Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Siebdruckzylinders

Beschreibung

[0001] Ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Herstellung eines Siebdruckzylinders sind bereits aus der FR-A-1 552 436 bzw. der DE-AS 1 671 499 bekannt. Dort geht es um die Herstellung eines zweilagigen Siebdruck- bzw. Rotationsrasterdruckzylinders für den Textildruck. Der Siebdruckzylinder, der auch mit Endringen ausgestattet sein kann, kann einen Aufbau aufweisen, wie er zum Beispiel aus der Britischen Patentschrift 1 050 649 bekannt ist. Dort ist ein relativ grobmaschiger Zylinder von einem relativ feinmaschigen Zylinder umgeben. Beim eingangs genannten Stand der Technik wird der Siebdruckzylinder stirnseitig auf Bunden gehalten, die drehbar an einem Querträger befestigt sind. Gegen die Mantelfläche des Siebdruckzylinders drückt von innen eine Stützwalze, die sich in Längsrichtung des Siebdruckzylinders erstreckt. Außerhalb des Siebdruckzylinders und parallel zur Stützwalze erstreckt sich eine Quetschrolle, die der Stützwalze im Abstand gegenüberliegt. Durch den Spalt zwischen Stützwalze und Quetschrolle ist tangential zum Siebdruckzylinder eine Matrize hindurchführbar, die plattenförmig ausgebildet und mit einem Muster versehen ist. Durch diese Matrize hindurch wird musterbedingt Abdeckmaterial auf die Oberfläche des Siebdruckzylinders aufgetragen, um diesen bereichsweise zu verschließen. Dabei erfolgt die Drehung des Siebdruckzylinders, der über die Bunde auf dem Querträger drehbar gelagert ist, beim Transport der Matrize durch den Spaltbereich zwischen Quetschrolle und Stützwalze hindurch. Nach der Britischen Patentschrift 1 050 649 handelt es sich bei dem Siebdruckzylinder um einen solchen, bei der der Innenzylinder relativ fest und der Außenzylinder relativ flexibel ist, etwa aus Nylon besteht.

[0002] Um Fliesen oder Keramik bedrucken zu können, kommen u. a. mit Gaze bespannte Siebdruckzylinder zum Einsatz. Gaze können Nylon- bzw. Kunststoffsiebe mit verschiedener Maschenweite sein. Zur Bildung der Siebdruckzylinder wird die Gaze auf zwei stabile und zum Beispiel metallische Endringe mit bestimmtem Durchmesser aufgeklebt. Allersdings wären die so hergestellten Siebdruckzylinder komplett instabil, so daß zwischen die beiden Endringe zwei oder ggf. drei Distanzstangen angeordnet werden, um die Endringe auf Abstand zu halten. Diese Distanzstangen werden ausschließlich zum Transportieren und Lagern und ggf. beim Entwickeln der Siebdruckzylinder verwendet. Zum Beschichten, Bemustern und Drucken werden diese Distanzstangen wieder entfernt, da bei diesen Arbeitsschritten die Fixierung der Siebdruckzylinder bzw. ihrer Endringe von den jeweiligen Maschinen bewerkstelligt wird.

[0003] Ist ein solcher Siebdruckzylinder auf einer der genannten Maschinen horizontal angeordnet, schnürt sich die Gaze in der Mitte ein. Mit anderen Worten nimmt der Außendurchmesser des Siebdruckzylinders zu seiner Mitte hin ab. Dies kann durch Spannen der Gaze in Längsrichtung des Siebdruckzylinders nur zum Teil kompensiert werden, indem die Endringe auseinandergefahren werden.

[0004] Soll eine mit einem lichtempfindlichen Lack zum Beispiel innen und außen beschichtete Gaze, die zylindrisch auf gegenüberliegenden Endringen befestigt ist, in einer Belichtungsmaschine bemustert werden, so wird herkömmlicherweise um die Gaze herum ein Film mit dem zu druckenden Muster herumgelegt, durch den hindurch die Gaze belichtet wird. Damit der Film exakt an der Umfangsoberfläche der Gaze anliegt, um Hohlkopien zu vermeiden, wird außen eine zylindrische Plexiglasschale über den gesamten Umfang der Gaze aufgespannt, während eine innen liegende Schlauchwalze den durch die Gaze gebildeten Siebdruckzylinder aufbläst und dessen Mantel gegen die Plexiglasschale drückt, wobei der Film zwischen der Außenseite der Gaze und der Innenseite der Plexiglasschale zu liegen kommt. Anschließend wird die auf der Gaze liegende lichtempfindliche Schicht durch den Film hindurch belichtet, also auch durch die Plexiglasschale hindurch, und zwar mit geeigneter Strahlung und über einen vorbestimmten Zeitraum.

[0005] Nach dem Belichten werden Plexiglasschale und Film vom Siebdruckzylinder abgenommen und der Siebdruckzylinder selbst aus der Belichtungsmaschine entfernt. Sodann wird die belichtete lichtempfindliche Schicht entwickelt, getrocknet, ggf. retuschiert und ausgehärtet, so daß der Siebdruckzylinder dann druckfertig ist.

