[0001] Die vorliegende Erfindung betrifft einen Reflektor für elektromagnetische Wellen
mit speziell geformter Oberfläche und ein Antennensystem mit einem Reflektor mit geformter
Oberfläche. Solche Reflektoren mit geformten Oberflächen sind bereits aus dem Stand
der Technik bekannt.
[0002] So beschreibt EP 0 920 076 ein Antennensystem mit einem Reflektor mit geformter Oberfläche,
wobei zwei Strahlbündel, die von getrennten Strahlern ausgehen, auf zwei unterschiedliche
Ausleuchtgebiete fokussiert werden.
[0003] In EP 0 915 529 wird die Möglichkeit beschrieben, mit Hilfe eines Reflektors mit
geformter Oberfläche aus mehreren Strahlbündeln mehrerer Strahler, die über ein geeignetes
Verteilnetzwerk zusammengeschaltet werden, ein einziges Strahlbündel zu formen, das
auf ein Ausleuchtgebiet gerichtet wird.
[0004] US 4,298,877 beschreibt einen Reflektor mit geformter Oberfläche, der dazu dient,
zwei Strahlbündel auf zwei verschiedene Empfänger (Satelliten) zu fokussieren.
[0005] US 5,684,494 schlägt eine Fokussierung getrennter Strahlbündel unterschiedlicher
Polarisation durch eine Reflektoranordnung aus zwei Reflektoren vor, wobei jeder der
Reflektoren als Gitterreflektor ausgebildet ist und nur für eine der Polarisationsrichtungen
wirksam ist.
[0006] Die aus dem Stand der Technik bekannten Reflektoren sind nur eingeschränkt für Anwendungen
geeignet, bei denen eine bidirektionale Strahlrichtung mit einer effektiven Entkopplung
für Senderichtung und Empfangsrichtung zu einem gemeinsamen Ausleuchtgebiet verwirklicht
werden soll, insbesondere gekoppelt mit der Möglichkeit der Verwendung gleicher Frequenzen
und/oder gleicher Polarisation für Senderichtung und Empfangsrichtung. Es bestehen
bislang folgende Probleme:
- Bei einem einfachen konstruktiven Aufbau mit einem gemeinsamen Strahler für Senderichtung
und Empfangsrichtung und unter Verwendung eines Reflektors besteht keine ausreichende
Entkopplung zwischen der Senderichtung und der Empfangsrichtung der elektromagnetischen
Strahlung. Diese muß durch zusätzliche Bausteine wie z.B. Frequenzweichen bei getrennter
Sende- und Empfangsfrequenz, wie es in der Kommunikationstechnik üblich ist, oder
Zirkulatoren bei gleicher Sende- und Empfangsfrequenz, wie in der Radartechnik üblich,
erzeugt werden.
- Soll eine Entkopplung durch getrennte Strahler erreicht werden, so sind aufwendige
Konstruktionen wie mehrere Reflektoren im Falle der US 5,684,494 nötig, die jedoch
die verwendbaren Polarisationsrichtungen einschränken, da unterschiedliche Polarisationsrichtungen
für Senderichtung und Empfangsrichtung gegeben sein müssen. Dies schränkt die durch
die Antennenanordnung übertragbaren Datenmengen deutlich ein.
[0007] Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, eine Möglichkeit bereitzustellen,
die eine entkoppelte, bidirektionale Übertragung elektromagnetischer Wellen bei maximaler
übertragbarer Datenmenge erlaubt.
[0008] Diese Aufgabe wird gelöst mit den Merkmalen des vorliegenden Anspruchs 1. Anspruch
9 umfaßt ein Antennensystem, das einen erfindungsgemäßen Reflektor mit geformter Oberfläche
beinhaltet. Außerdem umfaßt Anspruch 13 ein Verfahren zur Ermittlung der Oberflächenform
eines Reflektors.
[0009] Erfindungsgemäß weist die Oberfläche des Reflektors eine lokale Formgebung auf, die
derart ausgelegt ist, daß der Reflektor zumindest eine Gruppe räumlich getrennter
Foki aufweist und von dieser Gruppe von Foki ausgehende Strahlbündel durch den Reflektor
auf ein gemeinsames Ausleuchtgebiet gerichtet werden. Der Reflektor kann aber auch
mehrere Gruppen von Foki aufweisen, wobei jeweils von einer Gruppe von Foki ausgehende
Strahlbündel durch den Reflektor auf ein gemeinsames Ausleuchtgebiet gerichtet werden.
