[0001] Die Erfindung bezieht sich auf eine phasengesteuerte Antenne für Mikrowellen.
[0002] Feststehende Aperturantennen mit veränderbarer Strahlungscharakteristik (Schwenkung
und Veränderung des Strahlungsdiagramms) für Mikrowellen werden bisher vorzugsweise
als sogenannte phasengesteuerte Antennen (Phased Arrays) aufgebaut. Sie bestehen in
der Regel aus einer Matrix einzelner Mikrowellenstrahler in Hohlleiter- oder Microstriptechnik,
wobei die Phase jedes einzelnen Strahlerelementes einstellbar ist. Diese Einstellung
erfolgt beispielsweise mittels PIN-Dioden-Phasenschieber oder Ferritphasenschieber.
Beschrieben ist die Technik der phasengesteuerten Antennen beispielsweise in dem Aufsatz
von R.J.Mailloux: "Phased Array Theory and Technology", in der Zeitschrift "Proceedings
of the IEEE", Vol.70, No.3, March 1982, Seiten 246-292. Der Nachteil der bekannten
Technik der phasengesteuerten Antennen liegt in ihrer Komplexität, da jedes Strahlerelement
einen Phasenschieber und unter Umständen einen nachgeschalteten Verstärker benötigt.
Ein weiterer Nachteil liegt in der nur schwer erfaßbaren Verkopplung zwischen den
einzelnen Strahlerelementen.
[0003] Aufgabe der Erfindung ist es, eine die Schwenkung und Veränderung des Strahlungsdiagramms
erlaubende, phasengesteuerte Antenne zu schaffen, die bei feststehendem Aufbau weniger
komplex ist und der keine Strahlerelement-Verkopplungsschwierigkeiten anhaften.
[0004] Gemäß der Erfindung wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß vor einer Strahlungsapertur
eine linsenartige Schicht von Plasma, d.h. ein weitgehend ionisiertes Gas, angeordnet
ist, daß die Nutzfrequenz der von der Strahlungsapertur ausgehenden Mikrowellen so
gewählt ist, daß sie oberhalb der sogenannten Plasmafrequenz liegt, und daß eine Einrichtung
zur bereichsweise unterschiedlichen Variation der Ionisationsdichte der Plasmaschicht
vorgesehen ist.
[0005] Die Erfindung nutzt den Effekt der komplexen Ausbreitungskonstanten einer elektromagnetischen
Welle in einem Plasma. Damit sich eine elektromagnetische Welle im Plasma fortpflanzen
kann, muß ihre Frequenz bekanntlich größer als die Plasmafrequenz sein. Im anderen
Fall können die Elektronen des Plasmas das magnetische Feld der Welle abschirmen und
die Welle wird durch das Plasma stark gedämpft oder sogar total reflektiert. Dieser
zuletzt erwähnte physikalische Sachverhalt ist beispielsweise aus der "Enzyklopädie
Naturwissenschaft und Technik", 1980, Verlag Moderne Industrie, Landsberg/Lech, Seiten
3347-3351, insbesondere Seite 3350, linke Spalte, Begriff "Plasmaschwingungen", bekannt.
Liegt die Nutzfrequenz nunmehr weit genug oberhalb dieser sogenannten Plasmafrequenz,
dann läßt sich nach der Erfindung durch eine Variation der Ionisationsdichte eine
dämpfungsarme Phasenverschiebung der Mikrowellenstrahlung erreichen.
[0006] Das Plasma läßt sich prinzipiell auf verschiedenen Wegen erstellen und hinsichtlich
seiner Ionisationsdichte steuern. Möglich ist beispielsweise in diesem Zusammen hang
eine gesteuerte Gasentladung, eine Mikrowellenaufheizung, Elektronenbeschuß oder
eine Bestrahlung mit kurzwelligem Licht oder einer UV-Strahlung.