[0006] Beim Drucken mit Hilfe des Siebdruckzylinders wird mittels einer Innenrakel die Druckfarbe durch die jetzt bemusterte Gaze hindurch auf zum Beispiel Fliesen gedrückt. Dabei wird die Gaze im Bereich der Rakel auf etwa den Durchmesser der Endringe ausgedehnt bzw. verformt.

[0007] Das herkömmliche Verfahren ist relativ umständlich, da u. a. die Plexiglasschalen zum Einsatz kommen müssen, um die Zylinderumfangswandung beim Bemustern bzw. Belichten über Film in einer radialen Position zu halten, die der radialen Position der Umfangswandung im Bereich der Rakel beim späteren Drucken entspricht. Andernfalls werden verzerrte Muster erhalten.

[0008] Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs genannten Art so weiterzubilden, daß die Handhabung der Siebdruckzylinder insbesondere beim Bemustern verbessert wird. Es soll ebenfalls eine zur Durchführung dieses Verfahrens geeignete Vorrichtung geschaffen werden.

[0009] Die verfahrensseitige Lösung der gestellten Aufgabe ist im Anspruch 1 angegeben. Dagegen ist die vorrichtungsseitige Lösung der gestellten Aufgabe im Anspruch 8 genannt. Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind den jeweils nachgeordneten Unteransprüchen zu entnehmen.

[0010] Die Erfindung betrifft zunächst ein Verfahren zur Herstellung eines Siebdruckzylinders, mit folgenden Schritten:

• ein Mantel des Siebdruckzylinders wird nur durch eine von zwei Endringen gehaltene flexible Gaze gebildet, die für Flüssigkeiten bzw. pastöse Massen durchlässig ist;
• die Endringe sitzen koaxial auf einer drehbar gelagerten Welle, von der sie bei Drehung mitgenommen werden;
• durch Verschieben der Endringe voneinander weg wird der Mantel gespannt;
• eine auf einer Seite der Welle sitzende und sich wenigstens annähernd über die gesamte Länge des Siebdruckzylinders erstreckende Anlage drückt den Mantel von innen in eine parallel zur Welle liegende Position;
• bei Drehung der Welle wird die Anlage raumstabil gehalten; und
• eine Bemusterung des Siebdruckzylinders von außen erfolgt bei dessen Drehung nur im Bereich dieser Anlage mittels einer Bearbeitungsstation, die parallel zur Welle verschoben wird.

[0011] Das erfindungsgemäße Verfahren gestattet eine erheblich einfachere Handhabung des Siebdruckzylinders beim Bemustern, da dieser lediglich auf die Bemusterungsvorrichtung aufgesetzt zu werden braucht, ohne daß es erforderlich ist, ihn noch mit weiteren Anpreßelementen zu umgeben oder eine in ihm liegende Schlauchwalze aufzublasen. Das Aufsetzen und Abnehmen auf die Vorrichtung bzw. von der Vorrichtung gestaltet sich somit relativ leicht. Außerdem wird durch die Anlage und das Bemustern im Bereich dieser Anlage sichergestellt, daß immer einwandfreie und unverzerrte Drucke auch beim Bedrucken von Fliesen bzw. Keramik erhalten werden, wenn der Druckbereich bzw. die Rakel beim Druckvorgang dort liegen, wo sich zuvor die Anlage befand.

[0012] Nach einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung wird als Anlage eine Walze verwendet, deren Längsachse parallel zur Zylinderlängsachse liegt. Da sich die Walze selbst frei um ihre Längsachse drehen kann, wird sie bei Drehung des Siebdruckzylinders um seine Zylinderachse mitgenommen und läuft auf der Innenumfangsfläche des Siebdruckzylinders ab. Durch diesen Abrollvorgang wird vermieden, daß zusätzliche Spannungen in die Umfangswandung des Siebdruckzylinders übertragen werden, was zu einer noch besseren Druckqualität führt.

[0013] Der Mantel des Siebdruckzylinders kann auf die verschiedensten Weisen bemustert werden. Dabei erfolgt der Bemusterungsvorgang immer von außen, also an der äußeren Umfangsoberfläche des Siebdruckzylinders.

[0014] Zum Beispiel kann die Bemusterung des Mantels so durchgeführt werden, daß auf diesen direkt eine Abdeckflüssigkeit mustergemäß aufgebracht wird. Es kann sich hier um eine aushärtbare Flüssigkeit, um Wachs, eine Metall-Legierung, und dergleichen, handeln.

[0015] Möglich ist es aber auch, zur Bemusterung des Mantels eine auf ihr liegende lichtempfindliche Schicht mustergemäß zu belichten und anschließend zu entwickeln. Dabei kann die Belichtung direkt erfolgen, beispielsweise mit Hilfe eines ein- und ausschaltbaren Laserstrahls. Die Belichtung könnte aber auch großflächig über einen Film erfolgen, der tangential an der äußeren Umfangsfläche des Mantels entlanggeführt wird und sich ebenfalls auf der Anlage abstützt.