[0010] Es kann dabei im Ausleuchtgebiet eine Fokussierung auf einen gemeinsamen Ausleuchtpunkt,
z.B. eine entfernte Empfangsantenne, erfolgen, es können aber auch die Strahlbündel
im Ausleuchtgebiet eine bestimmte, sich deckende Ausdehnung aufweisen, die weitgehend
an die Form des Ausleuchtgebietes, beispielsweise eines Teiles der Erdoberfläche,
angepaßt werden kann. In der umgekehrten Strahlrichtung, d.h. ausgehend vom Ausleuchtgebiet
in Richtung auf die Foki, erfolgt bei dieser ersten Ausgestaltung eine Fokussierung
auf alle Foki, so daß ein Empfänger grundsätzlich in jedem der Foki angeordnet sein
kann. Die Richtwirkung bzw. Fokussierungswirkung des Reflektors ist hierbei unabhängig
von der Frequenz oder der Polarisation der Strahlbündel.
[0011] In einer weiterführenden Ausgestaltung der Erfindung ist eine frequenzselektive Wirkung
des Reflektors vorgesehen, d.h. daß sich eine unterschiedliche räumliche Position
der Foki für unterschiedliche Frequenzen oder Frequenzbänder ergibt oder sich die
räumliche Trennung der Foki bei unterschiedlichen Frequenzen oder Frequenzbändern
verstärkt. Es werden hierbei weiterhin die von einer Gruppe von Foki ausgehenden Strahlbündel
durch den Reflektor auf ein gemeinsames Ausleuchtgebiet gerichtet, in der umgekehrten
Richtung erfolgt jedoch pro Frequenz oder Frequenzband lediglich eine Fokussierung
auf einen der Foki. Ein Empfänger für eine bestimmte Frequenz oder ein bestimmtes
Frequenzband ist daher in dem entsprechenden Fokus anzuordnen.
[0012] In einem Betriebsfall kann der Reflektor dazu verwendet werden, einerseits Strahlbündel,
die von einem Sender in einem Fokus ausgehen, auf das Ausleuchtgebiet zu richten,
andererseits Strahlbündel, die von dem Ausleuchtgebiet ausgehen, auf einen Empfänger
in einem der Foki zu richten. Solche Sender und Empfänger sollen im weiteren allgemein
als Strahler bezeichnet werden. Dabei sind unterschiedliche Szenarien für die Wirkung
der Strahler als Sender und Empfänger möglich:
a) nicht-frequenzselektive Oberflächenform des Reflektors:
[0013] Von jedem Strahler, der in einem der Foki angeordnet ist, ausgehende Strahlbündel
werden durch den Reflektor zum Ausleuchtgebiet hin gerichtet. Entgegengesetzt gerichtete
Strahlbündel werden auf alle Foki fokussiert. Es kann nun der sendende Strahler auch
gleichzeitig als Empfänger wirken. Weitere Strahler in den anderen Foki sollten dann
auf einer anderen Frequenz betrieben werden. Der Empfang der auf die Foki fokussierten
Strahlbündel auch durch andere Strahler als den eigentlichen Empfänger führt jedoch
kaum zu einer Beeinträchtigung dieser anderen Strahler, da einerseits eine frequenzspezifische
Abstimmung der Strahler erfolgt und andererseits die empfangene Leistung meist weit
unter der Sendeleistung der Strahler liegt.
[0014] Ist jedoch neben dem sendenden Strahler ein separater Strahler als Empfänger in einem
anderen Fokus vorgesehen, so erfolgt ebenfalls kaum eine Beeinflussung des sendenden
Strahlers durch das auch in seinen Fokus fokussierten empfangene Strahlbündel, da
wiederum die empfangene Leistung meist weit unter der Sendeleistung der Strahler liegt.
b) frequenzselektive Oberflächenform des Reflektors:
[0015] Eine Anwendung hierfür ist, daß in einem Fokus ein Strahler angeordnet ist, der lediglich
als Sender auf einer bestimmten Frequenz oder in einem bestimmten Frequenzband wirkt,
während ein weiterer Strahler in einem anderen Fokus angeordnet ist, der lediglich
als Empfänger für eine andere Frequenz oder ein anderes Frequenzband wirkt. Ein empfangenes
Strahlbündel wird durch die frequenzselektive Wirkung des Reflektors dann lediglich
auf den Empfänger fokussiert.
[0016] Es kann vorgesehen sein, daß die einzelnen elektromagnetischen Strahlbündel unterschiedliche
Polarisation aufweisen. Es kann somit neben der räumlichen Trennung durch mehrere
Foki eine weitere Entkopplung erfolgen. Andererseits kann aber auch vorgesehen sein,
daß die den unterschiedlichen Foki zugeordneten Strahlbündel identische Polarisationsrichtungen
aufweisen. Ein erfindungsgemäßer Reflektor weist somit den Vorteil auf, daß für eine
entkoppelte Übertragung elektromagnetische Wellen mit beliebiger Polarisationsrichtung
lediglich ein einziger Reflektor benötigt wird. Somit weist die erfindungsgemäße Anordnung
eine größere Einfachheit und Effektivität auf als der Stand der Technik.
