(19)
(11) EP 4 356 066 A1

(12)

(43) Veröffentlichungstag:
24.04.2024  Patentblatt  2024/17

(21) Anmeldenummer: 23754137.0

(22) Anmeldetag:  26.06.2023
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC): 
G01B 11/06(2006.01)
 G02B 6/26(2006.01)
(52) Gemeinsame Patentklassifikation (CPC) :
G01B 11/0608; G01B 2210/50; G02B 6/262; G02B 6/0005
(86) Internationale Anmeldenummer:
PCT/DE2023/200128
(87) Internationale Veröffentlichungsnummer:
WO 2024/002439 (04.01.2024 Gazette  2024/01)
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC ME MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
Benannte Erstreckungsstaaten:
BA
Benannte Validierungsstaaten:
KH MA MD TN

(30) Priorität: 30.06.2022 DE 102022206728

(71) Anmelder: Micro-Epsilon Optronic GmbH
01465 Langebrück (DE)

(72) Erfinder:
  • MEJA, Peter
    01109 Dresden (DE)

(74) Vertreter: Ullrich & Naumann PartG mbB 
Schneidmühlstrasse 21
69115 Heidelberg
69115 Heidelberg (DE)

   


(54) EINRICHTUNG ZUR LEITUNG VON SPEKTRAL ZU ANALYSIERENDEM MESSLICHT UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER SOLCHEN EINRICHTUNG SOWIE VORRICHTUNG ZUR ABSTANDS- UND DICKENMESSUNG