[0016] Andererseits ist es aber auch möglich, durch einen Spritzvorgang der o. g. Art zunächst einen auf dem Mantel liegenden lichtempfindlichen Film mit lichtundurchlässiger Abdeckflüssigkeit musterbedingt abzudecken, um auf diese Weise eine Maske herzustellen, durch die anschließend hindurch belichtet wird.

[0017] Schließlich besteht eine andere Möglichkeit zur Bemusterung des Mantels darin, eine auf ihm liegende Schicht unmittelbar mustergemäß durch Bestrahlung abzutragen, etwa durch Wegbrennen mittels eine fokussierten Laserstrahls. Hier muß allerdings das Schichtmaterial im Vergleich zum Material des Mantels so gewählt sein, daß kein Durchbrennen des Mantels selbst erfolgt.

[0018] Als Mantel wird eine Gaze verwendet, die Poren bzw. Öffnungen mit bestimmter Maschenweite aufweist. Dabei kann die Gaze auch aus Nylon oder einem anderen Kunststoff bestehen. Sie ist relativ flexibel, um insbesondere Fliesen bzw. Keramik beim Bedrucken nicht zu beschädigen und um sich selbst nicht zu beschädigen.

[0019] Die Erfindung betrifft außerdem eine Vorrichtung zur Herstellung eines Siebdruckzylinders, mit :

• auf einer drehbaren Welle angeordneten Maschinenendringen zum stirnseitigen Halten des Siebdruckzylinders koaxial zur Welle;
• einer Spanneinrichtung zum Spannen des Siebdruckzylinders in Längsrichtung der Welle;
• einer innen und nur an einer Seite der Welle liegenden und sich wenigstens annähernd über die gesamte Länge des Siebdruckzylinders erstreckenden Anlage, die den Mantel des Siebdruckzylinders in eine parallel zur Welle liegende Position drückt, wobei
• die Anlage über ein Getriebe auf der Welle sitzt, das sie bei Drehung der Welle raumstabil hält; und
• einer Bearbeitungsstation zur Bemusterung des Siebdruckzylinders von außen, die der Anlage gegenüberliegend positioniert und parallel zur Welle verschiebbar ist.

[0020] Die Maschinenendringe, die Spanneinrichtung, die Anlage und die Bearbeitungsstation können sich sämtlich auf einem Bett einer Bearbeitungsmaschine befinden, die etwa drehbankartig ausgebildet ist. Der Siebdruckzylinder läßt sich zum Zwecke der Bemusterung in einfacher Weise auf die Maschine aufsetzen und von dieser wieder abnehmen, so daß sich der Bearbeitungsschritt der Bemusterung insgesamt erheblich vereinfacht.

[0021] Wie bereits erwähnt, ist die Anlage vorzugsweise als um ihre Längsachse drehbare Welle ausgebildet, die in ihrer Winkellage fest positioniert ist und über ein Getriebe auf derjenigen Achse ruht, auf der die Endringe sitzen und die zur Drehung des Siebdruckzylinders gedreht wird. Insofern ergibt sich eine kompakte Baueinheit.

[0022] Die Bearbeitungsstation sitzt auf einem Schlitten der Bearbeitungsmaschine, wobei der Schlitten seinerseits auf einer Führungsschiene gleitend verschiebbar ist, welche auf dem Maschinenbett ruht und sich parallel zur Längsrichtung der Welle erstreckt, auf die der Siebdruckzylinder aufgesetzt worden ist.

[0023] Die B earbeitungsstation kann nach einer Ausgestaltung der Erfindung als Spritzkopf zum Ausspritzen von Flüssigkeiten oder anderen viskosen Medien ausgebildet sein. Dabei kann der Spritzkopf auch so gestaltet sein, daß er sich zum Ausspritzen flüssiger Metall-Legierungen eignet, etwa zum Ausspritzen von Woodschem Metall. Er kann in Bewegungsrichtung hinter einer Ausspritzöffnung auch noch andere Bearbeitungseinheiten aufweisen, etwa eine Heizquelle zum Härten der ausgespritzen Flüssigkeit durch Anwendung von Hitze.

[0024] Andererseits kann die Bearbeitungsstation aber auch einen Belichtungskopf aufweisen, um lichtempfindliche Schichten zum Beispiel mit fokussierter Strahlung belichten zu können oder um andere Schichten mit fokussierter Strahlung abtragen zu können. Bei der fokussierten Strahlung kann es sich zum Beispiel um fokussierte Laserstrahlung handeln.

[0025] Auch könnte ein Spritzkopf mit einer in Bewegungsrichtung hinter ihm liegenden Belichtungsquelle versehen sein, so daß er nach Aufspritzen eines Bereichs einer Maske eine darunterliegende lichtempfindliche Schicht durch die Maske hindurch sofort großflächig belichten kann.

[0026] Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher beschrieben. Es zeigen:

Figur 1 eine Draufsicht auf eine Vorrichtung zur Bemusterung eines Siebdruckzylinders;

Figur 2 eine Seitenansicht der Vorrichtung nach Figur 1, teilweise im Schnitt; und

Figur 3 einen Axialschnitt durch die Vorrichtung nach Figur 1.

