(19)
(11) EP 3 802 909 A1

(12)

(43) Veröffentlichungstag:
14.04.2021  Patentblatt  2021/15

(21) Anmeldenummer: 19729690.8

(22) Anmeldetag:  04.06.2019
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC): 
C23C 14/50(2006.01)
C23C 16/32(2006.01)
 C23C 16/458(2006.01)
C30B 25/12(2006.01)
(86) Internationale Anmeldenummer:
PCT/EP2019/064392
(87) Internationale Veröffentlichungsnummer:
WO 2019/233965 (12.12.2019 Gazette  2019/50)
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
Benannte Erstreckungsstaaten:
BA ME
Benannte Validierungsstaaten:
KH MA MD TN

(30) Priorität: 06.06.2018 DE 102018113400

(71) Anmelder: Aixtron SE
52134 Herzogenrath (DE)

(72) Erfinder:
  • WRIGHT, Benjamin David
    Cambridge Cambridgeshire CB1 3PJ (GB)
  • O'NEIL, Barry
    52134 Herzogenrath (DE)

(74) Vertreter: Grundmann, Dirk et al
Rieder & Partner mbB Patentanwälte - Rechtsanwalt Yale-Allee 26
42329 Wuppertal
42329 Wuppertal (DE)

   


(54) CVD REAKTOR MIT TRAGRING ZUM SUBSTRATHANDHABEN UND VERWENDUNG EINES TRAGRINGS AN EINEM CVD REAKTOR