[0001] La présente invention concerne un composant horloger réalisé à partir d'un matériau
fragile, notamment du silicium. Elle porte aussi sur un mouvement horloger et une
pièce d'horlogerie, notamment une montre bracelet, comprenant au moins un tel composant
horloger.
[0002] Le silicium est un matériau présentant de multiples avantages pour la fabrication
de composants horlogers. Il permet d'une part la fabrication simultanée d'un grand
nombre de pièces de petite taille, avec une précision micrométrique. D'autre part,
il a une faible densité et un caractère diamagnétique. Ce matériau présente toutefois
un inconvénient : il ne possède pas, ou peu, de domaine de déformation plastique,
ce qui en fait un matériau relativement fragile. Une sollicitation mécanique ou un
choc peuvent conduire à une rupture du composant. Cette fragilité des composants horlogers
en silicium est accentuée par leur découpage dans un substrat de silicium, généralement
réalisé par une technique de gravure profonde, par exemple par gravure réactive ionique
profonde DRIE (de l'anglais « Deep Reactive Ion Etching »). Une spécificité de ce
type de gravure est de former des ouvertures ayant des flancs légèrement ridés qui
présentent en surface des défauts de planéité sous la forme de vaguelettes (en anglais
« scalloping »). Il en résulte une certaine rugosité des flancs gravés qui affaiblit
la résistance mécanique du composant. En outre, les défauts de planéité peuvent générer
des amorces de fissure, notamment en cas de sollicitation mécanique, et mener à la
casse du composant. En cas de rupture d'un composant horloger en silicium au sein
d'un mouvement horloger, il en résulte non seulement que le mouvement horloger ne
fonctionne plus, mais qu'il existe de plus un nombre important de débris de silicium
éparpillés au sein du mouvement horloger, provenant du composant horloger rompu.
[0003] Un objet de la présente invention est de proposer un composant horloger qui ne comprend
pas les inconvénients de l'état de la technique.
[0004] Plus précisément, un premier objet de l'invention est de proposer un composant horloger
qui ne produit pas une multitude de débris éparpillés en cas de rupture.
[0005] A cet effet, l'invention repose sur un composant horloger à base d'un matériau fragile
caractérisé en ce qu'il comprend au moins une partie de surface de matériau fragile
recouverte par un revêtement comprenant au moins deux couches en matériau élastique
séparées par une couche CR en matériau plus résistant que le matériau élastique.
[0006] L'invention est plus précisément définie par les revendications.
[0007] Ces objets, caractéristiques et avantages de la présente invention seront exposés
en détail dans la description suivante de modes de réalisation particuliers faits
à titre non-limitatif en relation avec les figures jointes parmi lesquelles :
La figure 1 représente schématiquement un composant horloger en coupe selon un premier
mode de réalisation de l'invention.
La figure 2 représente schématiquement un composant horloger en coupe selon un deuxième
mode de réalisation de l'invention.
La figure 3 représente un agrandissement d'une photographie d'une éprouvette au moment
de sa rupture, en matériau fragile recouvert d'un revêtement selon le mode de réalisation
de l'invention.
La figure 4 représente un agrandissement d'une photographie d'une éprouvette au moment
de sa rupture, en matériau fragile, similaire à celle de la figure 3 mais sans revêtement
selon le mode de réalisation de l'invention.
La figure 5 représente la résistance obtenue sur différents lots de composants horlogers,
mettant en évidence les résultats positifs obtenus par la mise en œuvre d'un mode
de réalisation de l'invention.
[0008] Comme cela a été présenté précédemment, l'invention s'intéresse particulièrement
aux composants horlogers à base de matériaux fragiles, c'est-à-dire susceptibles de
casser en générant plusieurs débris qui se dissocient du composant horloger et s'éparpillent
dans un mouvement horloger. Nous entendons donc par matériau fragile un matériau non
ductile qui se rompt sans déformation plastique préalable et rémanente. Ces matériaux
sont préférentiellement micro-usinables, c'est-à-dire obtenus à partir de techniques
de micro-fabrication faisant intervenir la photolithographie. L'invention est particulièrement
adaptée au silicium, sous toute forme, par exemple incluant un silicium dopé ou poreux,
mais pourrait en variante aussi être adaptée pour d'autres matériaux comme par exemple
le diamant, le quartz, le verre, le carbure de silicium, la céramique à base d'alumine
ou de zircone, les métaux amorphes fragiles ou le saphir. Un tel composant horloger
peut être intégralement ou quasi intégralement formé dans ledit matériau fragile ou
cassant, en faisant abstraction de son fin revêtement qui sera décrit par la suite.