[0027] Die Figuren 1 bis 3 zeigen eine Vorrichtung nach der Erfindung zur Bemusterung eines Siebdruckzylinders in Übereinstimmung mit dem erfindungsgemäßen Verfahren.

[0028] Gemäß Figur 1 besteht der Siebdruckzylinder 1 aus zwei Endringen 2 und 3, die eine Gaze 4 umfangsseitig tragen. Gegenüberliegende Seitenränder der Gaze 4 sind entlang der Umfangsränder der Endringe 2 und 3 mit diesen verklebt, wobei die aneinanderstoßenden Ränder der Gaze 4 ebenfalls, vorzugsweise durch Verklebung, miteinander verbunden sind, so daß die Endringe 2 und 3 zusammen mit der Gaze 4 den Siebdruckzylinder 1 bilden.

[0029] Eine zentrale Zylinderlängsachse 5 des Siebdruckzylinders 1 bzw. der Endringe 2 und 3 liegt koaxial zu einer drehbar gelagerten Welle 6 mit Wellenabschnitten 6a und 6b. Die Wellenabschnitte 6a und 6b sind starr miteinander verbunden. Dabei ist der Wellenabschnitt 6b in geeigneter Weise mit einem Drehantrieb gekoppelt.

[0030] Auf dem Wellenabschnitt 6b befindet sich starr mit diesem verbunden ein Maschinenendring 7. Dieser Maschinenendring 7 sitzt fest auf dem Wellenabschnitt 6b und wird bei Drehung des Wellenabschnitts 6b von diesem entsprechend mitgenommen. Auf dem anderen Wellenabschnitt 6a sitzt ein weiterer Maschinenendring 8, der bei Drehung des Wellenabschnitts 6a von diesem entsprechend mitgedreht wird, der jedoch auf dem Wellenabschnitt 6a in dessen Längsrichtung verschiebbar ist. Zur Verschiebung des Maschinenendrings 8 entlang des Wellenabschnitts 6a dient eine Stellschraube 9, bei deren Drehung in der einen oder anderen Richtung der Maschinenendring 8 entlang des Wellenabschnitts 6a entsprechend vor- oder zurückbewegt wird.

[0031] Wie weiter unten noch ausgeführt wird, ist der Maschinenendring 7 mit dem Endring 3 starr gekoppelt, während der Maschinenendring 8 mit dem Endring 2 starr gekoppelt ist. Die Kopplung erfolgt über Klemmringe 10 und 11, wie noch erläutert wird. Dabei bestehen die Klemmringe 10 und 11 jeweils aus einem Paar von Halbschalen, die an einem Ende über ein Scharnier miteinander verbunden sind und am anderen Ende einen Klemmverschluß aufweisen, so daß beim Verschließen der jeweiligen Klemmverschlüsse die Klemmringe 10 und 11 die jeweiligen Endringe 3, 7 bzw. 2, 8 klemmend zusammenhalten.

[0032] Der Siebdruckzylinder 1 wird so montiert, daß er bei abgenommenem Maschinenendring 8 zunächst auf die Welle 6 aufgesetzt wird, wonach der Endring 3 mit dem Maschinenendring 7 unter Verwendung des Klemmrings 10 miteinander verbunden werden. Dann wird der Maschinenendring 8 auf den Wellenabschnitt 6a aufgeschoben, und es werden unter Verwendung des Klemmrings 11 die Endringe 2 und 8 miteinander verklemmt. Die Stellschraube 9 wird so gedreht, daß sich der Maschinenendring 8 vom Maschinenendring 7 entfernt, um auf diese Weise die zwischen den Endringen 2 und 3 liegende Gaze 4 in Längsrichtung der Welle 6 zu spannen.

[0033] Auf der Welle 6 befindet sich ein Getriebegehäuse 12. Dieses Getriebegehäuse 12 ist raumfest angeordnet und wird bei Drehung der Welle 6 nicht mitgenommen. Dies wird weiter unten näher beschrieben. Mit dem Getriebegehäuse 12 ist eine Halterung 13 verbunden, die sich in Längsrichtung der Welle 6 erstreckt und in Richtung der Zylinderlängsachse 5 eine Länge aufweist, die etwa dem Innenabstand der Endringe 2 und 3 entspricht. Das Getriebegehäuse 12 sitzt in Längsrichtung der Welle 6 etwa mittig im Siebdruckzylinder 1, so daß die Halterung 13 das Getriebegehäuse 12 in Längsrichtung der Welle 6 nach beiden Seiten etwa gleich weit überragt. Zur Verschiebung der Halterung 13 senkrecht zur Zylinderlängsachse 5 sind in der Halterung radiale Längsschlitze 14 und 15 vorhanden, durch die Schrauben 16, 17 hindurchgeführt sind, welche fest in einen Ansatz 18 eingeschraubt sind, der mit dem Getriebegehäuse 12 fest verbunden ist. Durch Lösen der Schrauben 16, 17 läßt sich die Halterung 13 radial zur Zylinderlängsachse 5 justieren. Danach werden die Schrauben 16 und 17 wieder festgezogen.