[0007] Im folgenden wird die Erfindung anhand dreier Figuren beschrieben. Es zeigen
Fig. 1 die Anordnung für ein erstes prinzipielles Ausführungsbeispiel,
Fig. 2 die Anordnung für ein zweites prinzipielles Ausführungsbeispiel,
Fig. 3 die Anordnung für einen grundlegenden Demonstrationsversuch.
[0008] In einer Schemaansicht ist in Fig.1 ein erstes prinzipielles Ausführungsbeispiel
zur Realisierung der Erfindung dargestellt. Die linsenartige Schicht von Plasma 2
ist in einem quaderförmigen Hohlraum 4 eingebracht. Der quaderförmige Hohlraum 4
liegt vor der Strahlungsapertur 1 eines in sogenannter Off-set-Lage angeordneten Hornstrahlers
5, der die Mikrowellenstrahlung mit der Frequenz f1 auf das sich im Hohlraum 4 befindliche
Plasma 2 bündelt. Diese Mikrowellenstrahlung mit der Frequenz f1 heizt das Plasma
2 auf eine Grundionisationsdichte auf und ist in ihrer Leistung konstant. Seitlich
vom quaderförmigen Hohlraum 4 ist ein Feld mit einer Vielzahl von UV-Stahlern 6 angeordnet,
das als Einrichtung 3 zur Variation der Ionsationsdichte des Plasmas 2 und damit zur
Plasmamodulation dient. Von der Strahlungsapertur 1 des Hornstrahlers 5 geht eine
Mikrowellenstrahlung mit einer zweiten Frequenz, nämlich der Nutzfrequenz f2, aus
und wird auf den das Plasma 2 enthaltenden Hohlraum 4 abgestrahlt. Die Mikrowellenstrahlung
mit der Frequenz f2 kann auch durch einen anderen Erreger, der also nicht die Heizfrequenz
f1 in die Plasmaschicht 2 einstrahlt, ausgesandt werden. Das Feld mit den UV-Strahlern
6 ist gegenüber einer Seitenfläche des quaderförmigen Hohlraums 4 angeordnet und
ist mit diesem etwa deckungsgleich. Die UV-Stahler 6 strahlen senkrecht auf diese
Seitenfläche ein. Die parallel zur UV-Strahlungsrichtung verlaufenden Seiten des quaderförmigen
Hohlraums sind hinsichtlich ihrer in Richtung der UV-Strahlung verlaufenden Länge
erheblich kürzer als die übrigen Quaderseiten bemessen, so daß sich ein flacher Quader
ergibt, der also in UV-Strahlungsausbreitungsrichtung relativ dünn ist. Bei der Anwendung
gemäß dem Ausführungsbeispiel nach Fig.1 reicht eine einzige flächenhafte Plasmaschicht
aus, um das Strahlungsdiagramm bei der Nutzfrequenz f2 in jeder möglichen Weise zu
ändern.
[0009] In der Schemaansicht nach Fig.2 ist ein zweites prinzipielles Ausführungsbeispiel
zur Realisierung der Erfindung dargestellt. Hierbei ist vor der Strahlungsapertur
1 eines Hohlleiterstrahlers 9, der eine Mikrowellenstrahlung mit der Nutzfrequenz
f2 abgibt, eine linsenartige Plasmaschicht in Form einzelner Plasmaröhren 7 und 8
mit jeweils rechteckigem Querschnitt vorgesehen. Das Plasma 2 befindet sich in einer
Reihe gleichartiger, geradlinig verlaufender, voneinander getrennter, aber lückenlos
aneinander angrenzender Plasmaröhren 7 bzw. 8, die alle einen rechteckigen Querschnitt
aufweisen. Die Plasmaröhren 7 sind dabei so angeordnet, daß ihre Längsachsen vertikal
verlaufen, wogegen die Längsachsen der Plasmaröhren 8 horizontal ausgerichtet sind.
Die Plasmaröhren 7 einerseits und die Plasmaröhren 8 andererseits sind so angeordnet,
daß sich jeweils ein schichtartiges Plasmaröhrenfeld ergibt.