En variante, un composant horloger pourrait être à base d'un tel matériau, c'est-à-dire
comprendre en poids au moins 51% d'un tel matériau, voire au moins 80% d'un tel matériau.
Il peut donc s'agir d'un matériau hybride qui présente un effet fragile ou cassant.
Nous utiliserons le terme de « matériau fragile » de manière abusive pour désigner
tout le cœur du composant horloger, incluant les parties dudit cœur éventuellement
non directement dans le matériau fragile à la base du composant horloger.
[0009] Le concept de l'invention consiste à recouvrir au moins une partie de la surface
du composant horloger, de préférence la surface de la zone la plus sollicitée en traction
du composant horloger, à l'aide d'un revêtement multicouches comprenant au moins deux
couches en matériau élastique séparées par une couche en matériau plus résistant que
le matériau élastique. Un tel revêtement forme une couche de protection du composant
horloger pour empêcher l'éparpillement de débris en cas de rupture du composant en
maintenant les différents morceaux entre eux. Dans le cas d'un revêtement s'étendant
sur sensiblement tout le pourtour du composant horloger ou sur les zones qui seront
sollicitées en déformation, on considère qu'un tel revêtement forme une encapsulation
du composant horloger.
[0010] La figure 1 illustre schématiquement un composant horloger 1 selon un premier mode
de réalisation de l'invention. Ce composant horloger 1 comprend un volume principal
ou cœur 2 en silicium, provenant par exemple d'une étape de découpe d'une plaquette
en silicium. Il comprend de plus un revêtement 10 qui s'étend sur l'intégralité de
sa surface extérieure, sur tout son pourtour, plus particulièrement sur le pourtour
de son cœur 2. Selon un procédé de fabrication avantageux qui sera décrit par la suite,
cette surface extérieure est formée par une découpe d'une plaquette, et présente principalement
trois surfaces. Une première surface 3 est sensiblement plane et correspond à la face
supérieure de la plaquette découpée, une deuxième surface 4 opposée, sensiblement
plane et parallèle à la première surface 3, correspond à la face inférieure de la
plaquette découpée. Enfin, une troisième surface 5 forme un flanc, qui relie de manière
continue les deux surfaces 3, 4 susmentionnées.
[0011] Le revêtement 10 est un revêtement multicouches, qui comprend une première couche
CE, en contact avec le cœur 2 en silicium du composant horloger 1, dans un matériau
élastique 11. Il comprend une troisième couche CE extérieure dans le même matériau
élastique 11. Ces deux couches sont séparées par une deuxième couche CR en matériau
plus résistant 12, Dans ce premier mode de réalisation, les couches CE sont en parylène
et la couche CR est en oxyde d'aluminium déposé par ALD.
[0012] La figure 2 illustre un deuxième mode de réalisation, qui diffère du premier en ce
que la couche CR intermédiaire du revêtement en matériau plus résistant 12, en oxyde
de silicium, présente une épaisseur variable au niveau du flanc 5. Cette couche intermédiaire
présente de plus une épaisseur constante au niveau des première et deuxième surfaces
3, 4, cette épaisseur étant plus importante au niveau de la première surface 3 que
de la deuxième surface 4. Les deux couches CE en matériau élastique 11 complètent
cette couche intermédiaire pour former un revêtement global d'épaisseur constante.
Dans ce second mode de réalisation, les couches CE sont en parylène et la couche CR
est en oxyde de silicium déposé par PVD.
[0013] Sur les figures 1 et 2, l'épaisseur du revêtement 10 n'est pas à l'échelle, elle
est fortement augmentée afin de mieux visualiser ce revêtement, qui est en réalité
très fin. Son épaisseur E est susceptible de varier dans une certaine plage. D'une
manière générale, le revêtement 10 comprend au moins une couche CE en matériau élastique
11 d'épaisseur supérieure ou égale 0.05 µm, voire supérieure ou égale 0.3 µm. Le revêtement
10 comprend aussi avantageusement au moins une couche CE en matériau élastique 11
d'épaisseur inférieure ou égale à 5 µm, voire inférieure ou égale à 3 µm. Finalement,
la somme des épaisseurs des différentes couches CE en matériau élastique du revêtement
10 est avantageusement supérieure ou égale à 0.1 µm, voire à 0.6 µm, et/ou inférieure
ou égale à 20 µm, voire inférieure ou égale à 12 µm. En remarque, les différentes
couches CE en matériau élastique 11 peuvent présenter une même épaisseur ou non. Cette
épaisseur peut être variable ou non.
