(19)
(11) EP 3 662 506 A1

(12)

(43) Date de publication:
10.06.2020  Bulletin  2020/24

(21) Numéro de dépôt: 18743834.6

(22) Date de dépôt:  31.07.2018
(51) Int. Cl.: 
H01L 21/308(2006.01)
H01L 21/02(2006.01)
 H01L 21/467(2006.01)
H01L 21/306(2006.01)
(86) Numéro de dépôt:
PCT/EP2018/070687
(87) Numéro de publication internationale:
WO 2019/025418 (07.02.2019 Gazette  2019/06)
(84) Etats contractants désignés:
AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
Etats d'extension désignés:
BA ME
Etats de validation désignés:
KH MA MD TN

(30) Priorité: 31.07.2017 FR 1757294

(71) Demandeur: Centre National de la Recherche Scientifique - CNRS
75016 Paris (FR)

(72) Inventeurs:
  • ETCHEBERRY, Arnaud
    92700 Colombes (FR)
  • GONCALVES, Anne-Marie
    78160 Marly-le-Roi (FR)
  • PELOUARD, Jean-Luc
    75020 Paris (FR)
  • FREGNAUX, Mathieu
    78180 Montigny-le-Bretonneux (FR)
  • LOUBAT, Anaïs
    92800 Puteaux (FR)

(74) Mandataire: Lavoix 
2, place d'Estienne d'Orves
75441 Paris Cedex 09
75441 Paris Cedex 09 (FR)

   


(54) MASQUE PERFECTIONNÉ DE PROTECTION D'UN MATÉRIAU SEMICONDUCTEUR POUR DES APPLICATIONS DE GRAVURE LOCALISÉE