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(11) |
EP 0 903 210 B1 |
(12) |
EUROPÄISCHE PATENTSCHRIFT |
(45) |
Hinweis auf die Patenterteilung: |
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16.05.2001 Patentblatt 2001/20 |
(22) |
Anmeldetag: 27.08.1998 |
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(51) |
Internationale Patentklassifikation (IPC)7: B28D 5/00 |
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(54) |
Sägeleiste zum Fixieren eines Kristalls und Verfahren zum Abtrennen von Scheiben
Bar for mounting crystal for sawing and method of wire sawing wafers from crystal
Barre de montage d'un cristal pour son sciage et procédé à couper le cristal en plaquettes
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(84) |
Benannte Vertragsstaaten: |
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DE GB IT |
(30) |
Priorität: |
11.09.1997 DE 19739965
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(43) |
Veröffentlichungstag der Anmeldung: |
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24.03.1999 Patentblatt 1999/12 |
(73) |
Patentinhaber: Wacker Siltronic
Gesellschaft für Halbleitermaterialien Aktiengesellschaft |
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84489 Burghausen (DE) |
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(72) |
Erfinder: |
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- Käser, Maximilian
84489 Burghausen (DE)
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(74) |
Vertreter: Rimböck, Karl-Heinz, Dr. et al |
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c/o Wacker-Chemie GmbH
Zentralabteilung PML
Hanns-Seidel-Platz 4 81737 München 81737 München (DE) |
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Entgegenhaltungen: :
EP-A- 0 232 920 EP-A- 0 552 663
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EP-A- 0 348 783
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- PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 097, no. 005, 30. Mai 1997 -& JP 09 019921 A (TOKYO
SEIMITSU CO LTD), 21. Januar 1997
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Anmerkung: Innerhalb von neun Monaten nach der Bekanntmachung des Hinweises auf die
Erteilung des europäischen Patents kann jedermann beim Europäischen Patentamt gegen
das erteilte europäischen Patent Einspruch einlegen. Der Einspruch ist schriftlich
einzureichen und zu begründen. Er gilt erst als eingelegt, wenn die Einspruchsgebühr
entrichtet worden ist. (Art. 99(1) Europäisches Patentübereinkommen). |
[0001] Gegenstand der Erfindung ist eine Sägeleiste zum Fixieren eines Kristalls aus Halbleitermaterial
beim Abtrennen von Scheiben von diesem Kristall mit einer Drahtsäge. Die Erfindung
betrifft auch ein Verfahren zum Abtrennen von Scheiben, bei dem die Sägeleiste eingesetzt
wird.
[0002] Beim Abtrennen von Scheiben von einem Kristall aus Halbleitermaterial mit einer Drahtsäge
können nach transversalen Auslenkungen des Sägedrahtes unerwünschte Riefen (Sägemarken)
auf den Seiten der Scheiben entstehen. Der Kristall ist auf einer Sägeleiste fixiert,
in die der Sägedraht nach dem Abtrennen der Scheiben einige Millimeter weit eindringt.
Die Sägeleiste besteht üblicherweise aus einem massiven Graphicblock, und der Kristall
ist auf diesem, beispielsweise mit einem Kleber aus Epoxy-Harz, aufgekittet (Siehe
z.B. die EP-A-0 232 920).
[0003] Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, anzugeben, wie das Entstehen von Riefen
beim Abtrennen von Scheiben von einem Kristall aus Halbleitermaterial mit einer Drahtsäge
zuverlässig vermieden werden kann.
[0004] Gelöst wird die Aufgabe durch eine Sägeleiste gemäß Anspruch 1 oder Anspruch 2.
[0005] Durch Versuche wurde festgestellt, daß das Entstehen von Riefen in engem Zusammenhang
mit der Verwendung von massiven Sägeleisten aus Graphit steht. Es bietet sich folgende
Erklärung an: Graphit ist im Vergleich zu Halbleitermaterial, wie beispielsweise Silicium,
ein relativ weicher Werkstoff. Der Sägedraht hat beim Abtrennen der Scheiben einen
bestimmten Widerstand in Vorschubrichtung zu überwinden. Beim Eintritt des Sägedrahtes
in die Sägeleiste aus Graphit wird dieser Widerstand abrupt schwächer. Dadurch kann
der Sägedraht transversal abgelenkt werden und die erwähnten Riefen im Randbereich
der Scheiben hinterlassen.