[0014] D'autre part, une couche CR en matériau plus résistant 12 du revêtement 10 présente
une épaisseur supérieure ou égale 15 nm, voire supérieure ou égale 30 nm. Le revêtement
10 comprend aussi avantageusement une couche en matériau plus résistant 12 d'épaisseur
inférieure ou égale à 150 nm voire inférieure ou égale à 100 nm, voire inférieure
ou égale à 70 nm. Finalement, la somme des épaisseurs des différentes couches CR en
matériau plus résistant 12 est supérieure ou égale à 15 nm, voire supérieure ou égale
30 nm, et/ou est inférieure ou égale à 450 nm, voire inférieure ou égale à 300 nm,
voire inférieure ou égale à 210 nm.
[0015] En complément, les matériaux du revêtement 10 peuvent être différents de ceux utilisés
dans les modes de réalisation décrits. Dans tous les cas, le matériau élastique 11
présente un module d'élasticité inférieur ou égal à 10 GPa, voire inférieur ou égal
à 5 GPa, voire inférieur ou égal à 3 GPa. En variante ou complément, le matériau élastique
11 présente un allongement à la rupture supérieur ou égal à 10%, voire supérieur ou
égal à 20%, voire supérieure ou égal à 30%. Ce matériau élastique 11 peut donc être
du parylène, ou en variante un PTFE, une résine acrylique, du silicone ou un polymère
de la famille des uréthanes. Différentes couches en matériau élastique 11 du même
revêtement 10 peuvent être dans le même matériau élastique ou dans un matériau élastique
différent.
[0016] D'autre part, le matériau plus résistant 12 est dit « plus résistant » en comparaison
avec la résistance du matériau dit « élastique ». Il présente un module d'élasticité
supérieur ou égal à 30 GPa, voire supérieur ou égal à 45 GPa, voire supérieur ou égal
à 60 GPa. En variante, il présente un module d'élasticité intermédiaire entre celui
du matériau fragile du cœur du composant horloger et celui du matériau élastique de
la couche élastique. Il présente avantageusement un module d'élasticité supérieur
ou égal à celui d'une couche adjacente en matériau élastique 11 augmenté de 50%. Ce
matériau plus résistant 12 peut être un métal ou un alliage ou du graphite ou un oxyde,
plus particulièrement de l'oxyde de silicium ou du nitrure de silicium. Différentes
couches en matériau plus résistant 12 du même revêtement 10 peuvent être dans le même
matériau ou dans un matériau différent.
[0017] Naturellement, l'invention ne se limite pas aux modes de réalisation décrits. Ainsi,
le revêtement 10 peut comprendre tout autre nombre de couches que les trois couches
représentées. Il peut par exemple comprendre au moins deux, voire au moins trois,
ou quatre, couches en matériau élastique 11 et au moins une, voire au moins deux,
ou trois, couches en matériau plus résistant 12. Afin d'en limiter l'influence sur
les dimensions et le comportement du composant, il comprend avantageusement au maximum
quatre couches en matériau élastique 11 et au maximum trois couches en matériau plus
résistant 12, mais pourrait en comprendre plus. Il comprend avantageusement une alternance
de couches en matériau élastique 11 et de couches en matériau plus résistant 12. Il
comprend de plus avantageusement une première couche intérieure en matériau élastique
11 et une dernière couche extérieure en matériau élastique 11. Les adjectifs « intérieur
» et « extérieur » sont utilisés en référence à toute direction allant du cœur 2 du
composant horloger 1 vers l'extérieur du composant horloger 1.
[0018] L'invention est particulièrement intéressante pour un composant horloger 1 choisi
parmi une roue dentée, une roue d'échappement, une aiguille, une cheville de plateau,
une ancre, une bascule, une levée, un ressort plat, comme un spiral, un système à
lame flexible ou un autre composant à fonction de ressort.
