(57) Glänzende, hochduktile riß- und porenfreie Palladiumschichten konnten mit den bisher
bekannten Palladiumbäidem kaum, zumindest nicht unter wirtschaftlichen Bedingungen,
hergestellt werden.
Die Erfindung gibt ein Palladiumbad an, das mit hoher Grenzstromdichte, also mit hohem
Wirkungsgrad, glänzende, hochduktile riß und porenfreie Palladiumschichten, praktisch
wartungsfrei, abscheidet, das gekennzeichnet ist durch die Beifügung von Pyridin oder
eines Pyridinderivates als Komplexbildner.
[0001] Die Erfindung betrifft ein Bad zum schnellen galvanischen Abcheiden von qlänzenden,
hochduktilen, riß- und porenfreien Palladiumschichten, das Palladium in Form eines
Palladiumsalzes enthält.
[0002] Palladiumschichten werden sowohl zum dekorativen als auch
7um technischen Einsatz benötigt. Im technischen Einsatz wird es insbesondere als Substitut
für Gold eingesetzt. Im dekorativen Einsatz kann zwar noch eine geringfügige Riß-oder
Porenbildung in Kauf genommen werden, jedoch nicht im technischen Einsatz. Hier müssen
die Pallndiumschichten absolut riß- und porenfrei und im allgemeinen auch hochduktil
sein, um den an diese Palladiumschichten gestellten Forderungen zu genügen.
[0003] Bei Palladiumbädern kann man unterscheiden:
a) Bäder auf Sulfatbasis, die auch mit löslichen Palladiumanoden betrieben werden,
b) alkalische Bäder auf der Basis des Palladiumhydroxokomplexes,
c) Bäder auf Chloridbasis oder auf der Basis der Nitratbeziehungsweise Nitritkomplexe
in neutralem oder ammoniakalischem Medium.
[0004] Die Palladiumbäder auf Sulfadbasis sind fast durchweg aggresiv und greifen eine Reihe
von Grundmetallen an. Auch wird durch diese Aggressivität eine schnelle Verunreinigung
durch Fremdmetall-Ionen herbeigeführt. Da sie zudem meistens pulvrige Niederschläge
abscheiden, genügen diese bekannten Palladiumbäder nur untergeordneten Anforderungen.
[0005] Auch die unter b) angeführten alkalischen Bäder ergeben nur unvollkommene Niederschläge
mit mehr oder weniger starken Poren, die auch nur in verhältnismäßig dünnen Schichten
glänzend sind.
[0006] Die zur letzten Gruppe zählenden Palladiumbäder werden in der Praxis bevorzugt, wobei
als unlösliches Anodenmaterial im allgemeinen Platin oder platiniertes Titan zum Einsatz
kommt. Der verhältnismäßig guten Ausbeute derartiger Bäder stehen jedoch die Nachteile
gegenüber, daß kaum porenfreie Überzüge zu erzielen sind, daß das ständig verdampfende
Ammoniak unangenehme Betriebsbedingungen schafft und umfangreiche Absaugvorrichtungen
erfordert, und daß auch der pH-Wert solcher Bäder instabil ist und daher nur sehr
schwierig konstant gehalten werden kann.
[0007] Um trotzdem porenfreie Überzüge zu erzielen ist ea auch schon bekanntgeworden, zum
Abscheiden von Palladiumüberzügen eine wäßrige neutrale oder alkalische Lösung mit
einer Palladiumverbindung und einem Ammoniumsalz einer schwachen organischen Säure,
die keine unlösliche Verbindung mit der Palladiumverbindung bildet, zu verwenden.
So ist bereits ein Bad zum Abscheiden von zähen Palladiumüberzügen auf elektrischen
Kontakten bekanntgeworden, das Palladium in Form eines Stickstoff enthaltenden Komplexes
enthält, wobei der Komplex aus einer wäßrigen alkalisch-ammoniakalischpn Lösung von
Tetramin-Palladium-Bromid besteht. Obwohl hierdurch eine Verbesserung erreicht werden
konnte, gelingt es auch damit nicht, dicke, vollkommen porenfreie Überzüge mit Palladium
zu erzielen; außerdem bleibt nach wie vor die Notwendigkeit des Absaugens der Ammoniakdämpfe
bestehen.
[0008] Festzustellen ist auch, daß infolge der Wasserstoffaufnahme des Palladiums bei der
kathodischen Abscheidung aus den bekannten Bädern trotz geringer Stromausbeute, also
mit niedriger Grenstromdichte, die Duktilität im allgemeinen unter der Anforderung
verbleibt und auch die innere Spannung der Niederschläge verhältnismäßig hoch ist.
[0009] Die Erfindung gibt ein Palladiumbad an, das schnell, also mit hoher Grenzstromdichte,
die zu fordernden glänzenden, hochduktilen, riß- und porenfreien Pnlladiumschichten
abscheidet. Dies gelingt in erfindungsgemäßer Weise durch die Beifügung von Pyridin
oder einem Pyridinderivats als Komplexbildner.
