(19)
(11) EP 4 364 187 A1

(12)

(43) Veröffentlichungstag:
08.05.2024  Patentblatt  2024/19

(21) Anmeldenummer: 22737799.1

(22) Anmeldetag:  20.06.2022
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC): 
H01L 21/3213(2006.01)
 H01L 21/768(2006.01)
(52) Gemeinsame Patentklassifikation (CPC) :
B81C 2201/0132; B81C 1/00579; B81C 1/00396; H01L 21/0332; H01L 21/0337; H01L 21/32139
(86) Internationale Anmeldenummer:
PCT/EP2022/066735
(87) Internationale Veröffentlichungsnummer:
WO 2023/274771 (05.01.2023 Gazette  2023/01)
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
Benannte Erstreckungsstaaten:
BA ME
Benannte Validierungsstaaten:
KH MA MD TN

(30) Priorität: 28.06.2021 DE 102021116587

(71) Anmelder: JENOPTIK Optical Systems GmbH
07745 Jena (DE)

(72) Erfinder:
  • PANITZ, Meik
    07745 Jena (DE)
  • RAUPACH, Lutz
    07745 Jena (DE)
  • TILKE, Martin
    07745 Jena (DE)
  • ZYBELL, Sabine
    07745 Jena (DE)

(74) Vertreter: Waldauf, Alexander 
Jenoptik AG Carl-Zeiß-Straße 1
07743 Jena
07743 Jena (DE)

   


(54) VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER ÄTZMASKE, VERFAHREN ZUM ÄTZEN EINER STRUKTUR IN EIN SUBSTRAT, VERWENDUNG EINER TETRELSCHICHT UND STRUKTUR ZUM HERSTELLEN EINER MASKE