[0019] Les figures 3 et 4 illustrent l'effet particulier d'une couche en matériau élastique
11 sur un composant horloger 1 en silicium. La figure 3 illustre la rupture d'une
éprouvette en silicium recouverte par un revêtement selon le deuxième mode de réalisation
tel qu'illustré par la figure 2. La figure 4 illustre en comparaison la rupture d'une
même éprouvette en silicium oxydé sans revêtement. Comme cela apparait sur la figure
4, une multitude de débris 22 sont éparpillés. Au contraire, la même éprouvette recouverte
d'une couche selon le deuxième mode de réalisation permet d'empêcher cet éparpillement
de débris, comme illustré sur la figure 3. Un premier avantage d'utiliser plusieurs
couches de parylène est de fiabiliser son effet : si une couche est endommagée, il
reste a priori un effet garanti par une autre couche. D'autre part, au moins une couche
de parylène ne se trouve pas directement en contact avec l'extérieur, et est protégée
d'éventuelles agressions extérieures par au moins une couche plus rigide du revêtement.
[0020] Des essais comparatifs de flexion ont été réalisés sur des éprouvettes en silicium
obtenues par découpage DRIE dans une plaquette en silicium, selon les méthodes connues
de l'homme de métier. En remarque, en raison du caractère fragile de la matière, les
mêmes traitements sur une même éprouvette aboutissent à des résultats différents d'un
composant horloger à un autre identique subissant a priori les mêmes contraintes.
Pour cette raison, il est nécessaire de procéder à des tests sur des lots d'éprouvettes
identiques, puis d'en faire une analyse statistique pour constater ou non un effet.
[0021] Les résultats obtenus pour six lots différents d'éprouvettes sont illustrés sur la
figure 5. La résistance à la rupture à la flexion, représentée en ordonnée, de chaque
composant (éprouvette) de chaque lot a été mesurée. Cette figure illustre notamment
pour chaque lot la résistance à la rupture moyenne, minimale et maximale.
[0022] Les deux premiers lots OXY1 et OXY3 portent sur 30 éprouvettes en silicium oxydé,
comprenant une couche d'oxyde de silicium en surface d'épaisseurs respectives de 1
µm et de 3 µm. La valeur moyenne de la résistance en flexion de ces deux lots est
autour de 2000 MPa. D'autre part, en cas de rupture, toutes ces éprouvettes génèrent
de multiples débris éparpillés.
[0023] Les deux lots suivants correspondent à des éprouvettes semblables au lot OXY3 mais
recouvertes d'un revêtement de parylène pur, monocouche et uniforme, d'épaisseurs
respectives de 0.5 µm et de 5 µm. De manière surprenante, l'ajout d'un tel revêtement
en matériau élastique, peu résistant, permet d'augmenter significativement la résistance
à la rupture des éprouvettes. En effet, la résistance moyenne est de l'ordre de 5000
MPa.
[0024] Le cinquième lot correspond à des éprouvettes en silicium recouvertes d'un revêtement
métallique, comprenant une couche d'accroche de titane d'épaisseur 15 nm et une couche
d'or de 80 nm. Ce revêtement résistant permet d'atteindre une légère augmentation
de la résistance moyenne par rapport à celle des deux premiers lots, mais de manière
nettement inférieure aux deux lots utilisant un revêtement en parylène. D'autre part,
un tel revêtement ne retient pas les débris lors de la rupture des éprouvettes.
[0025] Enfin, le dernier lot correspond au deuxième mode de réalisation de l'invention,
comprenant un revêtement constitué d'alternances de quatre couches de parylène d'environ
1 µm, et de trois couches intermédiaires d'oxyde de silicium d'épaisseur de 0.01 µm,
pour une épaisseur totale de revêtement variant entre 3.7 et 4.7 µm. Il apparaît que
la résistance moyenne de ce lot dépasse 6000 MPa avec des valeurs minimales au-dessus
de 4000 MPa : l'invention permet donc d'optimiser la résistance d'un composant horloger.
L'invention porte donc aussi sur un composant horloger présentant une résistance moyenne
supérieure ou égale à 6000 MPa, et/ou présentant une résistance minimale supérieure
ou égale à 3000 MPa, voire supérieure ou égale à 4000 MPa. D'autre part, l'invention
permet de limiter l'éparpillement de débris.
