(57) La présente invention se rapporte à un procédé de fabrication d'au moins un composant
horloger, dans lequel, sur un premier côté d'une plaquette de silicium (100) monolithique,
on réalise un premier masque de gravure primaire (200) puis on grave la plaquette
(100) à travers le premier masque (200) pour former les bords d'un premier niveau
du composant ; on réaliser au moins une couche d'arrêt (400) sur le premier côté (101)
gravé de la plaquette (100) ; Sur le deuxième côté de la plaquette (102) opposé au
premier côté (101),on réalise un deuxième masque de gravure secondaire (300) puis
on grave la plaquette (100) à travers ce deuxième masque (300) pour former les bords
d'un deuxième niveau du composant, la gravure secondaire atteignant au moins localement
la couche d'arrêt.
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