaktes zu verbessern.
Diese Aufgabe wird durch das Verfahren nach Anspruch 1, einen Schleifkontakt nach Anspruch 8 und ein galvanisches Bad zur Abscheidung von Kupfer nach Anspruch 10 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben.
Das Verfahren zur Herstellung eines vergoldeten Schleifringkontaktes weist folgende Verfahrensschritte auf: Bereitstellen eines elektrisch leitfähigen Substrats, galvanisches Auftragen einer Kupferschicht auf das Substrat, galvanisches Auftragen einer Nickel- und / oder Nickel-Phosphorschicht auf die Kupferschicht, und galvanisches Auftragen einer Goldschicht auf die Nickel- und / oder Nickel-Phosphorschicht. Hierbei wird beim galvanischen Auftragen der Kupferschicht auf das Substrat in dem verwendeten Galvanikbad mindestens ein Glanzbildner aus einer Liste von Glanzbildnern nicht verwendet. Diese Liste der Glanzbildner besteht aus 3-Carboxy-1-(phenylmethyl)Pyridinium Chlorid Natriumsalz, kationische Polymere mit Harnstoffgruppen, 1-(3-Sulfopropyl)-Pyridinium Betain, 1-(2-Hydroxy-3-sulfopropyl)-Pyridinium Betain, Propargyl (3-sulfopropyl) Ether Natriumsalz, Natrium-Saccharin, Natrium-Allylsulfonat, N,N-Dimethyl-N-(3-cocoamidopropyl)-N-(2-hydroxy-3-sulfopropyl) Ammonium Betain, Polyamine, 1H-Imidazol Polymer mit (Chloromethyl)Oxiran, 3-Carboxy-1-(phenylmethyl)Pyridinium Chlorid Natriumsalz, 1-Benzyl-3-Sodiumcarboxy-Pyridinium Chlorid, Arsentrioxid, Kalium-Antimon-Tartrat, Kaliumtellurat, Alkaliarsenit, Kaliumtellerit, Kaliumselenocyanat, Alkaliantimonyltartrat, Natriumselenit, Thalliumsulfat und Kohlenstoffdisulfid. Bevorzugt werden beim galvanischen Auftragen der Kupferschicht auf das Substrat in dem verwendeten Galvanikbad mindestens zwei Glanzbildner der oben genannten Liste nicht verwendet. Weiter bevorzugt wird beim galvanischen Auftragen der Kupferschicht auf das Substrat in dem verwendeten Galvanikbad überhaupt kein Glanzbildner verwendet.
Solche Schleifkontakte stellen eine elektrische Verbindung zwischen bewegten Teilen her. Hierbei kann ein solcher Schleifkontakt entweder als feststehendes Teil oder als bewegtes Teil verwendet werden. Ein solcher Schleifkontakt kann natürlich auch sowohl als feststehendes Teil als auch als bewegtes Teil eines Schleifmoduls verwendet werden. Z.B. kann ein solcher Schleifkontakt auch als Bürste oder als Schleifbahn verwendet werden.
Durch die Abwesenheit der genannten Glanzbildner wird erreicht, dass die auf das bevorzugt Messing aufweisende Substrat abgeschiedene Kupferschicht eine höhere Rauheit als beim Stand der Technik aufweist. Zur Charakterisierung der Schichtrauheit können Sa- oder Sq-Werte nach EN ISO 25178 herangezogen werden. Hierbei ist der Sq-Wert der Effektivwert oder das Quadratmittel der Profilhöhe der Oberfläche. Der Sa-Wert ist ein Mittelwert der Absolutwerte der der Profilhöhe der Oberfläche. Typische Sa- oder Sq-Werte liegen für Kupferbäder des Stands der Technik in der Größenordnung von 10 bis 50 nm. Bei der Anwendung der in der Erfindung beschriebenen Bäder wird die Schichtrauheit der abgeschiedenen Kupferschicht auf Sq- oder Sq-Werte von 200 nm bis 1 µm gesteigert. Bei der weiteren Ablagerung kann je nach verwendeter Zwischenschicht und Endschicht eine gewisse Einebnung erfolgen. Allerdings sind die Sa- und Sq-Werte der erfindungsgemäßen Endschicht im Vergleich zu herkömmlichen Endschichten um einen Faktor von typischerweise 5 bis 20 höher und somit rauer.