[0017] Die geformte Oberfläche des Reflektors kann nun derart ausgelegt sein, daß der Reflektor
lediglich zwei Foki besitzt, so daß elektromagnetische Strahlbündel, beispielsweise
Strahlbündel verschiedener Frequenz oder Frequenzbänder, die von zwei räumlich getrennten
Strahlern ausgehen, welche in den Foki angeordnet sind, auf ein gemeinsames Ausleuchtgebiet
gerichtet werden. Die Anpassung der Reflektorstruktur erfolgt in diesem Fall somit
lediglich auf zwei Strahlungsquellen.
[0018] Die Oberflächenformung des Reflektors kann jedoch auch so angepaßt werden, daß der
Reflektor mehr als nur zwei Foki aufweist, so daß mehr als nur zwei Strahler Verwendung
finden können, deren Strahlbündel auf entsprechende Ausleuchtgebiete fokussiert werden.
Es können mehrere Gruppen räumlich getrennter Strahler vorgesehen sein, wobei die
Oberflächenformung des Reflektors so ausgelegt ist, daß die von einer ersten Gruppe
räumlich getrennter Strahler ausgehenden elektromagnetischen Strahlbündel, beispielsweise
mit verschiedener Frequenz oder Frequenzbändern, auf ein erstes gemeinsames Ausleuchtgebiet
fokussiert werden und die von einer zweiten oder ggf. weiteren Gruppe räumlich getrennter
Strahler ausgehenden elektromagnetischen Strahlbündel auf ein zweites gemeinsames
Ausleuchtgebiet fokussiert werden. Jede der einzelnen Gruppen kann dabei zwei oder
mehr Strahler umfassen. Die einzelnen Strahler einer Gruppe untereinander können beispielsweise
jeweils mit unterschiedlicher Frequenz oder Frequenzbändern betrieben werden, dagegen
können die einzelnen Frequenzen oder Frequenzbänder parallel in allen Gruppen genutzt
werden. Es können natürlich auch innerhalb einer Gruppe gleiche Frequenzen für mehrere
Strahler genutzt werden, wie bereits vorstehend beschrieben.
[0019] Insbesondere kann der Reflektor einzelne Oberflächenbereiche aufweisen, die jeweils
für ein Ausleuchtgebiet und gegebenenfalls auch für eine Frequenz oder ein Frequenzband
wirksam sind. Somit muß nicht die gesamte Reflektorfläche so ausgelegt sein, daß sie
als Ganzes die gewünschte Fokussierungswirkung für die einzelnen Strahlbündel bewirkt.
Damit ist auch nicht unbedingt eine komplette Ausleuchtung des gesamten Reflektors
durch die einzelnen Strahlbündel erforderlich. Die Ausleuchtung kann vielmehr auf
die für ein bestimmtes Ausleuchtgebiet und gegebenenfalls für eine bestimmte Frequenz
bzw. ein bestimmtes Frequenzband wirksamen Oberflächenbereiche beschränkt werden.
Dies ermöglicht eine weitergehende Optimierung der Reflektoroberfläche für die einzelnen
Frequenzen bzw. Ausleuchtgebiete.
[0020] Der Reflektor kann weiterhin Oberflächenbereiche aufweisen, die zur Erzielung einer
Isolationswirkung in Gebieten dienen, die den Ausleuchtgebieten benachbart sind. Solch
eine Isolationswirkung dient dazu, die Ausleuchtung weitgehend auf die einzelnen Ausleuchtgebiete
zu reduzieren und in der Nachbarschaft der Ausleuchtgebiete, insbesondere auch zwischen
den Ausleuchtgebieten, evtl. störende Streuausleuchtungen, z.B. durch Nebenkeulen
oder kreuzpolare Anteile der Strahlbündel, weitgehend zu reduzieren. Auch können dadurch
gewisse, den Ausleuchtgebieten benachbarte Gebiete, in denen eine Ausleuchtung in
jedem Fall vermieden werden soll, ausgeblendet werden. Werden auch für diesen Zweck
separate Bereiche der Reflektoroberfläche vorgesehen, so können auch diese weitgehend
unabhängig von den anderen Oberflächenbereichen des Reflektors optimiert werden, um
die gewünschte Wirkung in möglichst idealer Weise zu erzielen. Es können zu diesem
Zweck aber auch Oberflächenbereiche genutzt werden, die gleichzeitig für benachbarte
Ausleuchtgebiete und gegebenenfalls andere Frequenzen oder Frequenzbänder wirksam
sind.
