Domaine technique de l'invention
[0001] L'invention se rapporte à un procédé de détermination d'un facteur qualité d'une
cavité accélératrice d'un accélérateur de particules, notamment un accélérateur de
particules linéaire. L'invention se rapporte également à un procédé de fonctionnement
d'un accélérateur de particules. L'invention se rapporte en outre à un dispositif
de détermination d'un facteur qualité et à un accélérateur de particules comprenant
un tel dispositif.
Etat de la technique
[0002] Au sein des accélérateurs de particules, notamment les accélérateurs de particules
linéaires, des cavités accélératrices supraconductrices, dites cavités RF, réalisent
l'accélération de particules. Ces cavités sont fabriquées à partir d'un matériau supraconducteur
à très basse température, comme le niobium, et sont plongées dans un volume de fluide
cryogénique, comme notamment de l'hélium. Les performances d'une cavité accélératrice,
et notamment la puissance maximale admissible de la cavité sont fonction de son facteur
qualité. Ce facteur est directement lié à l'état de surface et à la géométrie de la
cavité. Dans certaines conditions, la cavité peut perdre son état supraconducteur,
ce qui déclenche un phénomène dénommé « quench » conduisant à un arrêt complet du
faisceau dans l'accélérateur de particules. La dégradation du facteur qualité dégrade
également la capacité accélératrice de la cavité concernée.
Objet de l'invention
[0004] Le but de l'invention est de fournir un procédé de détermination d'un facteur qualité
d'une cavité accélératrice d'un accélérateur de particules remédiant aux inconvénients
ci-dessus et améliorant les dispositifs et procédés connus de l'état de l'art antérieur.
En particulier, l'invention permet de réaliser une mesure continue du facteur qualité.
La mesure obtenue a l'avantage d'être réalisable lorsque l'accélérateur est en marche.
Par ailleurs, la détermination du facteur qualité selon l'invention peut permettre
une détection de la détérioration de la cavité
[0005] L'invention se rapporte à un procédé de détermination d'un facteur qualité d'une
cavité supraconductrice accélératrice d'un accélérateur de particules, notamment d'un
accélérateur de particules de type linéaire, le procédé comprenant les étapes suivantes
:
- une détermination d'une charge thermique à laquelle est soumise un cryomodule comprenant
la cavité accélératrice et un bain de fluide cryogénique, puis
- une détermination d'un facteur qualité basée sur la détermination de la charge thermique
au cours du fonctionnement de l'accélérateur de particules.
[0006] Les étapes de détermination de la charge thermique et de détermination du facteur
qualité peuvent être réalisées simultanément et en temps réel. L'étape de détermination
de la charge thermique peut comprendre l'utilisation d'un observateur d'état.
[0007] L'observateur d'état peut comprendre une estimation d'un débit massique de fluide
cryogénique traversant une vanne du cryomodule sous la forme