Die nachfolgenden Tabellenwerte wurden als Mittelwerte einer Probenserie (10 Wiederholversuche) bestimmt.
Typische Sa- und Sq-Werte für Standard-Kupferschichten und erfindungsgemäße Kupferschichten sowie Standard-Endschichten und erfindungsgemäße Endschichten (Beispiel Kupfer; Nickel- und / oder Nickel-Phosphor; Gold-Systeme):
Schicht | Sa (nm) | Steigerung Sa (x-Faktor) | Sq (nm) | Steigerung Sq (x-Faktor)
Kupfer (Technischer Standard) | 23 | | 28 |
Kupfer (Erfindung) | 320 | 14 | 432 | 16
Endschicht (Technischer Standard) | 23 | | 28 |
Endschicht (Erfindung) | 380 | 17 | 497 | 18
Diese erhöhte Rauheit der Kupferschicht führt nach dem nachfolgenden galvanischen Abscheiden einer Nickel- und / oder Nickel-Phosphorschicht auf der Kupferschicht und einer Goldschicht auf der Nickel- und / oder Nickel-Phosphorschicht zu einer erhöhten Rauheit der Goldschicht, welche für das elektrische Verhalten entscheidend ist. Die Rauheit der auf dem Substrat aufgetragenen Schicht, hier also der Kupferschicht, ist entscheidend für die Rauheit der obersten Schicht. Man kann auch sagen, dass sich die Rauheit der Kupferschicht bei mehreren galvanisch aufgetragenen Schichten bis in die letzte Galvanikschicht fortsetzt.
Eine so hergestellte Goldschicht weist im Gegensatz zu herkömmlichen Schleifkontakten verbesserte elektrische Eigenschaften, insbesondere ein reduziertes Kontaktrauschen, auf. Somit weist auch ein Schleifkontakt diese verbesserten elektrischen Eigenschaften, insbesondere ein reduziertes Kontaktrauschen, auf. Dies haben von der Anmelderin durchgeführte Federdrahttests gezeigt. Hierbei kann ein solcher Schichtaufbau mit einer rauen obersten Goldschicht entweder auf der Bürste bzw. auf den Bürstendrähten oder auf der Schleifbahn oder sowohl auf der Bürste bzw. auf den Bürstendrähten als auch auf der Schleifbahn verwendet werden. In einem typischen Testaufbau unterscheiden sich elektrische Rauschwerte, z.B. gemessen als das 90%-Perzentil des Spitze-Spitze-Rauschwerts über 5 Umdrehungen über die Lebensdauer, typischerweise mindestens um einen Faktor 2.
Bevorzugt wird beim galvanischen Auftragen der Kupferschicht auf das Substrat als Galvanikbad eine reine Kupfercyanidlösung verwendet. Alternativ kann Kupfersulfat (Kupfervitriol), Natriumkupfercyanid oder Kaliumkupfercyanid verwendet werden.
Bevorzugt wird die Kupferschicht auf das Substrat mit einer Schichtdicke von bis zu 4 µm aufgetragen. In einer besonders vorteilhaften Ausführungsform handelt es sich um eine Kupferschicht mit einer Schichtdicke von bis zu 10 µm.
Bevorzugt wird beim galvanischen Auftragen der Nickel- und / oder Nickel-Phosphorschicht auf die Kupferschicht die Nickel- und / oder Nickel-Phosphorschicht mit einer Schichtdicke zwischen 5 und 10 µm aufgetragen.
Bevorzugt wird beim galvanischen Auftragen der Goldschicht auf die Nickel- und / oder Nickel-Phosphorschicht die Goldschicht mit einer Schichtdicke zwischen 3 und 9 µm, besonders bevorzugt 6 µm, aufgetragen.
