(19)
(11) EP 0 160 912 A3

(12) EUROPEAN PATENT APPLICATION

(88) Date of publication A3:
16.09.1987 Bulletin 1987/38

(43) Date of publication A2:
13.11.1985 Bulletin 1985/46

(21) Application number: 85105192

(22) Date of filing: 30.04.1985
(84) Designated Contracting States:
BE CH DE FR GB IT LI

(30) Priority: 08.05.1984 DE 3416897

(71) Applicant: Agfa-Gevaert AG
 ()

(72) Inventors:
  • Nittel, Fritz, Dr.
     ()
  • Sauter, Bert
     ()
  • Voigt, Armin, Dr.
     ()

   


(54) Photographic material


(57) Die auf der Rückseite des photographischen Materials angebrachte Antistatikschicht enthält (A) ein Gemisch aus einem Natriummagnesiumsilikat und dem Natriumsalz von Polystyrolsulfonsäure und (B) eine Bernsteinsäurehalbester-verbindung. Die Antistatikschicht zeichnet sich durch hohe Abriebfestigkeit und gute Bedruck- oder Beschreibbarkeit aus.





Search report