[0010] Die durch die Aneinanderreihung mehrerer Plasmaröhren 7 bzw. 8 entstehenden Plasmaschichten
werden von einer von der Strahlungsapertur des Hohlleiterstrahlers 9 ausgehenden ebenen
Welle mit geeigneter Nutzfrequenz f2 durchstrahlt, welche höher liegt als die Plasmafrequenz.
Die Art der Polarisation der Mikrowellenstrahlung ist dabei ohne Bedeutung (vernachlässigbare
Magnetfelder, z.B. nur Erdmagnetfeld). Für den Fall, daß jedes durch eine Plasmaröhre
7 realisiertes Linsenelement der der Strahlungsapertur benachbarten Schicht eine Phasenvariation
bis zu 2 π erlaubt, ist es möglich, die Phase entlang der x-Achse zu modulieren und
damit eine Diagrammveränderung, z.B. vorzugsweise eine Schwenkung, in azimutaler Richtung
zu bewirken. Durch die dargestellte Kombination zweier hintereinander liegender Plasmaschichten
besteht die Möglichkeit der Diagrammmanipulation in Azimut und Elevation. Bei der
Diagrammveränderung in der Elevationsrichtung wird die Phase entlang der x-Achse
durch Phasenvariation der Plasmaröhren 8 erreicht. Voraussetzung ist, daß die Ionisationsdichte
jeder dieser Plasmaröhren 7 bzw. 8 getrennt variiert werden kann.
[0011] Fig. 3 zeigt in einem schematischen Blockschaltbild die Anordnung für einen grundlegenden
Demonstrationsversuch. Hierzu wird eine handelsübliche Leuchtstoffröhre 10 verwendet.
Das HF-Signal vom Ausgang 11 eines Mikrowellensenders 12 wird über einen Richtungskoppler
13 geleitet und mittels einer Sonde 14 in einen Hohlleiter 15 eingekoppelt. An seinem
Ende 16 wirkt der Hohlleiter 15 als Hohlleiterstrahler, der eine Seite der Leuchtstoffröhre
10 bestrahlt. Auf der gegenüberliegenden Seite der Leuchtstoffröhre 10 ist ebenfalls
ein Hohlleiter 17 mit seinem offenen Ende 18 angeordnet, welches die die Leuchtstoffröhre
10 durchquerende Mikrowellenstrahlung aufnimmt. An einer Sonde 19 wird dem Hohlleiter
17 ein Mikrowellensignal entnommen und einem Eingang 20 eines Netzwerkanalysators
21 zugeführt. Der Analysator 21 weist noch einen zweiten Eingang 22 auf, dem zu Vergleichszwecken
bei der Analyse ein über den Richtungskoppler 13 vom Ausgang 11 des Mikrowellensenders
12 unmittelbar entnommenes HF-Teilsignal zugeführt wird. Da die Plasmafrequenz der
handelsüblichen Leuchtstoffröhren etwa zwischen 8 und 9 GHz liegt (10¹² Elektronen
und Ionen pro cm³), wurden Versuche mit Signalfrequenzen von 9 bis 12,4 GHz durchgeführt.
Dabei ließ sich im Bereich zwischen 10 und 11 GHz beim Durchgang einer elektromagnetischen
Mikrowelle durch das Plasma 23 ein fast dämpfungsfreier Phasenhub von 90° erzielen.
Die Dämpfungs- und Phasenhubwerte sind stark abhängig von den Plasmaparametern, wie
z.B. dem Druck, dem Ionisationsgrad und der Elektronentemperatur.
1. Phasengesteuerte Antenne für Mikrowellen,
dadurch gekennzeichnet, daß vor einer Strahlungsapertur (1) eine linsenartige Schicht von Plasma (2), d.h.
ein weitgehend ionisiertes Gas, angeordnet ist, daß die Nutzfrequenz (f2) der von
der Strahlungsapertur ausgehenden Mikrowellen so gewählt ist, daß sie oberhalb der
sogenannten Plasmafrequenz liegt, und daß eine Einrichtung (3) zur bereichsweise unterschiedlichen
Variation der Ionisationsdichte der Plasmaschicht vorgesehen ist.