Mit dem Verfahren zur Herstellung eines vergoldeten Schleifringkontaktes wird ein Schleifringkontakt hergestellt, welcher folgende Schichtabfolge aufweist: ein elektrisch leitfähiges Substrat, eine Kupferschicht auf dem Substrat, eine Nickel- und / oder Nickel-Phosphorschicht auf der Kupferschicht, und eine Goldschicht auf der Nickel- und / oder Nickel-Phosphorschicht. Das Substrat weist bevorzugt Messing auf. Es ist ferner bevorzugt, dass das Substrat aus Messing besteht.
Dieser Schleifringkontakt, welcher z.B. auf einer Bürste oder auf einer Schleifbahn angebracht sein kann, zeichnet sich wie bereits oben geschildert durch verbesserte elektrische Eigenschaften aus.
Bei der galvanischen Abscheidung von Kupfer des oben genannten Verfahrens wird ein galvanisches Bad zur Abscheidung von Kupfer verwendet, bei dem in dem galvanischen Bad mindestens ein Glanzbilder aus der Liste der Glanzbilder, welche aus 3-Carboxy-1-(phenylmethyl)Pyridinium Chlorid Natriumsalz, kationische Polymere mit Harnstoffgruppen, 1-(3-Sulfopropyl)-Pyridinium Betain, 1-(2-Hydroxy-3-sulfopropyl)-Pyridinium Betain, Propargyl (3-sulfopropyl) Ether Natriumsalz, Natrium-Saccharin, Natrium-Allylsulfonat, N,N-Dimethyl-N-(3-cocoamidopropyl)-N-(2-hydroxy-3-sulfopropyl) Ammonium Betain, Polyamine, 1H-Imidazol Polymer mit (Chloromethyl)Oxiran, 3-Carboxy-1-(phenylmethyl)Pyridinium Chlorid Natriumsalz, 1-Benzyl-3-Sodiumcarboxy-Pyridinium Chlorid, Arsentrioxid, Kalium-Antimon-Tartrat, Kaliumtellurat, Alkaliarsenit, Kaliumtellerit, Kaliumselenocyanat, Alkaliantimonyltartrat, Natriumselenit, Thalliumsulfat, Kohlenstoffdisulfid besteht, nicht enthalten ist. Bevorzugt wird in dem galvanischen Bad kein Glanzbildner aus der genannten Liste verwendet.

Beschreibung der Zeichnungen
Die Erfindung wird nachstehend ohne Beschränkung des allgemeinen Erfindungsgedankens anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnungen exemplarisch beschrieben.
- Figur 1 zeigt den ersten Schritt des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung eines vergoldeten Schleifringkontaktes. Hierbei wird ein bevorzugt aus Messing oder einer anderen kupferbasierten Legierung hergestelltes Substrat 10 bereitgestellt.
- Figur 2 zeigt den zweiten Schritt des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung eines vergoldeten Schleifringkontaktes. Hierbei wird eine Kupferschicht 12 auf das Substrat 10 galvanisch aufgetragen.
Hierbei wird beim galvanischen Auftragen der Kupferschicht 12 auf das Substrat 10 als Galvanikbad bevorzugt ein Elektrolyt auf Basis von Kalium-Kupfercyanid verwendet.
Die Kupferschicht 12 wird bevorzugt auf das Substrat mit einer Schichtdicke von bis zu 4 µm aufgetragen. In einer besonders vorteilhaften Ausführungsform handelt es sich bei Kupferschicht 12 um eine Kupferschicht mit Schichtdicke von bis zu 10 µm.
- Figur 3 zeigt den dritten Schritt des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung eines vergoldeten Schleifringkontaktes. Hierbei wird eine Nickel- und / oder Nickel-Phosphorschicht 14 auf die Kupferschicht 12 galvanisch aufgetragen. Die Nickel- und / oder Nickel-Phosphorschicht 14 wird bevorzugt mit einer Schichtdicke zwischen 5 und 10 µm aufgetragen.
- Figur 4 zeigt den vierten und letzten Schritt des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung eines vergoldeten Schleifringkontaktes. Hierbei wird eine Goldschicht 16 auf die Nickel- und / oder Nickel-Phosphorschicht 14 galvanisch aufgetragen. Die Goldschicht 16 wird bevorzugt mit einer Schichtdicke zwischen 3 und 9 µm, besonders bevorzugt 6 µm, aufgetragen.
