(19)
(11) EP 4 291 688 A1

(12)

(43) Veröffentlichungstag:
20.12.2023  Patentblatt  2023/51

(21) Anmeldenummer: 22709603.9

(22) Anmeldetag:  04.02.2022
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC): 
C23C 16/455(2006.01)
C23C 16/44(2006.01)
C23C 16/458(2006.01)
C30B 25/14(2006.01)
(52) Gemeinsame Patentklassifikation (CPC) :
C23C 16/45508; C23C 16/45572; C23C 16/4584; C23C 16/4401
(86) Internationale Anmeldenummer:
PCT/EP2022/052660
(87) Internationale Veröffentlichungsnummer:
WO 2022/171529 (18.08.2022 Gazette  2022/33)
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
Benannte Erstreckungsstaaten:
BA ME
Benannte Validierungsstaaten:
KH MA MD TN

(30) Priorität: 11.02.2021 DE 102021103245

(71) Anmelder: Aixtron SE
52134 Herzogenrath (DE)

(72) Erfinder:
  • BEE, Levin David Richard Johannes
    4730 Hauset (BE)

(74) Vertreter: Grundmann, Dirk et al
Rieder & Partner mbB Patentanwälte - Rechtsanwalt Yale-Allee 26
42329 Wuppertal
42329 Wuppertal (DE)

   


(54) CVD-REAKTOR MIT EINEM IN EINER VORLAUFZONE ANSTEIGENDEN PROZESSKAMMERBODEN