[0021] Die Oberflächenform des Reflektors kann beispielsweise so ausgelegt sein, daß die
Oberfläche des Reflektors eine Ebene oder gekrümmte Fläche bildet, wobei dieser Fläche
eine lokale Feinstruktur aus Erhebungen und Vertiefungen überlagert ist. Die Reflexionswirkung
des Reflektors wird somit einerseits durch die globale Formgebung der Reflektoroberfläche
(eben oder gekrümmt) bestimmt, andererseits kann die Reflexionswirkung bezüglich der
Ausleuchtgebiete oder Isolationsgebiete, gegebenfalls auch für die einzelnen Frequenzen
oder Frequenzbänder, durch die lokale Formgebung der Reflektoroberfläche angepaßt
oder optimiert werden.
[0022] Die lokale Formgebung der Reflektoroberfläche kann, ähnlich einer fraktalen Struktur,
mehrere Stufen von Feinstrukturen unterschiedlicher Größenordnungen aufweisen. Somit
ist der globalen Oberflächenstruktur eine erste lokale Oberflächenstruktur einer ersten,
kleineren Größenordnung überlagert, der wiederum eine zweite lokale Oberflächenstruktur
mit wiederum kleinerer Größenordnung überlagert ist. Es können noch weitere Stufen
von lokalen Strukturen überlagert sein, jeweils mit kleinerwerdenden Größenordnungen.
[0023] Die vorliegende Erfindung umfaßt außerdem ein Antennensystem, das einen erfindungsgemäßen
Reflektor mit geformter Oberfläche aufweist. Bei einem solchen Antennensystem ist
zumindest eine Gruppe erster und zweiter Strahler vorgesehen. Die ersten Strahler
einer Gruppe sind dabei räumlich getrennt von den zweiten Strahlern angeordnet. Ohne
Beschränkung der Allgemeinheit soll im folgenden von einem ersten Strahler und einem
zweiten Stahler für die erste Gruppe ausgegangen werden. Der erste und zweite Strahler
sind jeweils in einem Fokus des Reflektors angeordnet, so daß von dem ersten und zweiten
Strahler ausgehende erste und zweite Strahlbündel auf ein gemeinsames Ausleuchtgebiet
gerichtet werden. Der erste Strahler wirkt dabei als Sender, der zweite Strahler als
Empfänger. Man erhält damit ein Antennensystem, das auf einfache Weise eine entkoppelte,
bidirektionale Übertragung von elektromagnetischen Wellen erlaubt.
[0024] In einer Weiterbildung dieses Antennensystems ist vorgesehen, daß der erste Strahler
für Strahlbündel mit einer ersten Frequenz oder einem ersten Frequenzband ausgelegt
ist und der zweite Strahler für Strahlbündel mit einer zweiten, von der ersten Frequenz
verschiedenen Frequenz, oder einem zweiten, von dem ersten Frequenzband verschiedenen
Frequenzband dient. Eine Anwendung hierzu ist beispielsweise die Verwendung eines
solchen Antennensystems in der Nachrichtentechnik, wobei für die Senderichtung eine
erste Frequenz oder ein erstes Frequenzband, für die Empfangsrichtung eine zweite
Frequenz oder ein zweites Frequenzband verwendet wird.
[0025] Es kann nun vorgesehen sein, daß jeder der ersten und zweiten Strahler und die Strukturierung
der Oberfläche des Reflektors derart ausgelegt sind, daß jeder der Strahler das gesamte
Ausleuchtgebiet ausleuchtet. Es ist somit eine vereinfachte Anordnung vorgesehen,
die für ein Ausleuchtgebiet lediglich einen Strahler für die Senderichtung, insbesondere
für eine bestimmte Frequenz oder ein bestimmtes Frequenzband, vorsieht und lediglich
einen weiteren Strahler als Empfänger, insbesondere für eine weitere Frequenz oder
ein weiteres Frequenzband. Grundsätzlich können natürlich auch mehr als zwei Strahler
vorgesehen sein, wobei insbesondere vorgesehen sein kann, daß jeder der Strahler für
eine von den anderen Strahlern verschiedene Frequenz bzw. verschiedenes Frequenzband
ausgelegt ist.
