(19)
(11) EP 4 069 881 A1

(12)

(43) Date de publication:
12.10.2022  Bulletin  2022/41

(21) Numéro de dépôt: 20817183.5

(22) Date de dépôt:  04.12.2020
(51) Int. Cl.: 
C23C 16/24(2006.01)
C23C 16/30(2006.01)
H01L 21/02(2006.01)
C23C 16/28(2006.01)
C23C 16/515(2006.01)
(52) Classification Coopérative des Brevets (CPC) :
C23C 16/515; H01L 21/02532; H01L 21/02592; H01L 21/0259; H01L 21/0262; C23C 16/24
(86) Numéro de dépôt:
PCT/EP2020/084712
(87) Numéro de publication internationale:
WO 2021/110956 (10.06.2021 Gazette  2021/23)
(84) Etats contractants désignés:
AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
Etats d'extension désignés:
BA ME
Etats de validation désignés:
KH MA MD TN

(30) Priorité: 06.12.2019 FR 1913888

(71) Demandeurs:
  • Centre national de la recherche scientifique
    75016 Paris (FR)
  • Ecole Polytechnique
    91120 Palaiseau (FR)
  • Université d'Orléans
    45100 Orléans (FR)

(72) Inventeurs:
  • VACH, Holger
    78310 Coignieres (FR)
  • JARDALI, Fatme
    91120 Palaiseau (FR)
  • BONNASSIEUX, Yvan
    75013 Paris (FR)
  • BOUFENDI, Laïfa
    45560 Saint Denis En Val (FR)

(74) Mandataire: IPAZ 
Bâtiment Platon Parc Les Algorithmes
91190 Saint-Aubin
91190 Saint-Aubin (FR)

   


(54) PROCEDE DE PRODUCTION DE NANOCLUSTERS DE SILICIUM ET/OU GERMANIUM PRESENTANT UN MOMENT DIPOLAIRE ELECTRIQUE ET/OU MAGNETIQUE PERMANENT