dans laquelle :
ṁcomp désigne un débit massique de fluide cryogénique sous forme compressible au travers
de la vanne,
ṁincomp désigne le débit massique de fluide cryogénique sous forme incompressible au travers
de la vanne, et
βT désigne un coefficient de compressibilité isotherme du fluide cryogénique.
[0008] L'observateur d'état peut comprendre une estimation d'une masse volumique et d'une
énergie interne spécifique du bain de fluide cryogénique.
[0009] Ladite estimation peut être réalisée à partir :
- d'un volume de fluide cryogénique à l'état liquide calculé à partir d'une mesure d'une
hauteur du fluide cryogénique à l'état liquide et/ou calculé à partir d'une mesure
de la quantité de fluide cryogénique entrant et sortant du bain de fluide cryogénique
; et
- d'une charge thermique statique et d'une charge thermique dynamique reçues par le
bain de fluide cryogénique ; et
- d'une enthalpie spécifique d'entrée et de sortie du bain cryogénique basée sur une
mesure de la pression du bain de fluide cryogénique, ou
d'une température de sortie du bain de fluide cryogénique basée sur une mesure de
la pression du bain de fluide cryogénique et du titre massique d'entrée du bain de
fluide cryogénique.
[0010] L'invention se rapporte également à un procédé de fonctionnement d'un accélérateur
de particules, notamment d'un accélérateur de particules de type linéaire, comprenant
au moins une cavité accélératrice, le procédé de fonctionnement comprenant la mise
en œuvre du procédé de détermination d'un facteur qualité d'au moins une cavité accélératrice
tel que défini précédemment et une étape de modification d'au moins un paramètre de
fonctionnement de ladite cavité accélératrice en fonction de son facteur qualité.
[0011] Ledit paramètre de fonctionnement peut être une valeur de commande de puissance d'une
onde radiofréquence émise dans la cavité accélératrice, et l'étape de modification
peut comprendre une réduction de la valeur de la commande de puissance si le facteur
qualité de l'au moins une cavité accélératrice franchit un seuil prédéterminé, les
autres cavités de l'accélérateur de particules, lorsqu'elles existent, pouvant continuer
à fonctionner.
[0012] L'invention se rapporte également à un dispositif de détermination d'un facteur qualité
d'au moins une cavité accélératrice d'un accélérateur de particules, le dispositif
de détermination comprenant des éléments matériels et/ou logiciels mettant en œuvre
le procédé tel que défini précédemment, notamment des éléments matériels et/ou logiciels
conçus pour mettre en œuvre le procédé tel que défini précédemment.
[0013] L'invention se rapporte également à un accélérateur de particules, notamment accélérateur
de particules de type linéaire, comprenant au moins un dispositif de détermination
tel que défini précédemment. L'accélérateur de particules peut comprendre au moins
un cryomodule comprenant une cavité accélératrice ou plusieurs cavités accélératrices
et un bain d'un fluide cryogénique.
[0014] L'invention se rapporte également à un produit programme pour calculateur comprenant
des instructions de code de programme enregistrées sur un support lisible par un calculateur
pour mettre en œuvre les étapes du procédé tel que défini précédemment lorsque ledit
programme fonctionne sur un calculateur ou produit programme pour calculateur téléchargeable
depuis un réseau de communication et/ou enregistré sur un support de données lisible
par un calculateur et/ou exécutable par un calculateur comprenant des instructions
qui, lorsque le programme est exécuté par un calculateur, conduisent celui-ci à mettre
en œ uvre le procédé tel que défini précédemment.
[0015] L'invention se rapporte également à un support d'enregistrement de données, lisible
par un calculateur, sur lequel est enregistré un programme pour calculateur comprenant
des instructions de code de programme de mise en œuvre du procédé tel que défini précédemment
ou support d'enregistrement lisible par un calculateur comprenant des instructions
qui, lorsqu'elles sont exécutées par un calculateur, conduisent celui-ci à mettre
en œuvre le procédé tel que défini précédemment.
Description sommaire des dessins
[0016]
La figure 1 est une vue schématique d'un accélérateur de particules selon un mode
de réalisation de l'invention.
La figure 2 est une vue schématique d'un système cryogénique équipé d'un cryomodule.
La figure 3 est une vue schématique d'une connexion entre une interface homme machine,
un automate programmable industriel et des capteurs du système cryogénique.
Les figures 4A, 4B, 4C et 4D sont des vues schématiques de différentes configurations
alternatives d'un système cryogénique.
La figure 5 est une vue schématique d'un système cryogénique équipé d'un moyen de
régulation.
La figure 6 est une vue schématique de différentes étapes d'un procédé de détermination
d'un facteur qualité selon un mode de réalisation de l'invention.
La figure 7 est une vue schématique d'une modélisation thermodynamique du cryomodule.
Les figures 8A, 8B et 8C sont des graphiques illustrant la précision d'un modèle thermodynamique
selon un mode de réalisation de l'invention.
La figure 9 est une vue schématique d'un observateur de charge thermique du cryomodule.
La figure 10 est une vue schématique d'une modélisation d'un débit traversant une
vanne du système cryogénique.
Les figures 11A et 11B sont des graphiques illustrant la précision d'une estimation
d'une charge dynamique appliquée au cryomodule.
Les figures 12A, 12B et 12C sont des tables de propriété de l'hélium.
Description d'un mode de réalisation
Description du dispositif
[0017] La figure 1 illustre schématiquement un accélérateur de particules 1 linéaire comprenant
un tube 2 longitudinal apte à véhiculer des particules, et deux cryomodules 3, 3'
agencés en série le long du tube 2 longitudinal. L'accélérateur de particules 1 pourrait
comprendre encore davantage de cryomodules. Chaque cryomodule 3, 3' comprend au moins
une cavité 4 accélératrice et un bain de fluide cryogénique 5. Le bain de fluide cryogénique
5 est contenu dans une enceinte 6 enveloppant la cavité 4 accélératrice. Le bain de
fluide cryogénique 5, maintenu à une température de l'ordre de 4K, a pour vocation
de maintenir la température de la cavité en dessous de sa température critique, notamment
en dessous de 9,2K. Comme visible sur la figure 1, un premier type de cryomodule 3
comprend une unique cavité 4 accélératrice et un deuxième type de cryomodule 3' comprend
deux cavités 4 accélératrices. En variante, d'autres types de cryomodules pourraient
comprendre un nombre quelconque de cavités et un accélérateur de particule pourrait
comprendre un agencement quelconque de cryomodules. Le cryomodule peut être équipé
d'un système de refroidissement périphérique (non représenté), dit bouclier thermique,
permettant de maintenir son enveloppe externe à une température donnée, par exemple
à une température de 70K.
[0018] En référence à la figure 2, on précise la conception d'un cryomodule 3 équipé d'une
unique cavité 4. Une cavité 4 accélératrice comprend des parois 7 fabriquées par exemple
en niobium, en alliage de niobium avec du titane, ou encore en tout autre matériau
adapté pour la fabrication de parois de cavités accélératrices supraconductrices.
Les parois 7 possèdent une épaisseur e donnée. Le niobium est un matériau supraconducteur
lorsqu'il est maintenu à une température inférieure à 9.2K. La cavité 4 comprend également
une antenne radiofréquence 8 apte à émettre des ondes électromagnétiques pour accélérer
les particules traversant la cavité 4. Un vide parfait ou quasi parfait règne à l'intérieur
de la cavité 4. Le fluide cryogénique 5 dans lequel la cavité 4 est immergée est avantageusement
de l'hélium bouillant se présentant en partie à l'état liquide et en partie à l'état
gazeux. De même, d'autres compositions chimiques pourraient être envisagées pour constituer
le fluide cryogénique 5.
[0019] L'hélium à l'état liquide est plus dense que l'hélium à l'état gazeux. Par gravité
l'hélium à l'état liquide occupe donc un volume inférieur de l'enceinte 6 du cryomodule
3 tandis que l'hélium à l'état gazeux occupe un volume supérieur de l'enceinte. Le
bain d'hélium se comporte donc comme un séparateur de phase, c'est-à-dire un bain
dans lequel se produit un équilibre entre l'état gazeux et l'état liquide d'un même
fluide en fonction des conditions de pression et de température. Dans la suite du
document on utilisera donc indifféremment le terme « séparateur de phase » pour désigner
le bain d'hélium contenu dans le cryomodule 3. Le cryomodule est équipé d'un capteur
de niveau LT, apte à mesurer la hauteur d'hélium sous forme liquide au sein de l'enceinte
du cryomodule.
[0020] Le séparateur de phase est sujet à une charge thermique qui peut être décomposée
en deux parties. D'une part le séparateur de phase est soumis à une charge thermique
statique Q
static, mesurable, due aux échanges thermiques par conduction, convection et radiation entre
l'environnement externe du cryomodule à une température ambiante (soit environ 300K)
et le fluide cryogénique à une température de 4K. D'autre part, le séparateur de phase
est soumis à une charge thermique dynamique Q
dynam due à la puissance du champ électromagnétique dans la cavité et/ou par le passage
des particules dans la cavité. Cette charge dynamique sera déterminée (autrement dit
estimée, simulée ou calculée) conformément à la description qui sera donnée ultérieurement.
D'un point de vue thermodynamique, la cavité 4 n'a pas d'autre effet qu'un apport
de chaleur supplémentaire sur le bain d'hélium.
[0021] La charge thermique peut être l'image de la puissance radiofréquence injectée dans
la cavité mais pas seulement. Elle peut être l'image de la dégradation du vide d'isolation,
d'émission électronique de basse énergie au niveau d'un coupleur radiofréquence ou
dans la cavité, de l'émission de champs ou de perte en ligne du faisceau.
[0022] Le modèle thermodynamique d'un cryomodule 3' équipé de deux cavités 4 accélératrices
est équivalent au modèle thermodynamique d'un cryomodule 3 équipé d'une unique cavité
4 accélératrice. Seuls trois paramètres de ces modèles diffèrent : le volume de l'enceinte
Vol contenant le fluide cryogénique, la charge thermique statique Q
static et la charge thermique dynamique Q
dynam agissant sur le fluide cryogénique 5. L'invention sera détaillée sur l'exemple d'un
cryomodule équipé d'une unique cavité accélératrice. L'homme du métier pourra transposer
ces enseignements à un cryomodule comprenant deux ou plus de cavités accélératrices.
[0023] Un système cryogénique 10 comprend le cryomodule 3 ainsi que trois vannes CV001,
CV002, CV005, permettant de relier le cryomodule 3 à un circuit de distribution 11
d'hélium. Une première vanne CV001 est une vannée d'entrée d'hélium et est reliée
à une partie inférieure du bain d'hélium, en un point ou l'hélium est sous forme liquide
(une fois la température de l'hélium abaissée à sa température de fonctionnement).
Une deuxième vanne CV002 est également une vannée d'entrée d'hélium et est reliée
à une partie supérieure du bain d'hélium, en un point ou l'hélium est sous forme gazeuse.
Une troisième vanne CV005 est une vanne de sortie d'hélium et est reliée à la partie
supérieure du bain d'hélium, en un point ou l'hélium est sous forme gazeuse. La première
vanne CV001 peut être utilisée lors du remplissage en hélium de l'enceinte du cryomodule.
Le système cryogénique 10 pourrait ne pas comprendre cette première vanne CV001 si