[0026] Es können bei dem erfindungsgemäßen Antennensystem auch mehrere Gruppen einzelner
Strahler vorgesehen sein. Dabei ist eine erste Gruppe mit ersten und zweiten Strahlern
vorgesehen, deren Strahlbündel auf ein erstes Ausleuchtgebiet gerichtet werden. Die
einzelnen Strahler können wiederum für verschiedener Frequenzen oder Frequenzbänder
ausgelegt sein. Weiterhin ist zumindest eine zweite Gruppe von Strahlern vorgesehen,
deren Strahlbündel auf ein zweites Ausleuchtgebiet gerichtet werden, das vom ersten
Ausleuchtgebiet verschieden ist. Auch die Strahler der zweiten Gruppe können für verschiedene
Frequenzen oder Frequenzbänder ausgelegt sein, wobei die einzelnen Gruppen dieselben
Frequenzen oder Frequenzbänder nutzen können. Grundsätzlich können auch mehr als nur
zwei Gruppen von Strahlern vorgesehen werden. Es werden dabei die erste und zumindest
eine weitere Gruppe räumlich getrennt voneinander angeordnet. Jede einzelne Gruppe
umfaßt dabei mindestens zwei einzelne Strahler.
[0027] Ein Verfahren zur Ermittlung der Oberflächenstruktur eines Reflektors, der zumindest
eine Gruppe räumlich getrennter Foki aufweist, wobei die von einer Gruppe von Foki
ausgehende elektromagnetische Strahlbündel durch den Reflektor auf ein gemeinsames
Ausleuchtgebiet gerichtet werden, wird nachfolgend beschrieben. Das Verfahren kann
beispielsweise in Form einer Simulation mit Hilfe eines Computerprogramms oder auch
durch wiederholte mechanische Verformung eines Reflektors erfolgen.
[0028] Ausgehend von einer globalen Oberflächenstruktur für den Reflektor (beispielsweise
parabolisch gekrümmt) wird für eine vorgegebene Position von mindestens zwei Strahlern
verschiedener Frequenz die Reflexionswirkung des Reflektors bestimmt. Anschließend
wird durch zumindest eine erste lokale Variation der Reflektoroberlfäche mit einer
ersten, noch relativ groben Größerordnung, d.h. durch Ausbildung von Erhebungen und
Vertiefungen auf der globalen Struktur des Reflektors, die Reflexionswirkung des Reflektors
derart abgewandelt, daß für die Position der einzelnen Strahler eine grobe Richtwirkung
deren Strahlbündel auf das gewünschte Ausleuchtgebiet erfolgt, d.h. es wird in einem
ersten, groben Schritt die Bildung räumlich getrennter Foki am Ort der Strahler angestrebt.
[0029] Bevorzugt erfolgt in einem zweiten Schritt zur Optimierung der Reflexionswirkung
eine zweite, feinere lokale Strukturierung der Reflektoroberfläche, nun jedoch mit
geringerer Größendimension, die der ersten lokalen Strukturierung überlagert wird,
d.h. es werden auf den bereits bestehenden, groben Erhebungen und Vertiefungen feinere
Erhebungen und Vertiefungen gebildet. Die Optimierung erfolgt derart, daß die Richtwirkung
der von den Strahlern ausgehenden Strahlbündel auf das gemeinsame Ausleuchtgebiet
verbessert wird, d.h. die Ausbildung räumlich getrennter Foki am Ort der Strahler
optimiert wird.
[0030] Diese lokale Strukturierung der Reflektoroberfläche kann bei Bedarf in noch weiteren
Schritten mit jeweils feinerer Größenordnung der Strukturen iterativ fortgesetzt werden,
um ein möglichst gutes Resultat zu erzielen. Man erhält damit eine Art fraktale Struktur
der Reflektoroberfläche mit unterschiedlichen Strukturierungen in unterschiedlichen
Größenordnungen.
[0031] Es kann bei den vorgenannten Optimierungsschritten auch die räumliche Position der
Strahler und deren Ausrichtung, also deren Winkel zueinander und zum Reflektor, variiert
werden, wodurch Lage und Größe des vom Strahler ausgeleuchteten Bereiches des Reflektors
variiert werden kann. Dadurch kann sichergestellt werden, daß in jedem Fall ein globales
Optimum für die einzelnen Optimierungsschritte gefunden wird.
[0032] Nachfolgend wird anhand der Fig. 1 bis 5 ein Ausführungsbeispiel der vorliegenden
Erfindung erläutert.
[0033] Es zeigen:
- Fig. 1
- schematische Darstellung eines erfindungsgemäßen Antennensystems,
- Fig. 2
- schematische Darstellung der Ausleuchtung eines erfindungsgemäßen Reflektors durch
mehrere Strahler,
- Fig. 3
- schematische Darstellung der Oberfläche eines erfindungsgemäßen Reflektors,
- Fig. 4
- schematische Darstellung der Ausleucht- und Isolationsgebiete, erzielt durch ein erfindungsgemäßes
Antennensystem.