[0034] Die Halterung 13 weist an ihren beiden freien Enden jeweils eine Lagereinrichtung 19 und 20 auf, die in Richtung zur Innenwand des Siebdruckzylinders 1 weisen. Zwischen den Lagereinrichtungen 19 und 20 ist eine Walze 21 über ihre Stirnseiten frei drehbar gelagert. Die Walze 21 weist einen über ihre Länge konstanten Durchmesser auf und erstreckt sich in Längsrichtung gesehen ebenfalls praktisch über die gesamte Länge der Halterung 13, sieht man von dem für die Lagereinrichtungen 19 und 20 benötigten Raum ab. Dabei liegt die Walze 21 bzw. deren Längsachse 22 parallel zur Zylinderlängsachse 5 . Fehlpositionierungen können mit Hilfe des oben beschriebenen Justiermechanismus aus den Langlöchern 14 und 15 und den Schrauben 16 und 17 ausgeglichen werden. Der Durchmesser der Walze 21 ist so gewählt, daß sie die Lagereinrichtungen 19 und 20 in Richtung zur Innenseite der Gaze 4 ein wenig überragt. Durch die Walze 21 wird somit erreicht, daß die Gaze 4 im Bereich der Walze 21 parallel zur Zylinderlängsachse 5 gehalten wird. Dabei kann die Walze 21 so weit radial nach außen gedrückt sein, daß die Gaze 4 auch die Endringe 2 und 3 ein wenig in Radialrichtung überragt. Wichtig ist, daß die Gaze 4 mit ihrer zu bemusternden Oberfläche praktisch über die gesamte Länge der Walze 21 und damit praktisch über die gesamte Länge des Siebdruckzylinders 1 parallel zur Welle 6 bzw. Zylinderlängsachse 5 zu liegen kommt.

[0035] Der Walze 21 gegenüberliegend ist eine Bearbeitungsstation 23 angeordnet. Diese Bearbeitungsstation 23 ist in Längsrichtung der Zylinderlängsachse 5 verschiebbar gelagert und kann somit parallel zum Siebdruckzylinder 1 in demjenigen Bereich verschoben werden, in welchem die Gaze 4 die Walze 21 tangential beaufschlagt. Über die gesamte Länge der Walze 21 wird somit ein gleicher Abstand zwischen der Gaze 4 und der Bearbeitungsstation 23 sichergestellt. Die Konstanthaltung dieses Abstands über die Länge des Siebdruckzylinders ist wichtig, um im späteren Druckprozeß unter Verwendung des Siebdruckzylinders 1 einwandfreie Muster erzeugen zu können.

[0036] Die Bearbeitungsstation 23 ist auf einem Schlitten 24 montiert, der entlang von Führungsbahnen 25 verschiebbar ist, welche an einem Maschinenbett 26 der Vorrichtung montiert sind. Die Führungsbahnen 25 verlaufen dabei parallel zur Zylinderlängsachse 5. Führungsbahnen 25 und Maschinenbett 26 sind am besten in Figur 2 zu erkennen.

[0037] Bei der Bearbeitungsstation 23 kann es sich um irgendeine geeignete Station handeln, mit der sich die Gaze 4 bemustern läßt. Beispielsweise kann die Bearbeitungsstation 23 ein Spritzkopf sein, mit dem sich ein flüssiges Medium oder ein viskoses Medium auf die Gaze 4 aufspritzen läßt, um deren Durchgangsöffnungen mustergemäß zu verschließen. Bei dem flüssigen Medium kann es sich um aushärtbare Tinte, Wachs oder gar um eine flüssige Metall-Legierung handeln. Entsprechend ist die Bearbeitungsstation 23 ausgestaltet. Die Bearbeitungsstation 23 kann aber auch eine optische Station sein, etwa eine solche zur Aussendung eines Laserstrahls, mit dem sich eine auf der Gaze 4 befindliche lichtempfindliche Schicht belichten läßt, die anschließend entwickelt wird, um die lichtempfindliche Schicht mustergemäß zu öffnen. Es könnte aber auch ein Laserstrahl ausgesandt werden, um direkt mit ihm eine auf der Gaze 4 befindliche Verschlußschicht musterbedingt abzutragen, also wegzubrennen. Nicht zuletzt könnte die Bearbeitungsstation 23 aber auch mehrere in Längsrichtung der Zylinderlängsachse 5 hintereinanderliegende Bearbeitungsbereiche aufweisen. Ein erster Bearbeitungsbereich könnte zum Beispiel eine auf der Gaze 4 liegende lichtempfindliche Schicht mit einem flüssigen und lichtundurchlässigen Medium bemustern, während ein zweiter Bearbeitungsbereich der Bearbeitungsstation 23 die so bemusterte lichtempfindliche Schicht belichtet. Weitere Ausführungsbeispiele wären denkbar. Wichtig ist nur, daß die Bearbeitungbzw. Bemusterung der Gaze immer im Bereich der tangentialen Berührung zwischen Gaze 4 und Walze 21 in Längsrichtung der Walze 21 und unter gleichem Abstand von Bearbeitungsstation 23 zur Walze 21 erfolgt. Nur auf diese Weise ist eine gute Reproduktion des Musters beim späteren Druckprozeß sichergestellt.