le remplissage en hélium peut être obtenu de manière différente. La première vanne
CV001 n'est pas utilisée pour une fonction de régulation. La deuxième vanne CV002
peut être utilisée pour réguler le niveau d'hélium dans l'enceinte du cryomodule.
La troisième vanne CV005 peut être utilisée pour réguler la pression dans l'enceinte
du cryomodule. La première et la deuxième vanne CV001, CV002, dites vannes d'alimentation,
sont connectées à une ligne d'alimentation en hélium diphasique. La troisième vanne
CV005, dite vanne d'échappement, est connectée à une ligne de retour. Ces lignes ne
sont pas représentées sur la figure 2 mais sont remplacées par les conditions aux
limites en entrée BC
in et les conditions aux limites en sortie BC
out. Les conditions aux limites en entrée BC
in sont données par la pression P
in et l'enthalpie H
in en entrée des vannes d'alimentation CV001 et CV002. Les conditions aux limites en
sortie BC
out sont données par la pression P
out en sortie de la vanne d'échappement CV005. L'ouverture de chaque vanne peut être
ajustée pour faire varier progressivement le débit d'hélium la traversant. La position
de chacune de ces vannes, c'est-à-dire son pourcentage d'ouverture, peut être relevée
manuellement ou automatiquement.
[0024] Un triplet de variables est associé à chaque entrée ou sortie de l'ensemble des composants
: la pression interne P (exprimée en bars absolus), l'enthalpie spécifique H (exprimée
en J/kg) et le débit massique
ṁ (exprimée en kg/s) représenté par « M » sur la figure 2. On définit ainsi localement
les caractéristiques physiques de l'hélium. Ces variables représentent les données
échangées entre les différents éléments constituant le modèle. L'indice associé à
chacune des variables indique s'il s'agit de l'entrée (« in ») ou de la sortie («
out ») du modèle. L'exposant définit si la variable est calculée (« calc ») ou bien
imposée par un composant voisin (« imp »).
[0025] Le système cryogénique comprend également un capteur de pression PT d'hélium (illustré
sur les figures 4A à 4D). Ce capteur peut être par exemple positionné en amont de
la troisième vanne CV005, c'est-à-dire entre la troisième vanne et le bain d'hélium.
Le capteur de pression PT et le capteur de niveau LT d'hélium liquide sont aptes à
réaliser des mesures en continu, c'est-à-dire qu'ils fournissent un signal fluctuant
en fonction de l'évolution de la pression dans le bain d'hélium et de la hauteur d'hélium
liquide. En référence à la figure 3, ils sont connectés à un automate programmable
industriel API. Cet automate peut être avantageusement lui-même connecté à une interface
homme machine IHM, telle qu'un ordinateur ou tout autre moyen d'affichage destiné
à un utilisateur. Si l'automate met en œuvre le procédé de détermination selon l'invention,
l'interface homme machine IHM sert uniquement à afficher le résultat. Les capteurs
de pression PT et de niveau LT, l'automate programmable industriel API et l'interface
homme machine IHM (lorsqu'il y a une) font partie d'un dispositif de détermination
9 du facteur qualité Q
0.
[0026] Il existe deux moyens de mettre en œuvre la méthode d'estimation du facteur qualité
: soit les calculs sont effectués sur l'automate programmable industriel API et le
résultat est communiqué à l'interface homme machine IHM, soit l'automate transmet
les données des capteurs PT, LT à l'interface homme machine IHM et c'est cette dernière
qui réalise les calculs. L'automate programmable industriel API et/ou l'interface
homme machine IHM sont des calculateurs et comprennent des moyens de mise en œuvre
de la méthode d'estimation du facteur qualité, notamment une mémoire et une unité
de calcul. Il est préconisé de privilégier la première option puisqu'elle permet d'éviter
des éventuels bugs pouvant survenir sur une interface homme machine (un automate programmable
étant conçu pour minimiser le risque de bug). Dans la suite de la description on supposera
donc la méthode mise en œuvre par l'automate programmable industriel API.
[0027] Les différentes vannes et capteurs du système cryogénique sont reliés à un ou plusieurs
contrôleurs CTRL aptes à réguler la pression d'hélium et le niveau d'hélium liquide
à l'intérieur du cryomodule en agissant sur les vannes CV002 et CV005. En référence
aux figures 4A, 4B, 4C et 4D, quatre structures de contrôle possibles sont proposées.
[0028] La figure 4A illustre un contrôle centralisé : un unique contrôleur CTRL est apte
à agir sur les deux vannes CV002 et CV005.
[0029] La figure 4B illustre un contrôle décentralisé de l'ouverture de la deuxième vanne
CV002 et de la troisième vanne CV005 : il consiste à utiliser deux contrôleurs CTRL
distincts et à découpler totalement les deux régulations de niveau et de pression.
[0030] La figure 4C illustre un contrôle distribué : il fonctionne sur le même principe
que le contrôle décentralisé mais avec une interaction entre les deux contrôleurs
CTRL de niveau et de pression.
[0031] La figure 4D illustre un contrôle hiérarchisé : un coordinateur Coord pilote deux
contrôleurs CTRL distincts et assure la stabilité du système cryogénique.
[0032] Les structures de contrôle CTRL et Coord utilisent l'estimation de la charge thermique
agissant sur le bain d'hélium pour améliorer la stabilité globale du système, ce que
nous allons détailler par la suite.
[0033] La figure 5 illustre un système cryogénique 10 équipé d'un moyen de régulation 12
de la puissance émise par l'antenne radiofréquence en fonction de l'estimation du
facteur qualité Q0.
Description du procédé
[0034] Nous allons à présent décrire un mode d'exécution du procédé de détermination d'un
facteur qualité Q0 d'une cavité au travers de six étapes E1 à E6 réalisées successivement.
Comme présenté sur la figure 6, les étapes E1 à E5 conduisent à estimer une charge
thermique Q
dynam agissant sur le cryomodule. Cette estimation est réalisée à l'aide d'un observateur
d'état s'appuyant sur un modèle thermodynamique et thermohydraulique du cryomodule.
Puis, l'étape E6 conduit à estimer la valeur du facteur qualité Q
0 sur la base de la charge thermique Q
dynam.
[0035] Le procédé est réalisé en temps réel, c'est-à-dire que les estimations de la charge
dynamique Q
dynam et du facteur qualité Q
0 sont calculées instantanément et renouvelées de manière constante. Par « temps réel
», on comprend que les étapes de détermination sont exécutées à une vitesse adaptée
à l'évolution de la charge dynamique Q
dynam et du facteur qualité Q
0. Par exemple, de nouvelles valeurs de charge dynamique Q
dynam et du facteur qualité Q
0 peuvent être calculées à une fréquence supérieure ou égale à 1 Hz, voire supérieure
ou égale à 10 Hz, voire même supérieure ou égale à 1kHz. De plus, le procédé peut
être réalisé alors que la cavité est en cours de fonctionnement, c'est à dire alors
que l'accélérateur de particules est justement utilisé pour accélérer des particules,
notamment à des fins expérimentales. Le procédé n'est pas nécessairement mis en œuvre
au cours d'une manipulation dédiée à la mesure du facteur qualité. Le procédé peut
donc être mis en œuvre parallèlement à une expérience durant laquelle tous les systèmes
de l'accélérateur sont en fonctionnement. L'estimation peut également être renouvelée
lorsqu'un capteur du système cryogénique enregistre une variation significative.
[0036] Lorsque la description ne le précise pas, l'unité physique associée à une grandeur
physique donnée est une unité du système internationale.
[0037] Dans une première étape E1, on détermine des caractéristiques du séparateur de phase
et des vannes de régulation. Ces caractéristiques dépendent directement de la conception
du cryomodule et des vannes. Elles peuvent être mesurées ou calculées. Ces caractéristiques
sont :
- le volume Vol de l'enceinte contenant le fluide cryogénique,
- la charge thermique statique Qstatic supportée par le fluide cryogénique, c'est-à-dire
l'énergie transmise au cryomodule par les transferts thermiques avec l'extérieur du
cryomodule,
- la fonction f1 définissant la hauteur d'hélium liquide h en fonction du volume d'hélium
liquide Vliq dans l'enceinte : h = f1 (Vliq). Cette fonction dépend de la géométrie
de l'enceinte contenant le fluide cryogénique. Elle peut être calculée au moyen d'un
modèle numérique de cette enceinte ou être définie empiriquement.
[0038] Pour la deuxième vanne CV002 et la troisième vanne CV005, ces caractéristiques sont
:
- Le coefficient de débit CV de chaque vanne, c'est-à-dire le coefficient exprimant
le débit d'un fluide qui traverse une vanne, à une température donnée, et qui provoque
une chute de pression donnée.
- La rangeabilité Rv de chaque vanne, c'est-à-dire le rapport des débits maximal et
minimal entre lesquels la caractéristique d'une vanne est maintenue dans certaines
limites de précision.
[0039] Dans une deuxième étape E2, on réalise une modélisation thermodynamique du cryomodule.
Une telle modélisation est illustrée de manière macroscopique sur la figure 7. La
modélisation thermodynamique du cryomodule permet de lier par des équations des conditions
aux limites
BCin,
BCout, la position des trois vannes
POSCV001,
POSCV002,
POSCV005, la charge statique Q
static, la charge dynamique Q
dynam, la hauteur h d'hélium liquide dans l'enceinte, et la pression interne P dans l'enceinte
6. La modélisation peut être décomposée en trois sous-étapes E21, E22, E23.
[0040] Dans une première sous-étape E21 on établit une modélisation des vannes. Cette première
sous étape E21 permet de définir la quantité d'hélium entrant
ṁin dans l'enceinte et la quantité d'hélium sortant
ṁout de l'enceinte en fonction des conditions aux limites
BCin,
BCout, et de la position des trois vannes
POSCV001,
POSCV002, et
POSCV005,ainsi que de la pression dans le cryomodule.
[0041] Dans une deuxième sous-étape E22 on établit un modèle énergétique d'un séparateur
de phase. Cette deuxième sous-étape permet de définir la masse volumique de l'hélium
ρ (exprimée en kg/m3) et l'énergie interne spécifique u (exprimé en J/kg) de l'hélium
contenue dans le cryomodule en fonction de la quantité d'hélium entrant dans l'enceinte
ṁin et la quantité d'hélium sortant de l'enceinte
ṁout, de la charge statique Q
static, et de la charge dynamique Q
dynam, ainsi que de l'enthalpie spécifique d'entrée et de sortie du cryomodule
Hin et
Hout ou de la température de sortie du cryomodule et du titre massique d'entrée du cryomodule.
[0042] Dans une troisième sous-étape E23 on établit une modélisation des propriétés physiques
du bain d'hélium. Cette troisième sous-étape permet de définir la hauteur h d'hélium
liquide dans l'enceinte, et la pression interne P dans l'enceinte en fonction de la
masse volumique de l'hélium
ρ et de l'énergie spécifique u de l'hélium.
[0043] Nous allons à présent détailler chacune des modélisations établies lors de ces trois
sous-étapes.
[0044] La première sous-étape E21 permet d'établir une modélisation des vannes. On détaille
la méthode sur l'exemple d'une vanne particulière quelconque parmi les trois vannes
CV001, CV002, CV005. Tout d'abord, on considère que la détente se produisant dans
la vanne est isenthalpique, c'est-à-dire sans apport d'énergie extérieure. Ainsi,
l'enthalpie de l'hélium en amont de la vanne est identique à l'enthalpie en aval de
la vanne, soit :
Hout =
Hin. On considère également que la vanne n'accumule pas de fluide. Ainsi, on peut également
écrire l'équation
ṁout =
ṁin. Selon le standard ANSI/ISA-75.01.01, le débit d'un fluide compressible au travers
d'une vanne s'écrit selon la formule F2 suivante :