2. Antenne nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß zur Erstellung des Plasmas (2) und zur Variation von dessen Ionisationsdichte
eine gesteuerte Gasentladung vorgesehen ist.
3. Antenne nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die Erstellung des Plasmas (2) und/oder die Variation von dessen Ionisationsdichte
mittels Mikrowellenaufheizung erfolgt.
4. Antenne nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die Erstellung des Plasmas (2) und/oder die Variation von dessen Ionisationsdichte
durch Elektronenbeschuß erfolgt.
5. Antenne nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die Erstellung des Plasmas (2) und/oder die Variation von dessen Ionisationsdichte
durch Bestrahlung mit kurzwelligem Licht oder UV-Strahlung erfolgt.
6. Antenne nach den Ansprüchen 1, 3 und 5,
dadurch gekennzeichnet, daß sich das Plasma (2) in einem quaderförmigen Hohlraum (4) befindet, der unter
schräger Anstrahlung vor der Strahlungsapertur (1), z.B. derjenigen eines Off-Set-Hornstrahlers
(5), liegt, daß von der Strahlungsapertur eine leistungskonstante Mikrowellenstrahlung
mit einer ersten Frequenz (f1) ausgeht, die das Plasma (2) auf eine Grundionisationsdichte
aufheizt, daß seitlich vom quaderförmigen Hohlkörper ein Feld mit einer Vielzahl
von UV-Strahlern (6) angeordnet ist, das als Einrichtung (3) zur Variation der Ionisationsdichte
des Plasmas und damit zur Plasmamodulation dient, und daß eine Mikrowellenstrahlung
mit einer zweiten Frequenz (f2), nämlich der Nutzfrequenz, von einer anderen oder
vorzugsweise ebenfalls von der gleichen Strahlungsapertur (1) ausgeht und auf den
das Plasma enthaltenden, quaderförmigen Hohlraum (4) abgestrahlt wird.
7. Antenne nach Anspruch 6,
dadurch gekennzeichnet, daß das Feld mit den UV-Strahlern (6) gegenüber einer Seitenfläche des quaderförmigen
Hohlraums (4) angeordnet und mit diesem etwa deckungsgleich ist, daß die UV-Strahler
senkrecht auf diese Seitenfläche einstrahlen, und daß die parallel zur UV-Strahlungsrichtung
verlaufenden Seiten des quaderförmigen Hohlraums hinsichtlich ihrer Länge in dieser
Richtung erheblich kürzer als die übrigen Quaderseiten bemessen sind, so daß sich
ein flacher Quader ergibt, der also in UV-Strahlungsausbreitungsrichtung relativ
dünn ist.
8. Antenne nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet, daß sich das Plasma (2) in einer Reihe gleichartiger, gerade ausgebildeter, voneinander
getrennter, aber lückenlos aneinander angrenzender Plasmaröhren (7 bzw. 8) mit jeweils
rechteckigem Querschnitt befindet, daß diese Plasmaröhren so angeordnet sind, daß
sich ein schichtartiges Plasmaröhrenfeld ergibt, und daß die Ionisationsdichte jeder
dieser Plasmaröhren getrennt einstellbar ist.
9. Antenne nach Anspruch 8,
dadurch gekennzeichnet, daß die Plasmaröhren (7) so angeordnet sind, daß ihre Längsachsen vertikal verlaufen.
10. Antenne nach Anspruch 8,
dadurch gekennzeichnet, daß die Plasmaröhren (8) so angeordnet sind, daß ihre Längsachsen horizontal verlaufen.
11. Antenne nach den Ansprüchen 9 und 10,
gekennzeichnet durch die deckungsgleiche, hintereinanderliegende Kombination zweier solcher Plasmaröhrenanordnungen.