[0026] Finalement, il apparaît donc qu'un revêtement associant un matériau souple (un matériau
élastique tel que défini précédemment) avec un matériau plus résistant (de même tel
que défini précédemment) permet de profiter de la synergie entre les deux matériaux,
pour non seulement répondre au problème technique de non éparpillement de débris en
cas de rupture, effet protecteur efficace grâce au matériau élastique, mais aussi
permet en même temps d'optimiser la résistance du composant horloger, notamment grâce
à l'ajout d'un matériau plus résistant au matériau élastique dans l'épaisseur du revêtement
10. Ce comportement très avantageux était imprévisible et s'avère donc surprenant.
[0027] L'invention porte aussi sur un mouvement horloger et une pièce d'horlogerie en tant
que tels, comprenant un ou plusieurs composants horlogers tels que décrits précédemment.
[0028] Le procédé de fabrication d'un composant horloger selon l'invention comprend une
première phase de fabrication d'une ébauche d'un composant horloger, de manière connue.
Par exemple, cette première phase peut comprendre une étape initiale consistant à
se munir d'un substrat en matériau micro-usinable fragile. Ce substrat est par exemple
une plaquette (ou « wafer » selon la terminologie anglo-saxonne) de silicium. Lors
d'une étape suivante, on recouvre d'un revêtement protecteur la plaquette, notamment
au moins une de ses deux faces dites supérieure et inférieure, par exemple par une
résine photosensible. Le procédé se poursuit par une étape de formation d'un motif
dans le revêtement protecteur. Le motif est réalisé en créant des ouvertures au travers
de la couche de résine photosensible. Le revêtement protecteur ménageant des ouvertures
constitue un masque de protection. Une étape de gravure de la plaquette de silicium
à travers le masque de protection, notamment par gravure ionique réactive profonde
DRIE (« Deep Reactive Ion Etching » selon la terminologie anglo-saxonne) permet ensuite
de creuser des ouvertures dans le silicium au droit de la ou des ouverture(s) du masque,
afin d'obtenir une ébauche de composant horloger en silicium. En variante, une telle
ébauche de composant horloger peut être formée par tout autre procédé que celui mentionné
ci-dessus, par exemple par une technique de découpe laser. L'ébauche obtenue forme
le cœur 2 du composant horloger 1. Elle présente une forme très proche du composant
horloger final.
[0029] L'invention s'intéresse à une deuxième phase de fabrication, consistant à déposer
un revêtement tel que décrit précédemment sur tout ou partie de la surface de ladite
ébauche.
[0030] L'étape de dépôt d'un revêtement est réalisée par une alternance de dépôts de couches
respectivement en matériau élastique et en matériau plus résistant.
[0031] Cette étape de dépôt peut se faire de manière uniforme, par évaporation, CVD ou ALD.
En variante, elle peut se faire par une technique directionnelle, comme un dépôt physique
en phase vapeur, aussi dénommée par son sigle PVD (pour « Physical Vapor Déposition
») ou un dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma, aussi dénommée par son
sigle PECVD (pour « Plama-Enhanced Chemical Vapor Déposition »). Dans un tel cas,
le flux de revêtement est orienté sur la première surface 3, perpendiculairement à
cette surface. Une telle méthode directionnelle permet d'aboutir au deuxième mode
de réalisation de la figure 2.
[0032] Le procédé de fabrication peut comprendre une étape intermédiaire, avant l'étape
de dépôt du revêtement, consistant en une étape de lissage et/ou d'oxydation thermique
de la surface de l'ébauche du composant horloger. Ainsi, le cœur 2 du composant horloger
peut être recouvert d'une couche d'oxydation, par exemple un oxyde de silicium, avant
le dépôt du revêtement selon l'invention.
1. Composant horloger à base d'un matériau fragile caractérisé en ce qu'il comprend au moins une partie de surface de matériau fragile recouverte par un revêtement
(10) comprenant au moins deux couches CE en matériau élastique (11) séparées par une
couche CR en matériau plus résistant (12) que le matériau élastique (11).
2. Composant horloger selon la revendication précédente, caractérisé en ce que ledit matériau élastique (11) desdites deux couches CE est le même ou est un matériau
différent.
3. Composant horloger selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que ledit matériau élastique (11) desdites deux couches CE présente un module d'élasticité
inférieur ou égal à 10 GPa, voire inférieur ou égal à 5 GPa, voire inférieur ou égal
à 3 GPa et/ou en ce que ledit matériau élastique (11) desdites deux couches CE présente un allongement à
la rupture supérieur ou égal à 10%, voire supérieur ou égal à 20%, voire supérieure
ou égal à 30%.
