(19)
(11) EP 4 150 644 A1

(12)

(43) Veröffentlichungstag:
22.03.2023  Patentblatt  2023/12

(21) Anmeldenummer: 21722416.1

(22) Anmeldetag:  27.04.2021
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC): 
G21K 1/06(2006.01)
G03F 7/20(2006.01)
(52) Gemeinsame Patentklassifikation (CPC) :
G21K 1/062; G21K 2201/067; H05G 2/005; G03F 7/7015; G03F 7/70316; G03F 7/70925; G03F 7/70175
(86) Internationale Anmeldenummer:
PCT/EP2021/060921
(87) Internationale Veröffentlichungsnummer:
WO 2021/228545 (18.11.2021 Gazette  2021/46)
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
Benannte Erstreckungsstaaten:
BA ME
Benannte Validierungsstaaten:
KH MA MD TN

(30) Priorität: 14.05.2020 DE 102020206117

(71) Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH
73447 Oberkochen (DE)

(72) Erfinder:
  • GONCHAR, Anastasia
    89075 Ulm (DE)

(74) Vertreter: Kohler Schmid Möbus Patentanwälte 
Partnerschaftsgesellschaft mbB Gropiusplatz 10
70563 Stuttgart
70563 Stuttgart (DE)

   


(54) OPTISCHES ELEMENT, EUV-LITHOGRAPHIESYSTEM UND VERFAHREN ZUM BILDEN VON NANOPARTIKELN