(19)
(11) EP 3 304 199 A1

(12)

(43) Veröffentlichungstag:
11.04.2018  Patentblatt  2018/15

(21) Anmeldenummer: 16731517.5

(22) Anmeldetag:  23.05.2016
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC): 
G03F 7/00(2006.01)
G03F 7/20(2006.01)
 G03F 7/031(2006.01)
(86) Internationale Anmeldenummer:
PCT/EP2016/061523
(87) Internationale Veröffentlichungsnummer:
WO 2016/188938 (01.12.2016 Gazette  2016/48)
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
Benannte Erstreckungsstaaten:
BA ME
Benannte Validierungsstaaten:
MA MD

(30) Priorität: 27.05.2015 DE 102015108358

(71) Anmelder: Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
76131 Karlsruhe (DE)

(72) Erfinder:
  • FISCHER, Joachim
    77876 Kappelrodeck-Waldulm (DE)
  • RICHTER, Benjamin
    76137 Karlsruhe (DE)
  • QUICK, Alexander
    69253 Heiligkreuzsteinach (DE)
  • MÜLLER, Jonathan
    70199 Stuttgart (DE)
  • BASTMEYER, Martin
    76227 Karlsruhe-Durlach (DE)
  • BARNER-KOWOLLIK, Christopher
    76297 Stutensee (DE)
  • WEGENER, Martin
    76227 Karlsruhe (DE)

(74) Vertreter: Fitzner, Uwe 
Fitzner & Frese PartGmbB Hauser Ring 10
40878 Ratingen
40878 Ratingen (DE)

   


(54) HOCHAUFGELÖSTE PHOTOCHEMIE UNTERHALB DES BEUGUNGSLIMITS MITTELS SCHALTBARER PHOTOENOLISIERUNG