- Figur 4 zeigt somit ebenfalls einen erfindungsgemäßen Schleifkontakt mit der oben beschriebenen Schichtabfolge auf dem Substrat 10. Wie ebenfalls oben beschrieben weist der Schleifkontakt eine rauere Oberfläche als Schleifkontakte aus dem Stand der Technik auf.

Bezugszeichenliste
10
Substrat
12
Kupferschicht
14
Nickel- und / oder Nickel-Phosphorschicht
16
Goldschicht
1. Verfahren zur Herstellung eines vergoldeten Schleifringkontaktes mit folgenden Verfahrensschritten:
- Bereitstellen eines elektrisch leitfähigen Substrats (10);
- galvanisches Auftragen einer Kupferschicht (12) auf das Substrat (10);
- galvanisches Auftragen einer Nickel- und / oder Nickel-Phosphorschicht (14) auf die Kupferschicht (12); und
- galvanisches Auftragen einer Goldschicht (16) auf die Nickel- und / oder Nickel-Phosphorschicht (14);
dadurch gekennzeichnet, dass
beim galvanischen Auftragen der Kupferschicht (12) auf das Substrat (10) in dem verwendeten Galvanikbad mindestens ein Glanzbilder nicht verwendet wird, welcher in der Liste der Glanzbilder, welche aus 3-Carboxy-1-(phenylmethyl)Pyridinium Chlorid Natriumsalz, kationische Polymere mit Harnstoffgruppen, 1-(3-Sulfopropyl)-Pyridinium Betain, 1-(2-Hydroxy-3-sulfopropyl)-Pyridinium Betain, Propargyl (3-sulfopropyl) Ether Natriumsalz, Natrium-Saccharin, Natrium-Allylsulfonat, N,N-Dimethyl-N-(3-cocoamidopropyl)-N-(2-hydroxy-3-sulfopropyl) Ammonium Betain, Polyamine, 1H-Imidazol Polymer mit (Chloromethyl)Oxiran, 3-Carboxy-1-(phenylmethyl)Pyridinium Chlorid Natriumsalz, 1-Benzyl-3-Sodiumcarboxy-Pyridinium Chlorid, Arsentrioxid, Kalium-Antimon-Tartrat, Kaliumtellurat, Alkaliarsenit, Kaliumtellerit, Kaliumselenocyanat, Alkaliantimonyltartrat, Natriumselenit, Thalliumsulfat und Kohlenstoffdisulfid besteht, enthalten ist.
2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass
beim Galvanischen Auftragen der Kupferschicht (12) auf das Substrat (10) in dem verwendeten Galvanikbad kein Glanzbildner der Liste der Glanzbildner 3-Carboxy-1-(phenylmethyl)Pyridinium Chlorid Natriumsalz, kationische Polymere mit Harnstoffgruppen, 1-(3-Sulfopropyl)-Pyridinium Betain, 1-(2-Hydroxy-3-sulfopropyl)-Pyridinium Betain, Propargyl (3-sulfopropyl) Ether Natriumsalz, Natrium-Saccharin, Natrium-Allylsulfonat, N,N-Dimethyl-N-(3-cocoamidopropyl)-N-(2-hydroxy-3-sulfopropyl) Ammonium Betain, Polyamine, 1H-Imidazol Polymer mit (Chloromethyl)Oxiran, 3-Carboxy-1-(phenylmethyl)Pyridinium Chlorid Natriumsalz, 1-Benzyl-3-Sodiumcarboxy-Pyridinium Chlorid, Arsentrioxid, Kalium-Antimon-Tartrat, Kaliumtellurat, Alkaliarsenit, Kaliumtellerit, Kaliumselenocyanat, Alkaliantimonyltartrat, Natriumselenit, Thalliumsulfat und Kohlenstoffdisulfid, verwendet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, dass
beim galvanischen Auftragen der Kupferschicht (12) auf das Substrat (10) als Galvanikbad eine reine Kupfercyanidlösung verwendet wird.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
beim galvanischen Auftragen der Kupferschicht (12) auf das Substrat (10) die Kupferschicht (12) mit einer Schichtdicke von bis zu 4 µm aufgetragen wird.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
beim galvanischen Auftragen der Kupferschicht (12) auf das Substrat (10) die Kupferschicht (12) mit einer Schichtdicke von bis zu 10 µm aufgetragen wird.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
beim galvanischen Auftragen der Nickel- und / oder Nickel-Phosphorschicht (14) auf die Kupferschicht (12) die Nickel- und / oder Nickel-Phosphorschicht (14) mit einer Schichtdicke zwischen 5 und 10 µm aufgetragen wird.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
beim galvanischen Auftragen der Goldschicht (16) auf die Nickel-Phosphorschicht (14) die Goldschicht (16) mit einer Schichtdicke zwischen 3 und 9 µm, bevorzugt 6 µm, aufgetragen wird.