[0034] Fig. 1 zeigt ein erfindungsgemäßes Antennensystem, wie es in der Nachrichtentechnik
Anwendung finden kann und beispielsweise in eine Bodenstation oder einen Kommunikationssatelliten
integriert werden kann. Das Antennensystem weist dabei einen Reflektor mit geformter
Oberfläche 1 auf. Eine Gruppe 2 von Strahlern 4a, 4b ist so angeordnet, daß sie im
Sendefall den Reflektor 1 zumindest teilweise ausleuchtet. Die Strahler 4a, 4b sind
dabei für voneinander verschiedene Frequenzen oder Frequenzbänder ausgelegt. Außerdem
sind die Strahler 4a, 4b räumlich getrennt voneinander angeordnet. Die Strahler 4a,
4b sind in zwei Foki 10a, 10b des Reflektors 1 angeordnet, so daß von den Strahlern
4a, 4b ausgehende Strahlbündel 5a, 5b, die von der Oberfläche des Reflektors 1 reflektiert
werden auf ein gemeinsames Ausleuchtgebiet 3 gerichtet werden. Dieses Ausleuchtgebiet
3 kann sich beispielsweise bei einer Anwendung des Antennensystems in einem Kommunikationssatelliten
auf der Erdoberfläche befinden.
[0035] Es ist jedoch vorgesehen, daß nicht beide Strahler als Sender arbeiten, sondern es
soll nur der Strahler 4a als Sender arbeiten, der Strahler 4b dagegen als Empfänger.
Das zugehörige Strahlbündel 5b läuft in diesem Fall nicht vom Strahler 4b zum Ausleuchtgebiet
3, sondern in die entgegengesetzte Richtung. Der Reflektor 1 ist durch entsprechende
lokale Formgebung der Oberfläche als frequenzselektiver Reflektor ausgelegt, so daß
vom Ausleuchtgebiet 3 ausgehende Strahlbündel 5b lediglich in denjenigen Fokus 10b
fokussiert wird, in dem der Strahler 4b angeordnet ist.
[0036] Fig. 2 verdeutlicht die Ausleuchtung der Oberfläche 9 des Reflektors mit geformter
Oberfläche 1 durch mehrere Strahler. Es sind hierbei zwei Gruppen 2, 20 von Strahlern
vorgesehen, wobei die erste Gruppe 2 aus den Strahlern 4a, 4b besteht, die in einer
ersten Gruppe von Foki 10a, 10b des Reflektors 1 angeordnet ist, die zweite Gruppe
20 durch die Strahler 40a, 40b gebildet wird, die in einer zweiten Gruppe 110a, 110b
von Foki angeordnet ist. Die erste Gruppe 2 von Strahlern sendet das Strahlbündel
5a und empfängt das Strahlbündel, 5b, wobei die beiden Strahlbündel 5a, 5b voneinander
verschiedene Frequenzen oder Frequenzbänder aufweisen. Analog sendet die zweite Gruppe
20 von Strahlern das Strahlbündel 50a und empfängt das Strahlbündel 50b, die wiederum
voneinander verschiedene Frequenzen oder Frequenzbänder aufweisen. Jedoch können Strahlbündel
5a, 5b, 50a, 50b der beiden Gruppen 2, 20 von Strahlern untereinander gleiche Frequenzen
oder Frequenzbänder aufweisen. So kann beispielsweise das Strahlbündel 5a dieselbe
Frequenz oder dasselbe Frequenzband aufweisen, wie das Strahlbündel 50a. Entsprechendes
gilt für die beiden Strahlbündel 5b und 50b.
[0037] Außerdem können die einzelnen Strahlbündel eine beliebige Polarisation aufweisen.
So können beispielsweise die Stahlbündel 5a, 5b dieselbe Polarisation aufweisen, ohne
daß dies die Funktionsfähigkeit des Systems beeinträchtigen würde.
[0038] Die beiden Gruppen von Strahlern 2, 20 sind derart relativ zum Reflektor 1 bzw. zu
dessen Oberfläche 9 angeordnet, daß jeder der Strahler 4a, 4b, 40a, 40b im Sendefall
hauptsächlich einen bestimmten Oberflächenbereich 6a, 6b, 60a, 60b des Reflektors
ausleuchtet. Jeder dieser Oberflächenbereiche 6a, 6b, 60a, 60b ist somit fast ausschließlich
für ein bestimmtes Ausleuchtgebiet 3a, 3b und für eine bestimmte Frequenz oder ein
bestimmtes Frequenzband wirksam. Im Falle der umgekehrten Strahlrichtung gilt dies
entsprechend, da die beiden Strahlrichtungen in entsprechender Weise durch den Reflektor
beeinflußt werden, d.h. es liegt ein reziprokes Verhalten vor.