[0038] Die Figur 2 zeigt die erfindungsgemäße Vorrichtung von der Seite gesehen und teilweise im Schnitt. Gleiche Elemente wie in Figur sind mit den gleichen Bezugszeichen versehen und werden nicht nochmals beschrieben. Man erkennt, daß die Gaze 4 nur dort bemustert wird, wo sie die Walze 21 tangential berührt. In diesem Bereich ist eine einwandfreie Bemusterung gewährleistet, da nur dort die Gaze 4 immer einen konstanten Abstand zur Bearbeitungsstation 23 aufweist. Die Bemusterung der Gaze 4 erfolgt so, daß sich bei drehendem Siebdruckzylinder 1 die Bearbeitungsstation 23 in Längsrichtung der Walze 21 verschiebt.

[0039] Die Figur 3 zeigt einen Axialschnitt durch den Siebdruckzylinder 1 im Bereich der Welle 6.

[0040] Die Wellenabschnitte 6a und 6b tragen über die Maschinenendringe 7 und 8 den Siebdruckzylinder 1, wie bereits erwähnt. Dabei umgreifen die Klemmringe 10 und 11 bzw. deren jeweilige Halbschalen radial nach außen stehende Ansätze 3a, 7a bzw. 2a, 8a von Endring 3 und Maschinenendring 7 bzw. Endring 2 und Maschinenendring 8, so daß auf diese Weise der Siebdruckzylinder 1 auf der Welle 6 gehalten wird. Die Halbschalen der Klemmringe 10 und 11 können abgeschwenkt werden, um den Siebdruckzylinder 1 freizugeben. Er kann dann nach Abnahme des Maschinenendrings 8 vom Wellenabschnitt 6a von der gesamten Welle 6 abgezogen werden.

[0041] Die Welle 6 ist rechtsseitig in Figur 3 auf einem Lagerbock 27 gelagert, der auf dem Maschinenbett 26 fest montiert ist. Das Maschinenbett 26 ist in Figur 3 nur schematisch angedeutet. Ein mit der Welle 6 fest verbundener Achsansatz 28 dient zum Antrieb der Welle 6 und ist mit einer nicht dargestellten Riemenscheibe fest verbunden, die über einen Riemen angetrieben wird.

[0042] Innerhalb des Wellenabschnitts 6b befindet sich eine außerhalb der Zylinderlängsachse 5 gelagerte Antriebsstange 29. Diese Antriebsstange 29 weist an ihren beiden gegenüberliegenden Enden jeweils ein fest mit ihr verbundenes Zahnrad 30 bzw. 31 auf. Bei Drehung der Welle 6 wird somit die Antriebsstange 29 im Abstand um die Zylinderlängsachse 5 herumbewegt. Bei dieser Bewegung kämmen die Zahnräder 30, 31 jeweils mit der Innenverzahnung eines Zahnkranzringes 32, 33. Der Zahnkranzring 32 ist fest im Getriebegehäuse 12 angeordnet, während der Zahnkranzring 33 fest im Lagerbock 27 angeordnet ist. Wird also die Welle 6 über den Achsansatz 28 gedreht, so dreht sich einerseits die Antriebsstange 29 um die Zylinderlängsachse 5 im Abstand herum, während andererseits die Antriebsstange 29 eine zusätzliche Eigenrotation ausführt, weil das Zahnrad 31 mit der Innenverzahnung des Zahnkranzes 33 kämmt. Letzteres ist fest angeordnet. Da hierbei auch das Zahnrad 30 entsprechend mitgenommen wird und mit der Innenverzahnung des Zahnkranzes 32 kämmt, bleibt das mit dem Zahnkranz 32 fest verbundene Getriebegehäuse 12 raumfest, und damit die mit dem Getriebegehäuse 12 verbundene Halterung 13 sowie die mit der Halterung 13 verbundene Walze 21, die sich lediglich um ihre Längsachse 22 frei drehen kann.

[0043] Drehen sich also Welle 6 und Siebdruckzylinder 1 um die Zylinderlängsachse 5, so bleibt die Walze 21 raumstabil, behält also hinsichtlich ihrer Längsachse 22 eine vorbestimmte Winkellage bei. Die Walze 21 kommt also bei Drehung des Siebdruckzylinders 1 um die Zylinderlängsachse 5 immer gegenüber der Bearbeitungsstation 23 zu liegen.