8. Schleifkontakt aufweisend:
ein elektrisch leitfähiges Substrat (10);
eine Kupferschicht (12) auf dem Substrat (10);
eine Nickel-Phosphorschicht (14) auf der Kupferschicht (12); und
eine Goldschicht (16) auf der Nickel-Phosphorschicht (14);
dadurch gekennzeichnet, dass
beim galvanischen Auftragen der Kupferschicht (12) auf das Substrat (10) in dem verwendeten Galvanikbad mindestens ein Glanzbilder nicht verwendet wird, welcher in der Liste der Glanzbildner, welche aus 3-Carboxy-1-(phenylmethyl)Pyridinium Chlorid Natriumsalz, kationische Polymere mit Harnstoffgruppen, 1-(3-Sulfopropyl)-Pyridinium Betain, 1-(2-Hydroxy-3-sulfopropyl)-Pyridinium Betain, Propargyl (3-sulfopropyl) Ether Natriumsalz, Natrium-Saccharin, Natrium-Allylsulfonat, N,N-Dimethyl-N-(3-cocoamidopropyl)-N-(2-hydroxy-3-sulfopropyl) Ammonium Betain, Polyamine, 1H-Imidazol Polymer mit (Chloromethyl)Oxiran, 3-Carboxy-1-(phenylmethyl)Pyridinium Chlorid Natriumsalz, 1-Benzyl-3-Sodiumcarboxy-Pyridinium Chlorid, Arsentrioxid, Kalium-Antimon-Tartrat, Kaliumtellurat, Alkaliarsenit, Kaliumtellerit, Kaliumselenocyanat, Alkaliantimonyltartrat, Natriumselenit, Thalliumsulfat und Kohlenstoffdisulfid besteht, enthalten ist.
9. Schleifkontakt nach Anspruch 8,
dadurch gekennzeichnet, dass
beim Galvanischen Auftragen der Kupferschicht (12) auf das Substrat (10) in dem verwendeten Galvanikbad kein Glanzbilder der Liste der Glanzbilder 3-Carboxy-1-(phenylmethyl)Pyridinium Chlorid Natriumsalz, kationische Polymere mit Harnstoffgruppen, 1-(3-Sulfopropyl)-Pyridinium Betain, 1-(2-Hydroxy-3-sulfopropyl)-Pyridinium Betain, Propargyl (3-sulfopropyl) Ether Natriumsalz, Natrium-Saccharin, Natrium-Allylsulfonat, N,N-Dimethyl-N-(3-cocoamidopropyl)-N-(2-hydroxy-3-sulfopropyl) Ammonium Betain, Polyamine, 1H-Imidazol Polymer mit (Chloromethyl)Oxiran, 3-Carboxy-1-(phenylmethyl)Pyridinium Chlorid Natriumsalz, 1-Benzyl-3-Sodiumcarboxy-Pyridinium Chlorid, Arsentrioxid, Kalium-Antimon-Tartrat, Kaliumtellurat, Alkaliarsenit, Kaliumtellerit, Kaliumselenocyanat, Alkaliantimonyltartrat, Natriumselenit, Thalliumsulfat und Kohlenstoffdisulfid, verwendet wird.