[0006] Um dem vorzubeugen, wurde bereits eine Sägeleiste vorgeschlagen, die aus einem Material
gefertigt ist, das in Bezug auf seine Härte mit der Härte des Halbleitermaterials
übereinstimmt oder eine annähernd gleiche Härte aufweist. Als besonders geeignet haben
sich Sägeleisten aus einem Material mit einer Härte im Bereich von 4 bis 7 (Mohsskala),
insbesondere Sägeleisten aus Glas oder Silicium erwiesen. Von Vorteil ist auch, wenn
das verwendete Material ein elektrischer Isolator ist. In diesem Fall kann der Sägedraht
während des Abtrennvorganges mit schwachem elektrischen Strom beaufschlagt werden
und ein Drahtriß oder Masseschluß durch die resultierende Stromstärkenänderung detektiert
werden.
[0007] Die Erfindung wird nachfolgend an Hand von Figuren erläutert, die bevorzugte Ausbildungsformen
der Sägeleiste in Schnittdarstellung schematisch zeigen. Gleichartige Merkmale sind
mit gleichen Bezugszahlen versehen. In Figur 1 ist eine massive Sägeleiste gemäß dem
Stand der Technik dargestellt. Die Sägeleiste gemäß Figur 2 ist als schichtförmiger
Verbundkörper ausgebildet. Die Sägeleiste gemäß Figur 3 besitzt ein Hohlprofil.
[0008] Zunächst wird die zum Stand der Technik gehörende Sägeleiste gemäß Figur 1 näher
beschrieben. Die Sägeleiste 1 ist aus einem Material gefertigt, dessen Härte im wesentlichen
mit der Härte des Halbleitermaterials, aus dem der Kristall 2 besteht, übereinstimmt.
Durch diese Materialwahl bleibt der Sägedraht auch beim Eintritt in die Sägeleiste
in der vorgesehenen Schneidebene, so daß die Scheiben im Randbereich nicht beschädigt
werden.
[0009] Die erfindungsgemäße Sägeleiste 1 in der Ausbildungsform gemäß Figur 2 besteht aus
einem schichtförmig strukturierten Verbundkörper, wobei der an den Kristall angrenzende
Abschnitt 3 des Verbundkörpers aus einem Material besteht, dessen Härte gleich oder
ähnlich ist wie die Härte des Kristalls 2. Der Abschnitt 3 besteht vorzugsweise aus
einer der Kristallform angepaßten Glas- oder oder Siliciumschale, sofern der Kristall
aus Silicium besteht. An diese Schale schließt sich mindestens ein weiterer Abschnitt
4 an, der aus einem Material gefertigt ist, das wesentlich weicher ist als das Material
des Abschnitts 3, der an den Kristall angrenzt. Besonders bevorzugt ist, daß der weitere
Abschnitt 4 aus Graphit besteht oder eine ähnliche Härte wie Graphit hat. Die Abschnitte
des schichtförmig strukturierten Verbundkörpers sind vorzugsweise miteinander verklebt.
Bei Verwendung einer derartigen Sägeleiste wird nicht nur das Entstehen von Riefen
vermieden. Es ist auch besonders einfach, die abgetrennten Scheiben von der Sägeleiste
zu brechen, weil nach dem Abtrennen der Scheiben eine Verbindung zur Sägeleiste bleibt,
die von einem Abschnitt der Sägeleiste gebildet wird, der vergleichsweise weich ist
und sich als Sollbruchstelle eignet.
[0010] Gemäß der in Figur 3 dargestellten Ausbildungsform ist die Sägeleiste 1 im Querschnitt
als Hohlprofil ausgebildet. Das Hohlprofil kann beliebig geformt sein, beispielsweise
rechtekkig, kreisförmig oder anderweitig mehreckig. Nach dem Abtrennen der Scheiben
bleibt wegen des Hohlprofils ein vergleichsweise schmaler Steg 5 zurück, über den
die Scheiben mit der Sägeleiste verbunden bleiben. Durch Brechen dieser Verbindung
können die Scheiben freigelegt werden. Dadurch kann vermieden werden, daß der Sägedraht
entlang der beim Abtrennen der Scheiben entstandenen Schneidspalte zurückgeführt werden
muß und die Scheiben beschädigt werden. Bei Verwendung einer massiven Sägeleiste ist
die nach dem Abtrennen der Scheiben bleibende Verbindung zur Sägeleiste vergleichsweise
breit, so daß nicht ausgeschlossen werden kann, daß eine Scheibe beschädigt wird,
wenn die Verbindung gebrochen wird. Hingegen eignet sich ein wegen des Hohlprofils
bleibender schmaler Steg besonders gut als Sollbruchstelle. Gegenstand der Erfindung
ist auch eine gemäß Figur 2 als Verbundkörper ausgebildete Sägeleiste, die gemäß Figur
3 ein Hohlprofil hat.