[0010] Wie beim Einsatz des erfindungsgemäßen Bades festgestellt werden konnte, ergeben
sich bei hoher Stromausbeute und demgemäß hoher Grenzstromdichte entsprechend schnelle
Abscheidungen tatsächlich glänzende, hochduktile, riß- und porenfreie Palladiumschichten,
wobei der Glanz auch noch bei dicken Schichten erhalten bleibt. Es treten keine unangenehmen
Begleiterscheinungen auf, insbesondere wenn bei Pyridinzugabe eine gut wirkende Absaugung
vorgesehen wird, wie beispielsweise bei den Bädern mit ammoniakalischem Medium. Außerdem
ist die Härte des Niederschlags einstellbar etwa zwischen einer Härte von 100 bis
500 HV. Bemerkenswert ist, daß auch die weichen Niederschläge trotzdem äußerst abriebfest
sind.
[0011] Besonders gute Ergebnisse lassen sich dann erzielen, wenn die Seitengruppe des Pyridinderivats
in 3er-Position steht. Bevorzugt wird hierbei Pyridilessigsäure zugegeben.
[0012] Für spezielle Bedingungen empfiehlt es sich, dem Rad noch sekundäre Komplexbildner
und organische Puffersysteme beizufügen. Recht gut bewährt hierzu hat sich di-Ammoniumhydrogenphosphat,
das außerdem noch ein gutes Puffer-/Leitsalzsystem darstellt. Ähnlich kann auch Kalium-natrium-tartrat
eingesetzt werden. Als organische Puffersysteme haben sich Salze organischer Polyhydroxysäuren,
wie beispielsweise Gluconsäure-Natrium-Salz, bewährt. Selbstverständlich können diese
organischen Puffersysteme auch gleichzeitig Komplexbildner für Palladium sein, ähnlich
wie beispielsweise (NH
4)
2HPO
4.
[0013] Zur Modifizierung der mechanischen Niederschlagseigenschaften, insbesondere zur Einstellung
der gewünschten Härte, können dem Bad weiterhin geeignete schwefelhaltige Zusätze
zugegeben werden. Nach der Erfindung werden diese schwefelhaltigen Zusätze zweckmäßigerweise
in Form organischer Schwefelverbindungen beigefügt, insbesondere als Sulfonsäure,
als Sulfonat oder als Sulfonamid.
Beispiel
[0014] Ansatz: 20...60 g/1 K-Na-tartrat
10...50 g/1 (NH4)2 H P04
2...19 g/1 Polyoxisäure
10...40 g/1 Pyridinessigsäure
10...20 g/1 Pd2+
pH = 12
Temperatur = 10...50 °C
i = 0,5 - 3 A/dm2 im Standbad = 95 - 100 %
t = 0,5 - 1 µm/min (Standbad)
[0015] Niederschlag: Rißfrei und glänzend. Die Rißfreiheit bleibt auch nach dem Wärmetest
(Erwärmung auf 150 °C über 60 min, danach abschreckn in kaltem Wasser) erhalten.
[0016] Außerordentlich erwähnenswert ist, daß die Haftung der Schicht, insbesondere auf
Nickel und auf Buntmetallen, sehr gut ist.
1. Bad zum schnellen galvanischen Abscheiden von glänzenden, hochduktilen, riß- und
porenfreien Palladiumschichten, das Palladium in Form eines Palladiumsalzes enthält,
gekennzeichnet
durch die Beifügung von Pyridin oder einem Pyridinderivat als Kompexbildner.
2. Bad nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Seitengruppe des Pyridinderivates in 3er-Position steht.
3. Bad nach Anpruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Pyridin als Pyridilessigsäure zugegeben wird.
4. Bad nach einem oder mehreren
der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,
daß weitere sekundäre Komplexbildner und organische Puffersysteme beigefügt werden.
5. Bad nach Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß als sekundärer Koplexbildner di-Ammoniumhydrogenphosphat beigefügt wird.
6. Bad nach Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß als sekundärer Komplexbildner Kalium-natrium-tartrat beigefügt wird.
7. Bad nach Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß als organischer Puffer Polyhydroxysäure beigefügt wird.
8. Bad nach einem oder mehreren
der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,
daß neben den Komplexbildnern organische Schwefelverbindungen, insbesondere Sulfonsäuren,
Sulfonate und Sulfonamide beigefügt werden.
9. Bad nach einem oder mehreren
der vorhergehenden Ansprüche,
gekennzeichnet durch
20...60 g/1 K-Na-tartrat, 10...50 g/1 (NH4)2 H PO4, 2...19 g/1 Polyoxisäure, 10...40 g/l Pyridinessigsäure, 10...20 g/l Pd2+, pH = 12, Temperatur = 10...50 °C, i = 0,5 - 3 A/dm2 im Standbad