Dans laquelle :

Avec :
- K un coefficient de conversion entre le système d'unité anglo-saxon et le système
d'unité international (K = 7.59.10-3).
- ρin la masse volumique de l'hélium (exprimée en kg/m3) en amont de la vanne. Cette masse
volumique pouvant être interpolée à partir d'une table de propriété de l'hélium en
connaissant la pression et l'enthalpie en amont de la vanne.
- Pin la pression en amont de la vanne (exprimée en Pa).
- Pout la pression en aval de la vanne (exprimée en Pa).
- γ, le rapport des chaleurs spécifiques (sans unité), défini comme le rapport de la
chaleur spécifique à pression constante Cp (exprimée en J/(kg.K)) sur la chaleur spécifique
à volume constant Cv (exprimée en J/(kg.K)) de l'hélium, soit :

Ce rapport peut être interpolé à partir d'une table de propriété de l'hélium en connaissant
la pression et l'enthalpie en amont de la vanne.
- CV désignant le coefficient de débit de la vanne (sans unité) et pouvant être calculé
par la formule :

dans laquelle :
- CVmax est une constante de dimensionnement de la vanne choisie de sorte à ce que l'ouverture
de la vanne soit dans une gamme de fonctionnement convenable (c'est-à-dire que pour
que la vanne ne s'ouvre pas ou ne se ferme pas à 100% lors de son utilisation.
- Rv est la rangeabilité de la vanne (sans unité).
- « open » est un niveau d'ouverture de la vanne évoluant de 0, quand la vanne est complètement
fermée, à 100, quand la vanne est complètement ouverte. Le niveau d'ouverture « open
» représente la position respective d'ouverture de chaque vanne POSCV001, POSCV002, et POSCV005 en pourcentage.
[0045] Par ailleurs, le débit d'un fluide incompressible au travers d'une vanne s'écrit
selon la formule F3 suivante :

[0046] Dans laquelle les variables ont la même signification que dans la formule F2.
[0047] On définit la compressibilité isotherme
βT comme un facteur de variation du volume d'un système lorsque la pression dans le
système varie tandis que sa température reste constante. Ce facteur indique à quel
point un fluide est compressible. Ainsi,
βT = 0 quand le fluide est incompressible et
βT = 1 quand le fluide est compressible. A une température donnée, le facteur
βT peut être calculé par la formule suivante :

[0048] Ce facteur est utilisé pour pondérer le débit du fluide traversant la valve selon
la formule F2 ou F3 présentée ci-dessus. Ainsi le calcul du débit au travers de la
vanne peut s'écrire avec la formule suivante :