4. Composant horloger selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le revêtement comprend au moins une couche CE en matériau élastique (11) qui est
du parylène ou un PTFE, une résine acrylique, du silicone ou un polymère de la famille
des uréthanes.
5. Composant horloger selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le revêtement comprend au moins une couche CE en matériau élastique (11) d'épaisseur
supérieure ou égale à 0.05 µm, voire supérieure ou égale à 0.3 µm, et/ou inférieure
ou égale à 5 µm, voire inférieure ou égale à 3 µm, et/ou en ce que la somme des épaisseurs des différentes couches CE en matériau élastique (11) du
revêtement est supérieure ou égale à 0.1 µm, voire supérieure ou égale à 0.6 µm, et/ou
inférieure ou égale à 20 µm, voire inférieure ou égale à 12 µm.
6. Composant horloger selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que ledit matériau plus résistant (12) présente un module d'élasticité supérieur ou égal
à 30 GPa, voire supérieur ou égal à 45 GPa, voire supérieur ou égal à 60 GPa, et/ou
présente un module d'élasticité supérieur ou égal à celui d'une couche adjacente en
matériau élastique (11) augmenté de 50%, et/ou présente un module d'élasticité supérieur
intermédiaire entre celui d'une couche adjacente en matériau élastique et celui dudit
matériau fragile.
7. Composant horloger selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que ledit matériau plus résistant est un métal ou un alliage ou un oxyde ou un nitrure,
plus particulièrement de l'oxyde de silicium ou du nitrure de silicium.
8. Composant horloger selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que ladite couche CR en matériau plus résistant (12) présente une épaisseur es supérieure
ou égale à 15 nm, voire supérieure ou égale 30 nm, et/ou inférieure ou égale à 150
nm, voire inférieure ou égale à 100 nm, voire inférieure ou égale à 70 nm, et/ou
en ce que l'épaisseur totale de la ou des couches CR en matériau plus résistant (12) du revêtement
(10) est supérieure ou égale à 15 nm, voire supérieure ou égale 30 nm, et/ou est inférieure
ou égale à 450 nm, voire inférieure ou égale à 300 nm, voire inférieure ou égale à
210 nm.
9. Composant horloger selon l'une des revendications précédentes,
caractérisé en ce que le revêtement (10) présente tout ou partie des caractéristiques suivantes :
- il s'étend sur toute la surface du pourtour du matériau fragile, notamment sur toute
la surface extérieure du composant horloger ; et/ou
- chaque couche en matériau élastique (11) présente une épaisseur constante ou variable
; et/ou
- la ou les couches en matériau plus résistant (12) présente(nt) une épaisseur constante
ou variable, notamment variable sur les flancs (5) ; et/ou
- il comprend une alternance de couches CE en matériau élastique (11) et de couches
CR en matériau plus résistant (12) ; et/ou
- il comprend au moins deux, ou trois, ou quatre, couches en matériau élastique (11)
et au moins une, ou deux, ou trois, couches en matériau plus résistant (12) ; et/ou
- il comprend une première couche intérieure en matériau élastique (11) et une dernière
couche extérieure en matériau élastique (11).
10. Composant horloger selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le matériau fragile est du silicium, du silicium recouvert d'oxyde, du quartz, du
verre, du carbure de silicium, une céramique à base d'alumine ou de zircone, ou du
diamant, du saphir, ou des métaux amorphes fragiles.
11. Composant horloger selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il est l'un des éléments du groupe comportant une roue dentée, une roue d'échappement,
une aiguille, une cheville de plateau, une ancre, une bascule, une levée, un ressort
plat, comme un spiral, un système à lame flexible ou un autre composant à fonction
de ressort.
12. Composant horloger selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il présente une résistance moyenne supérieure ou égale à 6000 MPa, et/ou en ce que le composant horloger présente une résistance minimale supérieure ou égale à 3000
MPa.
13. Mouvement horloger, caractérisé en ce qu'il comprend un composant horloger selon l'une des revendications précédentes.
14. Pièce d'horlogerie, caractérisée en ce qu'elle comprend un composant horloger selon l'une des revendications 1 à 12 ou un mouvement
horloger selon la revendication précédente.