(57) Bei diesem Herstellungsverfahren für freitragende, präzise Teilungsstrukturen aufweisende
Folien wird die fotolithografisch aufgebrachte Maske nach dem Anätzen als partieller
Ätzschutz verwendet, indem man die Folie erhitzt und an der unterätzten Partie die
Maske umschmilzt, so daß sich an der unterätzten Kante ein Schutzfilm bildet. So dann
wird weitergeätzt bis die Struktur durchgeätzt ist. Die dabei wieder entstehende Unterätzung
ist ohne Belang, da die teilungsbildende Kante ja zuvor abgedeckt wurde.
|
|