(19)
(11) EP 3 810 827 A1

(12)

(43) Veröffentlichungstag:
28.04.2021  Patentblatt  2021/17

(21) Anmeldenummer: 19731699.5

(22) Anmeldetag:  14.06.2019
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC): 
C23C 16/458(2006.01)
C23C 16/52(2006.01)
H01L 21/687(2006.01)
 C23C 16/46(2006.01)
H01L 21/67(2006.01)
H01L 21/66(2006.01)
(86) Internationale Anmeldenummer:
PCT/EP2019/065721
(87) Internationale Veröffentlichungsnummer:
WO 2019/243196 (26.12.2019 Gazette  2019/52)
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
Benannte Erstreckungsstaaten:
BA ME
Benannte Validierungsstaaten:
KH MA MD TN

(30) Priorität: 19.06.2018 DE 102018114706
28.05.2019 DE 102019114249

(71) Anmelder: Aixtron SE
52134 Herzogenrath (DE)

(72) Erfinder:
  • LAUFFER, Peter Sebald
    52070 Aachen (DE)
  • RUDA Y WITT, Francisco
    52249 Eschweiler (DE)

(74) Vertreter: Grundmann, Dirk et al
Rieder & Partner mbB Patentanwälte - Rechtsanwalt Yale-Allee 26
42329 Wuppertal
42329 Wuppertal (DE)

   


(54) ANORDNUNG ZUM MESSEN DER OBERFLÄCHENTEMPERATUR EINES SUSZEPTORS IN EINEM CVD-REAKTOR