1. Mit einem Kristall aus Halbleitermaterial verbundene Sägeleiste, die zum Abtrennen
von Scheiben von dem Kristall mit einer Drahtsäge eingesetzt wird, mit einem an den
Kristall angrenzenden Abschnitt, der eine Härte aufweist, die im wesentlichen der
Härte des Kristalls entspricht, dadurch gekennzeichnet, dass die Sägeleiste als Verbundkörper
ausgebildet ist und einen weiteren Abschnitt aufweist, der vom Kristall weiter entfernt
und wesentlich weicher ist als der an den Kristall angrenzende Abschnitt.
2. Mit einem Kristall aus Halbleitermaterial verbundene Sägeleiste, die zum Abtrennen
von Scheiben von dem Kristall mit einer Drahtsäge eingesetzt wird, mit einem an den
Kristall angrenzenden Abschnitt, der eine Härte aufweist, die im wesentlichen der
Härte des Kristalls entspricht, dadurch gekennzeichnet, dass die Sägeleiste im Querschnitt
ein Hohlprofil aufweist.
3. Verfahren zum Abtrennen von Scheiben von einem Kristall aus Halbleitermaterial mit
einer Drahtsäge, wobei der Kristall mit einer Sägeleiste verbunden ist, und beim Abtrennen
der Scheiben erst in den Kristall und anschließend in die Sägeleiste gesägt wird,
dadurch gekennzeichnet, dass in eine Sägeleiste gemäß Anspruch 1 oder Anspruch 2 gesägt
wird.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Sägedraht mit schwachem
elektrischen Strom beaufschlagt wird.
1. Saw strip which is connected to a crystal of semiconductor material and is used to
cut wafers from the crystal using a wire saw, having a section which adjoins the crystal
and has a hardness which essentially corresponds to the hardness of the crystal, characterized
in that the saw strip is in the form of a composite body and has a further section
which is situated further away from the crystal and is considerably softer than the
section which adjoins the crystal.
2. Saw strip which is connected to a crystal of semiconductor material and is used to
cut wafers from the crystal using a wire saw, having a section which adjoins the crystal
and has a hardness which essentially corresponds to the hardness of the crystal, characterized
in that the saw strip has a hollow profile in cross section.
3. Process for cutting wafers from a crystal of semiconductor material using a wire saw,
the crystal being connected to a saw strip, and during sawing of the wafers the saw
cutting firstly into the crystal and then into the saw strip, characterized in that
the saw cuts into a saw strip according to Claim 1 or Claim 2.
4. Process according to Claim 3, characterized in that a weak electric current is applied
to the saw wire.
1. Barre de sciage connectée à un cristal de matériau semi-conducteur, qui est utilisée
pour séparer des plaquettes du cristal au moyen d'une scie hélicoïdale comprenant
une portion adjacente au cristal d'une dureté correspondant approximativement à la
dureté du cristal, caractérisée en ce que la barre de sciage est formée en tant que
corps composite et présente une autre portion qui est plus éloignée du cristal et
essentiellement plus molle que la portion adjacente au cristal.
2. Barre de sciage connectée à un cristal de matériau semi-conducteur, qui est utilisée
pour séparer des plaquettes du cristal au moyen d'une scie hélicoïdale comprenant
une portion adjacente au cristal d'une dureté correspondant approximativement à la
dureté du cristal, caractérisée en ce que la barre de sciage présente un profil creux
en section transversale.
3. Procédé pour séparer des plaquettes d'un cristal en matériau semi-conducteur comprenant
une scie hélicoïdale, le cristal étant connecté à une barre de sciage, dans lequel
procédé, lors de la séparation des plaquettes, on scie d'abord dans le cristal puis
dans la barre de sciage, caractérisé en ce que l'on scie dans une barre de sciage
selon la revendication 1 ou la revendication 2.
4. Procédé selon la revendication 3, caractérisé en ce que la scie hélicoïdale est chargée
par un courant électrique faible.