[0039] Fig. 3 verdeutlicht nochmals die Formgebung der Reflektoroberfläche. Die Reflektoroberfläche
weist dabei eine globale Formgebung auf, im Fall nach Fig. 1 dabei eine leicht parabolisch
gekrümmte Oberfläche. Zusätzlich weist die Reflektoroberfläche 9 eine lokale Formgebung
auf, die durch lokale Erhebungen und Vertiefungen unterschiedlicher Größenordnung
gebildet wird. Es sind dabei gröbere Erhebungen und Vertiefungen mit einer ersten
Größenordnung weitere, feinere Erhebungen und Vertiefungen überlagert, die eine geringere
Größenordnung aufweisen. Diese lokalen Erhebungen und Vertiefungen finden sich insbesondere
in den Strukturbereichen 6a, 6b, 60a, 60b, die für die einzelnen Ausleuchtgebiete
3a, 3b bzw. die zugehörigen Frequenzen oder Frequenzbänder wirksam sind. Außerdem
ist in Fig. 3 ein zusätzlicher Strukturbereich 7 der Reflektoroberfläche 9 dargestellt,
durch den die Erzeugung eines separaten Isolationsgebietes 8 bewirkt werden kann.
Dieses Isolationsgebiet dient dabei zur Abschattung eines Teiles der Erdoberfläche
12, wie aus der Fig. 4 deutlich wird. Umgekehrt dienen der Strukturbereich 6a dazu,
das Strahlbündel 5a auf das zugehörige Ausleuchtgebiet 3a zu richten, welches ebenfalls
in Fig. 4 dargestellt ist. Der Strukturbereich 6b dient dazu, das Strahlbündel 5b,
das von dem zugehörigen Ausleuchtgebiet 3a ausgeht, auf den Strahler 4b im Fokus 10
b zu fokussieren. Analog dienen die Strukturbereiche 60a und 60b dazu, die Strahlbündel
50a auf das zweite Ausleuchtgebiet 3b bzw. das Stahlbündel 50b auf den Strahler 60b
zu richten.
[0040] Eine weitere Isolationswirkung ist nötig, damit die Strahlbündel, die auf die Ausleuchtgebiete
3a und 3b gerichtet werden, praktisch nur das jeweilige Ausleuchtgebiet ausleuchten
und nicht bis in das benachbarte Ausleuchtgebiet reichen, in welchem sie Störungen
verursachen könnten. Diese Isolation kann ebenfalls durch eine entsprechende Anpassung
der Reflektoroberfläche, wie bereits vorstehend beschrieben, erreicht werden. Wird
wie in diesem Beispiel die Ausleuchtung des Ausleuchtgebietes 3a durch die Reflektorbereiche
6a, 6b erzielt, und besteht die Gefahr, daß Streustrahlung auch das Ausleuchtgebiet
3b erreicht, so können z.B. die Reflektorbereiche 60a, 60b zusätzlich zu ihrer oben
beschriebenen Wirkung so angepaßt werden, daß auf den Reflektor 1 auftreffende Streustrahlung
des Strahlbündels 5a, die die Reflektorbereiche 60a, 60b erreicht, durch diese derart
auf das Ausleuchtgebiet 3b gerichtet wird, daß sie mit der Streustrahlung, die von
den Reflektorbereichen 6a, 6b auf das Ausleuchtgebiet 3b fällt, destruktiv interferiert
und so die effektive Streustrahlung im Ausleuchtgebiet 3b praktisch Null wird. Analoges
gilt für die Ausleuchtung des Gebietes 3b und die dadurch verursaschte Streustrahlung
im Ausleuchtgebiet 3a.
1. Reflektor für elektromagnetische Wellen mit geformter Oberfläche, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche des Reflektors (1) eine lokale Formgebung aufweist, die derart
ausgelegt ist, daß der Reflektor (1) zumindest eine Gruppe räumlich getrennter Foki
(10a, 10b, 110a, 110b) aufweist und von einer Gruppe von Foki (10a, 10b, 110a, 110b)
ausgehende elektromagnetische Strahlbündet (5a, 5b, 50a, 50b) durch den Reflektor
(1) auf ein gemeinsames Ausleuchtgebiet (3, 3a, 3b) gerichtet werden.
2. Reflektor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor (1) eine erste Gruppe von zwei ersten Foki (10a, 10b) aufweist,
wobei von den ersten Foki (10a, 10b) ausgehende Strahlbündel (5a, 5b) auf ein erstes
Ausleuchtgebiet (3, 3a) gerichtet werden.
3. Reflektor nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor mindestens eine zweite Gruppe von zweiten Foki (110a, 110b) aufweist,
wobei von den zweiten Foki (110a, 110b) ausgehende Strahlbündel (50a, 50b) auf ein
zweites Ausleuchtgebiet (3b) gerichtet werden.
4. Reflektor nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor (1) einzelne Oberflächenbereiche (6a, 6b, 60a, 60b) aufweist, die
jeweils für ein Ausleuchtgebiet (3, 3a, 3b) wirksam sind.