[0049] Nous allons à présent détailler la deuxième sous-étape E22 dans laquelle on établit
le modèle énergétique du séparateur de phase. On considère par hypothèse que le bain
d'hélium est à l'équilibre liquide-gaz. Par conséquent, la masse volumique
ρ de l'hélium et l'énergie spécifique u de l'hélium (autrement dit sa densité massique
d'énergie) sont réparties de façon uniforme dans l'enceinte.
[0050] Tout d'abord, on établit une relation physique entre la masse totale d'hélium
mtot dans le bain du cryomodule, sa masse volumique
ρ et le volume de l'enceinte Vol contenant l'hélium avec l'équation physique suivante
:

[0051] Cette formule peut être dérivée de manière à s'écrire :

[0052] Ensuite, un bilan massique du cryomodule permet de lier la masse totale
mtot d'hélium à l'intérieur de l'enceinte, la masse entrante
min d'hélium et la masse sortante
mout d'hélium par l'équation suivante :

[0053] La relation liant l'énergie totale U emmagasinée par l'hélium, l'énergie spécifique
u de l'hélium et la masse totale d'hélium
mtot s'écrit :

[0054] Cette formule peut être dérivée de manière à s'écrire selon la formule suivante :

[0055] Enfin, un bilan énergétique appliqué au bain d'hélium s'écrit avec la formule suivante
:

[0056] Equation dans laquelle :
- ∑i Qi désigne l'ensemble des charges thermiques agissant sur le bain d'hélium, c'est-à-dire
: ∑i Qi = Qstatic + Qdynam.
- Hin désigne l'enthalpie de l'hélium entrant dans l'enceinte du séparateur de phase.
- Hout désigne l'enthalpie de l'hélium sortant de l'enceinte du séparateur de phase.
[0057] En combinant les équations précitées, on obtient une équation du modèle thermodynamique
du cryomodule :

[0058] Enfin, nous détaillons à présent la troisième sous-étape E23 permettant de définir
la hauteur h d'hélium liquide dans l'enceinte, et la pression interne P dans l'enceinte
en fonction de la masse volumique
ρ de l'hélium et de l'énergie spécifique u de l'hélium.
[0059] La pression interne P dans l'enceinte du cryomodule peut être directement déterminée
en fonction de la masse volumique
ρ de l'hélium et de son énergie spécifique u en exploitant les propriétés physiques
de l'hélium. A cette fin, une fonction d'interpolation intégrée à un logiciel de calcul
tel que Hepak© et/ou une librairie C++ telle que « CoolProp » pourront avantageusement
être utilisés. A titre d'exemple, une première table de propriété de l'hélium est
illustrée à la figure 12A. Sur cette figure, la masse volumique
ρ de l'hélium est représentée en ordonnée et exprimée en kg/m3. L'énergie énergie spécifique
u est représentée en abscisse et exprimée en 10
5.J/kg. Les dix courbes X1 à X10 sont obtenues pour dix niveaux de pression interne
P de 50 mPa à 5000 mPa.
[0060] Grâce à une deuxième table de propriété de l'hélium, on peut également déterminer
le titre massique X de l'hélium en fonction de la masse volumique
ρ de l'hélium et de son énergie spécifique u. Cette deuxième table est représentée
à titre d'exemple sur la figure 12B. Le titre massique X est représenté sur l'axe
vertical Z. La masse volumique
ρ de l'hélium représentée sur un premier axe horizontal Xh1 et exprimée en kg/m3. L'énergie
énergie spécifique u est représentée sur un deuxième axe horizontal Xh2 et exprimée
en 10
4.J/kg. Par définition, le titre massique X de l'hélium vérifie la formule suivante
:

[0061] Formule dans laquelle
mliq désigne la masse d'hélium liquide dans l'enceinte et
mtot la masse totale d'hélium.
[0062] Le volume d'hélium sous forme liquide
Vliq est défini par l'équation :

dans laquelle
ρliq désigne la masse volumique de l'hélium liquide.
[0063] Enfin, grâce à une troisième table de propriété de l'hélium, illustrée à titre d'exemple
sur la figure 12C, et en considérant que l'hélium est à l'état de liquide saturé,
on peut également déterminer la masse volumique de l'hélium liquide
ρliq (en ordonnée) en fonction de pression interne P (en abscisse). Sur cette figure,
la masse volumique de l'hélium liquide
ρliq est exprimée en kg/m3 et la pression interne P est exprimée en 10
5.Pa. En remarque, on appelle liquide saturée, un liquide dont la température et la
pression sont telles qu'à température constante, toute perte de pression même la plus
infime entrainerait l'ébullition du liquide. Finalement, on détermine le volume d'hélium
sous forme liquide
Vliq, puis on calcule la hauteur h d'hélium liquide en utilisant la fonction f
1 définie précédemment.
[0064] Finalement, grâce aux trois sous-étapes E21, E22, E23 précédemment décrites, on obtient
une modélisation thermodynamique du cryomodule. liant par des équations les conditions
aux limites
BCin,
BCout, la position des trois vannes
POSCV001,
POSCV002,
POSCV005, la charge statique Q
static, la charge dynamique Q
dynam, la hauteur d'hélium liquide dans l'enceinte h, et la pression dans l'enceinte P.
[0065] La précision de la modélisation thermodynamique du cryomodule peut être vérifiée
en comparant la hauteur h
mes d'hélium liquide mesurée avec la hauteur h
calc d'hélium liquide estimée par la modélisation, et de même en comparant la pression
P
mes dans l'enceinte mesurée avec la pression P
calc estimée par la modélisation, lorsqu'on fait varier l'ouverture des vannes CV002 et
CV005. Aux fins de cette vérification, la charge thermique dynamique Q
dynam pourra être maintenue à une valeur nulle et la vanne CV001 maintenue fermée. La figure
8A illustre un graphique de l'ouverture des vannes CV002 et CV005 en fonction du temps
(la valeur de 100% désignant une vanne complètement ouverte). La figure 8B illustre
l'évolution au cours du temps de la hauteur d'hélium liquide mesurée h
mes et estimée h
calc. Les deux courbes en pointillé représentent le calcul d'une incertitude. Plus précisément,
les deux courbes en pointillés représentent la hauteur d'hélium liquide estimée avec
une ouverture des vannes augmentée de 2%, et respectivement diminuée de 2%. On constate
que la hauteur h
calc d'hélium liquide calculée ne s'éloigne pas de plus de quelques pourcents de la hauteur
h
mes d'hélium liquide mesurée. De même, la figure 8C illustre l'évolution au cours du
temps de la pression d'hélium mesurée P
mes et estimée P
calc. Les deux courbes en pointillé représentent également le calcul d'une incertitude
obtenue en simulant une ouverture des vannes augmentée de 2%, et respectivement diminuée
de 2%. On constate que la pression P
calc d'hélium simulée ne s'éloigne pas de plus de quelques millibars de la pression d'hélium
mesurée P
mes. Cette vérification permet donc de valider la précision du modèle thermodynamique
établi.
[0066] Dans une troisième étape E3, on enregistre différents paramètres du système cryogénique
dans la mémoire de l'automate programmable industriel API. En particulier, on enregistre
la pression interne P fournie par le capteur de pression PT. On enregistre la hauteur
h d'hélium liquide dans l'enceinte fournie par le capteur de niveau LT. On enregistre
également les conditions aux limites, à savoir :
- la pression Pin d'hélium en amont des vannes d'admission CV001, CV002,
- la pression Pout d'hélium en aval de la vanne de sortie CV005.
- L'enthalpie spécifique d'entrée de la vanne d'alimentation : Hin.
[0067] Les conditions aux limites sont dépendantes du circuit de distribution 11 d'hélium
et peuvent être mesurées et/ou calculées au moyen de capteurs adaptés positionnés
dans le circuit de distribution 11. En variante, et pour simplifier les calculs, les
conditions aux limites pourraient être considérées comme des constantes. Une telle
simplification conduirait néanmoins à une estimation de la charge dynamique moins
précise.
[0068] La modélisation thermodynamique du cryomodule obtenue à l'issue de la deuxième étape
E2 comprend des équations complexes à résoudre. Afin de faciliter la résolution de
ces équations, l'invention prévoit dans une quatrième étape E4 une linéarisation du
modèle thermodynamique, c'est-à-dire une approximation du modèle thermodynamique par
un jeu d'équations différentielles linéaires autour d'un point de fonctionnement prédéterminé.
[0069] Dans une première sous étape E41, on définit un point de fonctionnement autour duquel
le modèle va être linéarisé. Ce point de fonctionnement peut être déterminé en fonction
des contraintes que doit respecter le cryomodule. Par exemple, on peut définir le
point de fonctionnement par une pression interne P du bain d'hélium égale à 1200mBar
et une hauteur d'hélium liquide égale à 90% de la hauteur totale de l'enceinte.
[0070] Dans une deuxième sous-étape E42, on définit les conditions aux limites du système
BC
in et BC
out et on cherche les valeurs d'ouverture des vannes
POSCV001,
POSCV002,
POSCV005 qui permettent au modèle de se stabiliser au point de fonctionnement préalablement
défini. La valeur de d'ouverture de la première vanne
POSCV001peut être fixée à 0% (c'est-à-dire complètement fermée) car cette vanne n'est utile
qu'au remplissage de l'enceinte. Deux régulateurs de type PID, c'est-à-dire de type
à action « Proportionnelle - Intégrale - Dérivée » peuvent être utilisés pour déterminer
les valeurs d'ouvertures des deux autres vannes
POSCV002,
POSCV005. Lors de cette étape, l'antenne radiofréquence peut, ou non, être activée en fonction
du point de fonctionnement autour duquel on souhaite linéariser le modèle thermodynamique.
[0071] Dans une troisième sous-étape E43, on représente le modèle thermodynamique comme
un système dynamique linéaire. Le système linaire est défini par la représentation
d'état suivante :