10. Galvanisches Bad zur Abscheidung von Kupfer,
dadurch gekennzeichnet, dass
in dem galvanischen Bad mindestens ein Glanzbilder aus der Liste der Glanzbilder, welche aus 3-Carboxy-1-(phenylmethyl)Pyridinium Chlorid Natriumsalz, kationische Polymere mit Harnstoffgruppen, 1-(3-Sulfopropyl)-Pyridinium Betain, 1-(2-Hydroxy-3-sulfopropyl)-Pyridinium Betain, Propargyl (3-sulfopropyl) Ether Natriumsalz, Natrium-Saccharin, Natrium-Allylsulfonat, N,N-Dimethyl-N-(3-cocoamidopropyl)-N-(2-hydroxy-3-sulfopropyl) Ammonium Betain, Polyamine, 1H-Imidazol Polymer mit (Chloromethyl)Oxiran, 3-Carboxy-1-(phenylmethyl)Pyridinium Chlorid Natriumsalz, 1-Benzyl-3-Sodiumcarboxy-Pyridinium Chlorid, Arsentrioxid, Kalium-Antimon-Tartrat, Kaliumtellurat, Alkaliarsenit, Kaliumtellerit, Kaliumselenocyanat, Alkaliantimonyltartrat, Natriumselenit, Thalliumsulfat und Kohlenstoffdisulfid, besteht, nicht enthalten ist.
11. Galvanisches Bad zur Abscheidung von Kupfer,
dadurch gekennzeichnet, dass
in dem galvanischen Bad kein Glanzbildner aus der Liste der Glanzbildner 3-Carboxy-1-(phenylmethyl)Pyridinium Chlorid Natriumsalz, kationische Polymere mit Harnstoffgruppen, 1-(3-Sulfopropyl)-Pyridinium Betain, 1-(2-Hydroxy-3-sulfopropyl)-Pyridinium Betain, Propargyl (3-sulfopropyl) Ether Natriumsalz, Natrium-Saccharin, Natrium-Allylsulfonat, N,N-Dimethyl-N-(3-cocoamidopropyl)-N-(2-hydroxy-3-sulfopropyl) Ammonium Betain, Polyamine, 1H-Imidazol Polymer mit (Chloromethyl)Oxiran, 3-Carboxy-1-(phenylmethyl)Pyridinium Chlorid Natriumsalz, 1-Benzyl-3-Sodiumcarboxy-Pyridinium Chlorid, Arsentrioxid, Kalium-Antimon-Tartrat, Kaliumtellurat, Alkaliarsenit, Kaliumtellerit, Kaliumselenocyanat, Alkaliantimonyltartrat, Natriumselenit, Thalliumsulfat und Kohlenstoffdisulfid, verwendet wird.
SR 2014/29EP-02
EP
16197807.7
Schleifring und Apparatebau GmbH
4
DH
20170526
C25D
H01R
EP
2581473
A1
HAFNER GMBH & CO KG C [DE]
20130417
X
1-11
* Zusammenfassung *
* Absätze [0002], [0024] - [0039] *
JP
H03223486
A
NIPPON AVIONICS CO LTD
19911002
X
1,2,8-11
* Zusammenfassung *
* Absatz [0001] *
US
2003135981
A1
GALYEAN JACK T [US]
20030724
X
1,2,8-11
* Zusammenfassung *
* Abbildung 1D *
* Anspruch 3 *
* Absätze [0039], [0044], [0047] *
CN
101696512
A
JIANGSU RUGAO HIGH VOLTAGE ELE
20100421
X
1,2,4-6,8-11
* Zusammenfassung *
* "Embodiment 1" *
Lange, Ronny
The Hague
20170517
EP
2581473
A1
20130417
DE
102011115802
A1
20130418
EP
2581473
A1
20130417
JP
H03223486
A
19911002
JP
H0663111
B2
19940817
JP
H03223486
A
19911002
US
2003135981
A1
20030724
KEINE
CN
101696512
A
20100421
KEINE

IN DER BESCHREIBUNG AUFGEFÜHRTE DOKUMENTE
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde ausschließlich zur Information des Lesers aufgenommen und ist nicht Bestandteil des europäischen Patentdokumentes. Sie wurde mit größter Sorgfalt zusammengestellt; das EPA übernimmt jedoch keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.

In der Beschreibung aufgeführte Patentdokumente
- US
4398113
A
[0002]