Ansprüche

1. Verfahren zur Herstellung eines Siebdruckzylinders (1) mit folgenden Schritten:

a) ein Mantel (4) des Siebdruckzylinders (1) wird nur durch eine von zwei Endringen (2, 3) gehaltene flexible Gaze gebildet, die für Flüssigkeiten bzw. pastöse Massen durchlässig ist;

b) die Endringe (2, 3) sitzen koaxial auf einer drehbar gelagerten Welle (6), von der sie bei Drehung mitgenommen werden;

c) durch Verschieben der Endringe (2, 3) voneinander weg wird der Mantel (4) gespannt;

d) eine auf einer Seite der Welle (6) sitzende und sich wenigstens annähernd über die gesamte Länge des Siebdruckzylinders (1) erstreckende Anlage (21) drückt den Mantel (4) von innen in eine parallel zur Welle (6) liegende Position;

e) bei Drehung der Welle (6) wird die Anlage (21) raumstabil gehalten; und

f) eine Bemusterung des Siebdruckzylinders ( 1 ) von außen erfolgt bei dessen Drehung nur im Bereich dieser Anlage (21) mittels einer Bearbeitungsstation (23), die parallel zur Welle (6) verschoben wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Anlage (21 ) eine Walze verwendet wird, deren Längsachse (22) parallel zur Welle (6) liegt.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß zur Bemusterung des Mantels (4) auf diesen direkt eine Abdeckflüssigkeit mustergemäß aufgebracht wird.

4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß zur Bemusterung des Mantels (4) eine auf ihm liegende lichtempfindliche Schicht mustergemäß belichtet und entwickelt wird.

5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht vor ihrer Belichtung mit einer lichtundurchlässigen Abdeckflüssigkeit bemustert wird.

6. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß zur Bemusterung des Mantels (4) eine auf ihm liegende Schicht durch mustergemäße Bestrahlung abgetragen wird.

7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine aus Nylon, Polyester oder sonstigem Kunststoff bestehende Gaze (4) verwendet wird.

8. Vorrichtung zur Herstellung eines Siebdruckzylinders (1), mit:

a) auf einer drehbaren Welle (6) angeordneten Maschinenendringen (7, 8) zum stirnseitigen Hatten des Siebdruckzylinders (1) koaxial zur Welle (6);

b) einer Spanneinrichtung (8, 9) zum Spannen des Siebdruckzylinders (1) in Längsrichtung der Welle (6);

c) einer innen und nur an einer Seite der Welle (6) liegenden und sich wenigstens annähernd über die gesamte Länge des Siebdruckzylinders (1) erstreckenden Anlage (21), die den Mantel (4) des Siebdruckzylinders (1) in eine parallel zur Welle (6) liegende Position drückt, wobei

d) die Anlage (21) über ein Getriebe (29, 30, 32) auf der Welle (6) sitzt, das sie bei Drehung der Welle (6) raumstabil hält; und

e) einer Bearbeitungsstation (23) zur Bemusterung des Siebdruckzylinders (1) von außen, die der Anlage (21) gegenüberliegend positioniert und parallel zur Welle (6) verschiebbar ist.

9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Anlage (21) eine um ihre Längsachse drehbare Walze ist.

10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 8, 9 dadurch gekennzeichnet, daß die Bearbeitungsstation (23) einen Spritzkopf zum Ausspritzen von Flüssigkeiten oder viskosen Medien aufweist.

11. Vorrichtung nach einem der Amsprüche 8, 9 dadurch gekennzeichnet, daß die Bearbeitungsstation (23) einen Belichtungskopf oder Bestrahlungskopf aufweist.

Claims

1. Method of producing a screen-printing cylinder (1), having the following steps:

a) a cover (4) of the screen-printing cylinder (1) is formed only by a flexible mesh which is held by two end rings (2, 3) and is permeable to liquids or pasty compounds;

b) the end rings (2, 3) are situated coaxially on a shaft (6) which is mounted such that it can rotate and by which they are carried along during rotation;

c) the cover (4) is tensioned by the end rings (2, 3) being displaced away from each other;

d) a support (21) which is situated on one side of the shaft (6) and extends at least approximately over the entire length of the screen-printing cylinder (1) presses the cover (4) from the inside into a position lying parallel to the shaft (6);

e) during rotation of the shaft (6), the support (21) is held in a physically stable manner; and

f) the screen-printing cylinder (1) is patterned from the outside during its rotation only in the region of this support (21) by means of a processing station (23) which is displaced parallel to the shaft (6).

2. Method according to Claim 1, characterized in that the support (21) used is a roll, whose longitudinal axis (22) is parallel to the shaft (6) .

3. Method according to Claim 1 or 2, characterized in that in order to pattern the cover (4), a covering liquid is applied directly to the latter in accordance with a pattern.

4. Method according to Claim 1 or 2, characterized in that in order to pattern the cover (4), a light-sensitive layer situated on it is exposed in accordance with a pattern, and developed.

5. Method according to Claim 4, characterized in that before being exposed, the light-sensitive layer is patterned using an opaque covering liquid.

6. Method according to Claim 1 or 2, characterized in that in order to pattern the cover (4) a layer situated on it is removed by irradiation in accordance with a pattern.

7. Method according to Claim 1, characterized in that a mesh (4) consisting of nylon, polyester or another polymer is used.