Avec :
Q
static désignant la charge statique, Q
dynam désignant la charge dynamique et H
in désignant l'enthalpie au sein du cryomodule.
- x désignant un vecteur d'état, celui-ci étant égal au vecteur de sortie y et étant
défini par :

où p désigne la masse volumique de l'hélium et u son énergie interne spécifique.
[0073] Grace au modèle thermodynamique préalablement établi lors de la deuxième étape E2,
on peut déterminer les valeurs des matrices d'état du système A, B, C et D. À cet
effet on peut utiliser une fonction linéarisation d'un outil de calcul telle que la
fonction « linearize » de Matlab®. En pratique, comme x = y, la matrice d'état C est
égale à une matrice unitaire et la matrice d'état D est égale à une matrice nulle.
Le système linéaire ainsi obtenu décrit le comportement thermodynamique du cryomodule
autour du point de fonctionnement défini à la sous-étape E41.
[0074] Dans une cinquième étape E5, on met en place un observateur OBS de charge thermique
tel qu'illustré sur la figure 8. Les entrées du modèle sont la hauteur h d'hélium
liquide, la pression interne P du bain d'hélium, la pression d'hélium P
out en aval de la vanne de sortie CV005, la pression d'hélium P
in en amont des vannes d'entrée CV001 et CV002, la position des trois vannes
POSCV001,
POSCV002,
POSCV005, l'enthalpie de l'hélium en amont des vannes d'entrée H
in. Toutes ces entrées sont mesurées à l'exception de H
in, valeur estimée à partir de deux capteurs situés en amont du cryomodule.
[0075] Dans une première sous-étape E51, on filtre les signaux fournis par les capteurs
de sorte à réduire leur bruit. Un filtrage du premier ordre de la forme suivante peut
être utilisé :

[0076] Dans lequel
τfiltre est une constante de temps du filtre, choisie en fonction d'une constante de temps
τprocédé du procédé, telle que :

[0077] Dans une deuxième sous-étape E52, on calcule la masse volumique p et l'énergie interne
u du bain d'hélium à partir du niveau d'hélium liquide h et de la pression interne
P dans l'enceinte. Dans un premier temps, le volume d'hélium liquide V
liq est calculé à partir de la mesure du niveau selon la formule V
liq = f
1(h) dans laquelle f
1 est la fonction donnant le volume d'hélium liquide V
liq en fonction de la hauteur indiquée par le capteur de niveau LT. A partir du volume
d'hélium liquide il est possible de déduire le titre massique X du fluide contenu
dans le cryomodule en utilisant la formule :

[0078] Dans laquelle
mgaz,
ρgaz,
Vgaz désignent respectivement la masse, la masse volumique et le volume d'hélium sous
forme gazeuse et
mliq,
ρliq,
Vliq désignent respectivement la masse, la masse volumique et le volume d'hélium sous
forme liquide.
[0079] Comme expliqué précédemment, la masse volumique de l'hélium liquide
ρliq peut être déterminée grâce à la troisième table de propriété de l'hélium, en fonction
de pression interne P et sachant qu'il s'agit de liquide saturé.
[0080] De manière analogue, la masse volumique de l'hélium gazeux
ρgaz peut être déterminée grâce à la quatrième table de propriété de l'hélium, en fonction
de la pression interne P et sachant qu'il s'agit de vapeur saturée.
[0081] On peut ainsi calculer le titre massique X, puis à, partir d'une cinquième et sixième
table de propriété de l'hélium, en déduire respectivement la masse volumique
ρ et l'énergie interne u du bain d'hélium.
[0082] Dans une troisième sous-étape E53, on calcule le débit
ṁ traversant chacune des vannes CV001, CV002 et CV005 conformément au schéma logique
illustré sur la figure 9. Ce calcul comprend une première sous étape E531 d'ajustement
de la mesure de la position d'une vanne et une deuxième sous-étape E532 de calcul
du débit massique au travers d'une vanne au moyen de la modélisation établie lors
de la sous-étape E21.
[0083] La sous-étape E531 vise à compenser des écarts et des dérives observées entre le
débit massique simulé et le débit massique observé au travers d'une vanne CV00i (i
étant égale à 1, 2 ou 5 selon la vanne considérée). Afin de compenser un écart entre
le débit massique simulé et le débit massique observé, on définit un offset statique
CV00
ioffsetstat appliqué sur la mesure de la position de la vanne i par la formule suivante :

où :

désigne la valeur nominale mesurée de la position de la vanne i au point de fonctionnement
défini à la sous-étape E41.