5. Reflektor nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor (1) einzelne Oberflächenbereiche (7) aufweist, die für die Erzielung
einer Isolationswirkung in Gebieten (8, 3b, 3a) die den Ausleuchtgebieten (3, 3a,
3b) benachbart sind, wirksam sind.
6. Reflektor nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die lokale Formgebung der Oberfläche des Reflektors (1) derart ausgelegt ist,
daß die räumliche Lage der Foki (10a, 10b, 110a, 110b) frequenzabhängig ist.
7. Reflektor nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor (1) einzelne Oberflächenbereiche (6a, 6b, 60a, 60b) aufweist, die
jeweils für ein Ausleuchtgebiet (3, 3a, 3b) und eine Frequenz oder ein Frequenzband
wirksam sind.
8. Reflektor nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor (1) eine globale Oberflächenformgebung aufweist, der iterativ mehrere
lokale Oberflächenformgebungen mit feiner werdenden Größenordnungen überlagert sind.
9. Antennensystem mit einem Reflektor mit geformter Oberfläche nach einem der Ansprüche
1 bis 8, und zumindest einer Gruppe mit zumindest einem ersten und zumindest einem
zweiten Strahler (4a, 4b, 40a, 40b), wobei der erste Strahler (4a, 40a) räumlich getrennt
von dem zweiten Strahler (4b, 40b) angeordnet ist und der erste und zweite Strahler
(4a, 40a, 4b, 40b) jeweils in einem Fokus (10a, 10b, 110a, 110b) des Reflektors (1)
angeordnet sind, so daß vom ersten und zweiten Strahler (4a, 40a, 4b, 40b) ausgehende
erste und zweite Strahlbündel (5a, 50a, 5b, 50b) auf ein gemeinsames Ausleuchtgebiet
(3, 3a, 3b) gerichtet werden.
10. Antennensystem nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der erste Strahler (4a, 40a) als Sender und der zweite Strahler (4b, 40b) als
Empfänger ausgelegt ist.
11. Antennensystem nach einem der Ansprüche 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, daß der erste Strahler (4a, 40a) für Strahlbündel (5a, 50a) mit einer ersten Frequenz
oder einem ersten Frequenzband und der zweite Strahler (4b, 40b) für Strahlbündel
(5b, 50b) mit einer zweiten Frequenz oder einem zweiten Frequenzband ausgelegt ist.
12. Antennensystem nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß eine erste Gruppe (2) von Strahlern (4a, 4b) vorgesehen ist, die so angeordnet
ist, daß die von den Strahlern (4a, 4b) ausgehenden Strahlbündel (5a, 5b) auf ein
erstes Ausleuchtgebiet (3a) gerichtet werden und eine zweite Gruppe (20) von Strahlern
(40a, 40b), die so angeordnet ist, daß die von den Strahlern (40a, 40b) ausgehende
Strahlbündel (50a, 50b) auf ein zweites Ausleuchtgebiet (3a) gerichtet werden, wobei
die erste (2) und zweite Gruppe (20) räumlich getrennt voneinander angeordnet sind.
13. Antennensystem nach einem der Ansprüche 9 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß jeder der ersten und zweiten Strahler (4a, 40a, 4b, 40b) derart angeordnet ist
und die Formgebung der Oberfläche des Reflektors (1) derart ausgelegt ist, daß jeder
der Strahler (4a, 40a, 4b, 40b) das gesamte Ausleuchtgebiet (3, 3a, 3b) ausleuchtet.
14. Verfahren zur Ermittlung der Oberflächenformgebung eines Reflektors (1), der zumindest
eine Gruppe räumlich getrennter Foki (10a, 10b, 110a, 110b) aufweist, und von einer
Gruppe von Foki (10a, 10b, 110a, 110b) ausgehende elektromagnetische Strahlbündel
(5a, 5b, 50a, 50b) durch den Reflektor (1) auf ein gemeinsames Ausleuchtgebiet (3,
3a, 3b) gerichtet werden, wobei ausgehend von einer globalen Grundstruktur der Reflektoroberfläche
für bestimmte Positionen der Strahler (4a, 4b, 40a, 40b) die lokale Oberflächenstruktur
des Reflektors durch Bildung lokaler Erhebungen und Vertiefungen in mehreren iterativen
Schritten derart variiert wird, daß eine Fokussierung der Strahlbündel (5a, 5b, 50a,
50b) auf ein gemeinsames Ausleuchtgebiet (3, 3a, 3b) erzielt wird.
15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß neben einer lokalen Variation der Reflektoroberfläche auch eine Variation der
Position der Strahler (4a, 4b, 40a, 40b) relativ zum Reflektor erfolgt.