8. Apparatus for producing a screen-printing cylinder (1), comprising:

a) machine end rings (7, 8) arranged on a rotatable shaft (6) to hold the screen-printing cylinder (1) at the ends, coaxially with respect to the shaft (6);

b) a tensioning device (8, 9) for tensioning the screen-printing cylinder (1) in the longitudinal direction of the shaft (6);

c) a support (21) which is situated inside and on only one side of the shaft (6) and extends at least approximately over the entire length of the screen-printing cylinder (1), which presses the cover (4) of the screen-printing cylinder (1) into a position lying parallel to the shaft (6),

d) the support (21) being seated on the shaft (6) via a mechanism (29, 30, 32) which holds it in a physically stable manner during rotation of the shaft (6); and

e) a processing station (23) for patterning the screen-printing cylinder (1) from the outside, which is positioned opposite the support (21) and can be displaced parallel to the shaft (6).

9. Apparatus according to Claim 8, characterized in that the support (21) is a roll that can rotate about its longitudinal axis.

10. Apparatus according to one of Claims 8, 9, characterized in that the processing station (23) has a spray head for spraying out liquids or viscous media.

11. Apparatus according to one of Claims 8, 9, characterized in that the processing station (23) has an exposure head or irradiation head.

Revendications

1. Procédé pour la réalisation d'un pochoir cylindrique (1) conformément aux stades suivants :

a) une enveloppe (4) du pochoir cylindrique (1) est formée par :

deux gazes souples perméables aux liquides et/ou aux produits pâteux ; fixées uniquement par une parmi deux brides (2, 3) ;

b) les brides d'extrémité (2, 3) sont montées d'une façon coaxiale sur un arbre rotatif (6) qui les entraîne dans sa rotation ;

c) ces brides d'extrémité (2, 3), par leur glissement en direction opposée l'une de l'autre, provoquent la mise en tension de l'enveloppe (4) ;

d) une pièce complémentaire (21) reposant sur un côté de l'arbre (6) et s'étendant au moins approximativement sur toute la longueur du pochoir cylindrique (1), pousse l'enveloppe (4) par l'intérieur à une position parallèle à l'arbre (6) ;

e) la rotation de l'arbre (6) assure à la pièce complémentaire (21), une positon stable; et

f) un motif est appliqué au pochoir cylindrique (1) de l'extérieur, avec la rotation de ce dernier dans la zone de cette pièce complémentaire (21) seulement, au moyen d'un poste de traitement (23), se déplaçant parallèlement à l'arbre (6),.

2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que, comme pièce complémentaire adjointe (21), est prévu un cylindre dont l'axe longitudinal (22) est parallèle à l'arbre (6).

3. Procédé selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que, pour la formation du motif sur l'enveloppe (4), on apporte, directement sur celle-ci, un liquide de recouvrement conformément au motif.

4. Procédé selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que, pour la formation du motif sur l'enveloppe (4), on procède à l'insolation et au développement d'une couche photosensible située sur l'enveloppe.

5. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce qu'on applique à la couche photosensible, avant un motif au moyen d'un liquide de recouvrement imperméable à la lumière.

6. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que pour la formation du motif sur l'enveloppe (4), on élimine une couche, située sur cette dernière par insolation en correspondance au motif.

7. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'on utilise une gaze (4) en nylon, en polyester ou en autre matière plastique.

8. Appareil pour la réalisation d'un pochoir cylindrique (1) avec :

a) des brides de serrage (7, 8) montées sur un arbre rotatif (8) pour maintenir sur ses faces frontales, le pochoir cylindrique (1) en position coaxiale par rapport à l'arbre (6) ;

b) un dispositif de serrage (8, 9) pour serrer le pochoir cylindrique (1) dans la direction longitudinale de l'arbre (6).

c) une pièce complémentaire (21) montée à l'intérieur et d'un seul côté de l'arbre (6) et s'étendant, au moins approximativement sur toute la longueur du pochoir cylindrique (1), qui pousse l'enveloppe (4) du pochoir cylindrique (1) dans une position parallèle à l'arbre (6), dans lequel :

d) la pièce complémentaire (21) est montée par l'intermédiaire d'un engrenage (29, 30, 32) sur l'arbre (6) qui la maintient stable pendant la rotation de l'arbre (6), et

e) un poste de traitement (23) pour la formation du motif sur le pochoir cylindrique (1) par l'extérieur, mettant la pièce complémentaire (21) en position opposée, et pouvant se déplacer en coulissant parallèlement à l'arbre (6).

9. Appareil selon la revendication 8, caractérisé en ce que la pièce complémentaire (21) est un cylindre mobile autour de son axe longitudinal.

10. Appareil selon la revendication 8 ou 9, caractérisé en ce que le poste de traitement (23) comporte une tête d'injection pour injecter des liquides ou des produits visqueux.

11. Appareil selon la revendication 8 ou 9, caractérisé en ce que le poste de traitement (23) comporte une tête d'éclairage ou une tête d'insolation.

Zeichnung