désigne la valeur nominale simulée de la position de la vanne i au point de fonctionnement
défini à la sous-étape E41.
[0084] Afin de corriger une dérive du débit massique traversant la vanne, on peut également
définir un offset dynamique par la formule suivante :

où :
- CV00iposmes désigne la valeur courante, mesurée de la position de la vanne i.

désigne la valeur nominale mesurée de la position de la vanne i au point de fonctionnement
défini à la sous-étape E41.
- gain désigne un coefficient de proportionnalité à régler à partir des mesures faites
sur le système.
[0085] La position corrigée
CV00
iposcorr de la vanne CV00i peut alors être obtenue par l'addition de la position mesurée,
de l'offset statique et de l'offset dynamique, soit par l'équation suivante :

[0086] Le bloc identifié par E531 sur la figure 10 illustre un schéma logique permettant
d'implémenter la formule de calcul de
CV00
iposcorr définie ci-dessus.
[0087] Lors de la deuxième sous-étape E532, on utilise la modélisation établie lors de la
sous-étape E21. Cette modélisation permet de calculer le débit massique au travers
d'une vanne CV00i en fonction de la position corrigée
CV00
iposcorr de la vanne CV00i calculée précédemment, de la pression en amont de la vanne P
in, de la pression en aval de la vanne P
out et de l'enthalpie en amont de la vanne H
in (supposée identique à l'enthalpie en aval de la vanne). La sous-étape E53 est ensuite
répétée pour chacune des vannes CV001, CV002 et CV005 du système de manière à déterminer
le débit massique traversant chacune de ces vannes en fonction de la valeur courante,
mesurée
CV00
iposmes de la position de la vanne i .
[0088] Dans une sous-étape E54, on implémente un observateur d'état, dit observateur de
Kalman, conformément au schéma défini à la figure 8. L'observateur d'état comprend
les matrices d'état A, B, C et D définies lors de la sous-étape E43. L désigne le
gain de l'observateur calculé pour le système. Le bloc constitué du symbole
∫ représente un intégrateur.
[0089] Le système résultant est un système linéaire invariant, pour lequel il existe un
estimateur de Kalman obtenu en résolvant une équation de Riccati aux différences,
par exemple en utilisant la fonction « Iqr » de Matlab® avec L = Iqr (A, C, Q, R)
dans laquelle Q et R sont des matrices de pondération. En d'autres termes, il s'agit
de trouver le gain L qui minimise le critère suivant :

[0090] Par exemple, les matrices Q et R peuvent s'écrire sous la forme suivante :

[0091] L'observateur d'état ainsi implémenté permet de déterminer et d'observer en temps
réel la charge dynamique Q
dynam.
[0092] Avantageusement la méthode de calcul ainsi développée peut être validée au moyen
d'une expérience sur un système cryogénique lorsque celui-ci comprend une cavité équipée
d'un dispositif de génération de chaleur tel qu'une résistance chauffante à alimentation
variable, également dénommée « chaufferette ». Une telle résistance permet de simuler
un apport de chaleur identique à celui qui serait produit par le fonctionnement de
la cavité dans un accélérateur de particules. La résistance chauffante délivre une
chaleur équivalente à la charge thermique dynamique Q
dynam. La figure 11A est un graphique représentant en fonction du temps, la puissance Q
ref délivrée par la résistance chauffante, la charge thermique dynamique Q1 calculée
sans appliquer de traitement sur les non linéarités (c'est-à-dire en utilisant le
modèle linéaire complet du cryomodule, intégrant la modélisation des vannes et le
calcul du niveau de liquide du bain), et la charge thermique dynamique Q2 calculée
par l'observateur d'état décrit précédemment. On observe que la puissance Q
ref fournie par la résistance chauffante est stable à une valeur de 47W. La valeur calculée
de la charge thermique dynamique Q1 oscille autour d'une puissance de 40W environ.
La valeur calculée de la charge thermique dynamique Q2 oscille autour d'une puissance
de 47W environ et converge plus rapidement vers cette valeur lorsque la résistance
chauffante est activée. Le régime transitoire de la charge thermique dynamique Q1
est réduit de 20 à 30 secondes en comparaison de la charge thermique dynamique Q2.
La figure 11B est un graphique représentant en fonction du temps l'erreur d'estimation
de la charge thermique dynamique Q1 et de la charge thermique dynamique Q2. L'erreur
est plus importante pour le calcul de la charge thermique dynamique Q1 que pour le
calcul de la charge thermique dynamique Q2. Cette expérience montre donc que la détermination
de la charge thermique dynamique réalisée par l'observateur d'état selon l'invention
est précise et fiable.
[0093] Dans une sixième étape E6, on calcule le facteur qualité Q
0 de la cavité 4. Le facteur qualité est une mesure du taux d'amortissement d'un système
oscillant. Le facteur qualité dépend de la température T de la paroi interne de la
cavité, supposée uniforme, du matériau de la cavité et de sa forme géométrique. Il
est défini par le rapport de l'énergie U stockée dans la cavité sur l'énergie dissipée
P
loss dans les parois de la cavité, par période d'oscillation. Le facteur qualité peut
donc être exprimé par la formule suivante :

[0094] Dans laquelle
ω désigne la pulsation de résonnance de la cavité.
[0095] Pour calculer l'énergie U stockée dans la cavité et l'énergie dissipée P
loss dans les parois de la cavité, on fait les hypothèses qu'un vide parfait règne dans
la cavité et que la résistivité des parois de la cavité est uniforme sur l'ensemble
de leurs surfaces. Sachant que l'énergie emmagasinée dans le champ électrique est
égale à l'énergie emmagasinée dans le champ magnétique, que l'énergie interne de la
cavité est calculée sur le volume et que les pertes sont concentrées sur la surface
de la cavité, on peut exprimer U et P
loss par des intégrales respectivement sur le volume de la cavité et sur la surface des
parois de la cavité. U et P
loss peuvent donc s'exprimer selon les formules suivantes :

[0096] Formules dans lesquelles :
- µ0 désigne la perméabilité magnétique du vide,
- Rs désigne la résistance de surface de la cavité et sa valeur dépend de la température
de la cavité,
- H désigne le champ magnétique à l'intérieur de la cavité.
[0097] Ainsi, le facteur qualité Q
0 peut s'exprimer sous la forme suivante :

[0098] Ou G est appelé facteur géométrique de la cavité, et est défini par :

[0099] Le facteur géométrique G est une donnée connue et invariante qui peut être directement
calculée à partir d'un modèle radiofréquence du cryomodule. En considérant le facteur
géométrique G connu, il faut encore trouver l'expression de la résistance de surface
Rs(T) pour en déduire le facteur qualité. La résistance de surface
Rs(T) vérifie l'équation suivante :

[0100] Equation dans laquelle :
- Rres désigne la résistance résiduelle du niobium,
- RBCS(T) est une résistance variable définie par l'équation suivante :

