(19)
(11) EP 4 824 861 A1

(12)

(43) Veröffentlichungstag:
21.10.2026  Patentblatt  2026/43

(21) Anmeldenummer: 24821820.8

(22) Anmeldetag:  09.12.2024
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC): 
H01L 21/265(2006.01)
(52) Gemeinsame Patentklassifikation (CPC) :
H10P 30/2042; H10P 30/21; H10P 30/28
(86) Internationale Anmeldenummer:
PCT/EP2024/085233
(87) Internationale Veröffentlichungsnummer:
WO 2025/125140 (19.06.2025 Gazette  2025/25)
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC ME MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
Benannte Erstreckungsstaaten:
BA
Benannte Validierungsstaaten:
GE KH MA MD TN

(30) Priorität: 11.12.2023 DE 102023134623

(71) Anmelder: mi2-factory GmbH
07745 Jena (DE)

(72) Erfinder:
  • CSATO, Constantin
    07745 Jena (DE)
  • KRIPPENDORF, Florian
    07745 Jena (DE)
  • JAYAPRAKASH, Hitesh
    07745 Jena (DE)

(74) Vertreter: Wächter, Jochen et al
Kroher-Strobel Rechts- und Patentanwälte PartmbB Bavariaring 20
80336 München
80336 München (DE)

   


(54) VERFAHREN ZUR IMPLANTATION VON DOTIERATOMEN IN EIN SUBSTRAT