(19)
(11) EP 4 162 549 A1

(12)

(43) Veröffentlichungstag:
12.04.2023  Patentblatt  2023/15

(21) Anmeldenummer: 21730886.5

(22) Anmeldetag:  02.06.2021
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC): 
H01M 4/38(2006.01)
H01M 4/134(2010.01)
H01M 4/36(2006.01)
H01M 10/0525(2010.01)
H01M 4/04(2006.01)
H01M 4/1395(2010.01)
H01M 4/62(2006.01)
H01M 4/02(2006.01)
(52) Gemeinsame Patentklassifikation (CPC) :
H01M 4/386; H01M 4/625; H01M 4/366; H01M 4/1395; H01M 4/134; H01M 10/0525; H01M 4/0471; H01M 2004/027; Y02E 60/10
(86) Internationale Anmeldenummer:
PCT/EP2021/064851
(87) Internationale Veröffentlichungsnummer:
WO 2021/245166 (09.12.2021 Gazette  2021/49)
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
Benannte Erstreckungsstaaten:
BA ME
Benannte Validierungsstaaten:
KH MA MD TN

(30) Priorität: 03.06.2020 DE 102020003354

(71) Anmelder: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
80686 München (DE)

(72) Erfinder:
  • GENTISCHER, Harald
    79110 Freiburg im Breisgau (DE)
  • BIRO, Daniel
    79292 Pfaffenweiler (DE)
  • HABERZETTL, Peter
    73733 Esslingen (DE)
  • DREWS, Mathias
    79100 Freiburg (DE)
  • HORZEL, Jörg
    79194 Gundelfingen (DE)
  • DOLD, Lukas
    79297 Winden im Elztal (DE)

(74) Vertreter: Fuchs Patentanwälte Partnerschaft mbB 
Tower 185 Friedrich-Ebert-Anlage 35-37
60327 Frankfurt am Main
60327 Frankfurt am Main (DE)

   


(54) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES ELEKTRODENMATERIALS AUF SILICIUMBASIS