[0101] Equation dans laquelle :
- T désigne la température de la paroi interne de la cavité,
- A désigne une constante dépendant des propriétés du matériau utilisé pour la fabrication
des parois de la cavité, notamment du niobium,
- f désigne la fréquence de résonance de la cavité,
- Δ désigne l' « energy gap » du matériau utilisé pour la fabrication des parois de
la cavité,
- kB désigne la constante de Boltzmann.
[0102] Parmi tous ces paramètres, seule la température T est inconnue et sujette à des variations.
Tous les autres paramètres A, f, Δ, k
B sont des valeurs fixes connues ou mesurables.
[0103] La température T de la paroi interne de la cavité peut justement être estimée à partir
de la puissance dissipée dans la cavité et la température du bain d'hélium. En effet,
la chaleur dissipée sur la surface intérieure de la cavité est transmise au bain d'hélium
par conduction à travers les parois en niobium de la cavité. En considérant que la
cavité cède toute sa chaleur au bain d'hélium on déduit que l'énergie dissipée P
loss dans les parois de la cavité est égal à la charge thermique dynamique Q
dynam.
[0104] Par ailleurs, une équation de conduction thermique appliquée à aux parois de la cavité
s'exprime de la manière suivante :

[0105] Equation dans laquelle :
- λ(T) désigne la conductivité thermique du niobium,
- S désigne la surface d'échange entre la cavité et le bain d'hélium,
- e désigne l'épaisseur de la paroi de la cavité,
- Tcavité désigne la température de la paroi interne de la cavité,
- Tbain désigne la température du bain d'hélium.
[0106] La température du bain d'hélium
Tbain peut être interpolée à partir d'une table de propriété de l'hélium en connaissant
la pression interne P du bain d'hélium (régulée autour d'une valeur de 1200mBar) et
sachant qu'il s'agit de liquide saturé.
[0107] En remarque, la pression interne du bain d'hélium est supposée dans cette modélisation
comme uniforme. La modélisation pourrait être affinée en considérant la pression en
fonction de la hauteur du point considéré dans le bain d'hélium. Il serait alors possible
de définir un gradient de température dans le bain d'hélium plutôt que de considérer
une température uniforme.
[0108] Finalement, comme la conductivité thermique du niobium
λ(T), la surface S d'échange entre la cavité et le bain d'hélium, l'épaisseur e de la
paroi de la cavité sont des grandeurs connues, et, comme on dispose d'une estimation
de la charge thermique dynamique Qdynam fournie par l'observateur d'état, on peut
calculer la température de la paroi interne de la cavité T
cavité. Une fois cette température déterminée, il est possible de calculer la valeur de
la résistance variable
RBCS(T), puis la résistance de surface
RS(T), et enfin le facteur qualité Q
0.
[0109] Finalement, le facteur qualité Q0 peut s'exprimer par la formule suivante :

[0110] L'invention se rapporte également à un procédé de fonctionnement d'un accélérateur
de particules comprenant la mise en œuvre du procédé de détermination du facteur qualité
Q0 tel que décrit précédemment, en particulier des étapes E4 à E6 et une étape E7
de modification d'au moins un paramètre de fonctionnement de la cavité accélératrice
en fonction du facteur qualité Q0. Par exemple, le paramètre de fonctionnement peut
être une valeur de commande de puissance d'une onde radiofréquence émise dans la cavité
par l'antenne 8. La modification peut consister en une réduction de la valeur de la
commande de puissance jusqu'à l'arrêt de l'émission de l'onde radiofréquence si le
facteur qualité d'au moins une cavité accélératrice franchit un seuil prédéterminé,
les autres cavités de l'accélérateur, lorsqu'elles existent, pouvant continuer à fonctionner.
La réduction de la valeur de la commande peut éventuellement être poursuivie jusqu'à
l'arrêt de l'émission de l'onde radiofréquence. L'invention peut également être mise
en œuvre lors d'une montée en puissance de l'accélérateur de particules, par exemple
en augmentant progressivement la valeur de la commande en fonction du facteur qualité
déterminé. La modification peut également consister en toute autre modification de
la configuration et/ou du réglage de l'accélérateur de particules.
[0111] Concrètement, le moyen de régulation 12, intégré à l'automate de programmation industrielle
API, peut par exemple comparer l'estimation du facteur qualité avec une valeur seuil.
Si le facteur qualité Q0 est supérieur à un seuil prédéterminé, alors le moyen de
régulation 12 peut émettre un ordre de commande à destination du système radiofréquence
pour réduire la puissance des ondes émises par l'antenne 8 radiofréquence intégrée
à la cavité. Le moyen de régulation 12 peut éventuellement comprendre plusieurs seuils
au-delà desquels la puissance des ondes émises par l'antenne radiofréquence sera successivement
réduite jusqu'à atteindre une puissance nulle. Ainsi, on peut utiliser chaque cavité
à une puissance optimale compte tenu de son facteur qualité et sans impacter le fonctionnement
des autres cavités de l'accélérateur de particules. De préférence, le procédé de fonctionnement
comprend plusieurs itérations des étapes E4 à E7.
[0112] Au cours du fonctionnement, les structures de contrôle CTRL et Coord illustrées sur
les figures 4A, 4B, 4C et 4D utilisent l'estimation de la charge thermique agissant
sur le bain d'hélium pour réguler l'ouverture des vannes CV002 et CV005 et maintenir
le cryomodule autour d'un point de fonctionnement optimal.
Conclusion
[0113] Le principe de mesure illustré à travers cette invention est fondamentalement différent
de la mesure classique car il s'appuie sur l'état thermique du bain de fluide cryogénique
dans lequel est plongée la cavité et non sur une mesure directe du champ radiofréquence
dans la cavité.
[0114] La charge thermique est estimée à l'aide de capteurs propres au système cryogénique,
ainsi la détermination du facteur qualité Q
0 ne requiert pas de sonde de pick-up, d'un analyseur de réseau ou de tout autre moyen
dédié à la détermination du facteur qualité. De plus une estimation du facteur qualité
au cours du fonctionnement (et non en statique) est réalisée. Cette détermination
peut être réalisée en différé ou en temps réel mais toujours au cours du fonctionnement
de l'accélérateur de particules, contrairement à l'art antérieur. Autrement dit, l'invention
permet d'estimer le potentiel accélérateur d'une cavité accélératrice (la puissance
maximale admissible) à tout instant et d'adapter en conséquence la puissance émise
par l'antenne radiofréquence. Cette estimation ne nécessite aucune modification physique
du système en place, c'est-à-dire qu'elle ne nécessite pas d'ajout de capteur ou autre
dispositif de mesure et ne nécessite pas non plus la connaissance d'une tension appliquée
à la cavité. La connaissance du facteur qualité en particulier en temps réel permet
d'équilibrer à la fois le comportement cryogénique et le comportement du système radiofréquence
agissant sur la cavité pour permettre un fonctionnement fiable de l'accélérateur.
Le dispositif réalisé est suffisamment économe en puissance de calcul pour être implanté
sur un automate programmable.
[0115] Le procédé selon l'invention est exécutable dès l'injection d'une puissance radiofréquence
dans les cavités supraconductrices et avant même qu'il y ait un faisceau. Il est exécutable
aussi avec le faisceau et permet de diagnostiquer certaines anomalies possibles qui
engendreraient une charge thermique anormale dans les cavités.